[發明專利]改進降解性能的納米CeO2基光催化劑的制備無效
| 申請號： | 201010141255.1 | 申請日： | 2010-04-08 |
| 公開（公告）號： | CN101797504A | 公開（公告）日： | 2010-08-11 |
| 發明（設計）人： | 張其春;王學彩;段有鵬;葉巧明;李綱 | 申請（專利權）人： | 成都理工大學 |
| 主分類號： | B01J23/66 | 分類號： | B01J23/66 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 610059 *** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 改進 降解 性能 納米 ceo sub 光催化劑 制備 | ||
【權利要求書】：
1.一種改進降解性能的納米Ag/Al2O3-CeO2光催化劑的制備方法，主要包括溶膠聚沉以 獲得基礎粉體、向基礎粉體表面覆銀和煅燒步驟，其特征在于所述的溶膠聚沉步驟使用由勃 姆石、方鈰石納米晶構成雙組分分散相的鋁鈰溶膠為料液；
所述的通過溶膠聚沉所獲得的基礎粉體為納米鋁鈰粉體，它由氧化鋁和二氧化鈰構成；
所述的煅燒步驟的溫度為350～750℃。
2.根據權利要求1所述的改進降解性能的納米Ag/Al2O3-CeO2光催化劑的制備方法，其 特征在于所述的由溶膠聚沉所獲得的納米鋁鈰粉體能夠在紫外光照射下有效地使有機染料脫 色。
3.根據權利要求1所述的改進降解性能的納米Ag/Al2O3-CeO2光催化劑的制備方法，其 特征在于所述的納米Ag/Al2O3-CeO2光催化劑在紫外光及可見光照射下均能有效地降解有機 污染物。
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