[發明專利]具有集成式光學結構的空間光調制器無效
| 申請號: | 201010140527.6 | 申請日: | 2005-02-02 |
| 公開(公告)號: | CN101799582A | 公開(公告)日: | 2010-08-11 |
| 發明(設計)人: | 克拉倫斯·徐;杰弗里·B·桑普塞爾;威廉·J·卡明斯;唐明華 | 申請(專利權)人: | 高通MEMS科技公司 |
| 主分類號: | G02B26/00 | 分類號: | G02B26/00;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產曟?代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 沈錦華 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 集成 光學 結構 空間 調制器 | ||
分案申請的相關信息
本申請為發明名稱為“快閃存儲器數據校正及擦除技術”的原中國發明專利申請的分案申請。原申請的申請號為200580003812.0;原申請的申請日為2005年2月2日。
相關申請案交叉參考
本申請案為一在2005年1月14日提出申請的第11/036,965號美國專利申請案的接續申請案,第11/036,965號美國專利申請案主張基于下列美國臨時專利申請案的優先權:2004年2月3日提出申請的第60/541,607號美國臨時專利申請案;2004年9月27日提出申請的第60/613,482號美國臨時專利申請案;2004年9月27日提出申請的第60/613,536號美國臨時專利申請案;及2004年9月27日提出申請的第60/613,542號美國臨時專利申請案。
技術領域
本發明涉及對例如干涉式調制器等空間光調制器的制造及性能的改良。
背景技術
空間光調制器為顯示裝置,其包含由可單獨尋址的光調制元件形成的陣列。空間光調制器的實例包括液晶顯示器及干涉式調制器陣列。此種裝置中的光調制元件通常通過改變經由各單獨元件所反射或透射的光的特性,從而改變顯示外觀來起作用。
發明內容
隨著空間光調制器變得越來越先進,本發明的發明者預計與通過當前制造工藝流程制作空間光調制器相關的困難也會隨之增大。因此,本發明的發明者已開發出具有集成式光學補償結構的空間光調制器及其制作方法。
一實施例提供一種空間光調制器,其包括:一襯底;復數個布置于所述襯底上并經構造以調制光的可單獨尋址的光調制元件;及一光學補償結構;其中所述光學補償結構布置于所述襯底與所述復數個可單獨尋址的光調制元件之間。在某些實施例中,所述光學補償結構為一無源式光學補償結構。
一實施例提供一種空間光調制器,其包括:一襯底;復數個布置于所述襯底上并經構造以調制光的可單獨尋址的光調制元件;及一光學補償結構;其中所述復數個可單獨尋址的光調制元件布置于所述襯底與所述光學補償結構之間。所述光學補償結構包括一濾色鏡、黑色掩膜、及抗反射層中的至少一者。
另一實施例提供一種制作一空間光調制器的方法,所述方法包括:在一透明襯底上制作一光學補償結構;并在所述光學補償結構上制作復數個可單獨尋址的光調制元件,所述可單獨尋址的光調制元件經構造以調制經由所述透明襯底透射的光。在某些實施例中,制作所述光學補償結構包括制作一無源式光學補償結構。
另一實施例提供一種用以制作一空間光調制器的方法,所述方法包括:在一襯底上制作復數個可單獨尋址的光調制元件;并在所述復數個可單獨尋址的光調制元件上制作一光學補償結構,所述可單獨尋址的光調制元件經構造以調制經由所述光學補償結構透射的光。所述光學補償結構包括一濾色鏡、掩膜、及抗反射層中的至少一者。
另一實施例提供一種空間光調制器,其包括:一透明襯底;復數個布置于所述透明襯底上并經構造以調制經由所述透明襯底透射的光的可單獨尋址的干涉式光調制元件,所述干涉式光調制元件包括一空腔及一可移動壁;及至少一布置于所述透明襯底與所述復數個可單獨尋址的干涉式光調制元件之間的光學補償結構,所述光學補償結構包括一濾色鏡或漫射體。
另一實施例提供一種空間光調制器,其包括:一襯底;一用于調制透射過所述襯底或自所述襯底反射的光的構件;一用于補償透射過所述襯底或自所述襯底反射的所述光的構件;其中所述用于補償所述光的構件以操作方式布置于所述襯底與所述用于調制透射過所述襯底或自所述襯底反射的光的構件之間。在某些實施例中,所述用于補償透射過所述襯底或自所述襯底反射的所述光的構件為一用于以無源方式補償透射過所述襯底或自所述襯底反射的所述光的構件。
另一實施例提供一種空間光調制器,其包括:一襯底;一用于調制透射過所述襯底或自所述襯底反射的光的構件;及一用于補償透射過所述襯底或自所述襯底反射的所述光的構件;其中所述用于調制透射過所述襯底或自所述襯底反射的光的構件以操作方式布置于所述襯底與所述用于補償所述光的構件之間。所述用于補償透射過所述襯底或自所述襯底反射的所述光的構件包括一濾色鏡、黑色掩膜、及抗反射層中的至少一者。
另一實施例提供一種根據一種方法制成的空間光調制器,所述方法包括:在一透明襯底上制作一光學補償結構;并在所述光學補償結構上制作復數個可單獨尋址的光調制元件,所述可單獨尋址的光調制元件經構造以調制透射過所述透明襯底的光。
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