[發(fā)明專利]具有集成式光學結(jié)構(gòu)的空間光調(diào)制器

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010140527.6
• 申請日: 2005-02-02
• 公開（公告）號: CN101799582A
• 公開（公告）日: 2010-08-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 克拉倫斯·徐;杰弗里·B·桑普塞爾;威廉·J·卡明斯;唐明華
• 申請（專利權(quán)）人: 高通MEMS科技公司
• 主分類號: G02B26/00
• 分類號: G02B26/00;G02F1/1335
• 代理公司: 北京律盟知識產(chǎn)曟?代理有限責任公司 11287
• 代理人: 沈錦華

1.一種顯示裝置，其包括：

襯底；

經(jīng)構(gòu)造以形成圖像的顯示像素陣列，每個顯示像素包括至少一個可單獨尋址的光調(diào)制元件，其布置于所述襯底上方并經(jīng)構(gòu)造以對透射過所述襯底的光進行干涉式調(diào)制，所述可單獨尋址的光調(diào)制元件包括干涉調(diào)制器；及

光學補償結(jié)構(gòu)，

其中，所述顯示像素陣列布置于所述襯底和所述光學補償結(jié)構(gòu)之間，且

其中，所述光的一部分透射過所述襯底和單個光調(diào)制元件到達所述光學補償結(jié)構(gòu)。

2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述干涉式調(diào)制器包括可移動元件和空腔。

3.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述光學補償結(jié)構(gòu)包括黑色掩膜。

4.如權(quán)利要求1或3所述的顯示裝置，其中所述光學補償結(jié)構(gòu)包括濾色鏡。

5.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述光學補償結(jié)構(gòu)包括漫射體。

6.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述光學補償結(jié)構(gòu)包括抗反射層。

7.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述光學補償結(jié)構(gòu)包括復數(shù)個散射元件。

8.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述光學補償結(jié)構(gòu)包括微透鏡陣列。

9.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述光學補償結(jié)構(gòu)包括衍射式光學元件。

10.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述光學補償結(jié)構(gòu)包括平坦化層，所述平坦化層包括散射元件。

11.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述光學補償結(jié)構(gòu)包括全息膜，所述全息膜用于減輕對于透射過所述襯底的所述光的入射角的所反射色彩的色移。

12.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述光學補償結(jié)構(gòu)包括黑色掩膜和濾色鏡。

13.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述光學補償結(jié)構(gòu)包括黑色掩膜和漫射體。

14.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述光學補償結(jié)構(gòu)包括濾色鏡和漫射體。

15.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其進一步包括平坦化層。

16.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述襯底為至少局部透明的。

17.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述襯底為局部反射性的。

18.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述光學補償結(jié)構(gòu)式為無源式光學補償結(jié)構(gòu)。

19.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述襯底為至少局部透明且局部反射性的。

20.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述光調(diào)制元件是反射性的。

21.一種用于制造顯示裝置的方法，其包括：

制作經(jīng)構(gòu)造以形成圖像的顯示像素陣列，每個顯示像素包括在襯底上方的至少一個可單獨尋址的光調(diào)制元件，所述可單獨尋址的光調(diào)制元件包括干涉調(diào)制器；及

在所述顯示像素陣列上制作光學補償結(jié)構(gòu)，其中，所述光的一部分透射過所述襯底和單個光調(diào)制元件到達所述光學補償結(jié)構(gòu)。

22.如權(quán)利要求21所述的方法，其中制作所述可單獨尋址的光調(diào)制元件包括：

制作空腔和可移動元件。

23.如權(quán)利要求21所述的方法，其進一步包括：

在所述顯示像素陣列上制作平坦化層。

24.一種通過如權(quán)利要求21所述的方法制作的空間光調(diào)制器，其中所述襯底包括塑料或玻璃。

25.一種顯示裝置，其包括：

襯底；

經(jīng)構(gòu)造以形成圖像的顯示像素陣列，每個顯示像素包括用于對透射過所述襯底或從所述襯底反射的光進行干涉式調(diào)制的裝置；及

用于對透射過所述襯底或從所述襯底反射的光進行補償?shù)难b置，

其中，所述用于對透射過所述襯底或從所述襯底反射的光進行干涉式調(diào)制的裝置可操作地布置于所述襯底和所述用于對所述光進行補償?shù)难b置之間，

其中，所述用于對透射過所述襯底或從所述襯底反射的光進行補償?shù)难b置包括至少一個干涉調(diào)制器，且

其中，所述光的一部分透射過所述襯底和單個干涉調(diào)制器到達所述補償裝置。