[發(fā)明專利]掩膜存儲(chǔ)清洗系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010139315.6 | 申請(qǐng)日: | 2010-03-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101825841A | 公開(公告)日: | 2010-09-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊明生;郭業(yè)祥;劉惠森;范繼良;王勇;王曼媛;張華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F1/00 | 分類號(hào): | G03F1/00 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 張艷美;郝傳鑫 |
| 地址: | 523000 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 存儲(chǔ) 清洗 系統(tǒng) | ||
1.一種掩膜存儲(chǔ)清洗系統(tǒng),適用于對(duì)半導(dǎo)體生產(chǎn)線上的掩膜進(jìn)行存儲(chǔ)并清 洗,其特征在于,所述掩膜存儲(chǔ)清洗系統(tǒng)包括:
腔體,所述腔體呈中空結(jié)構(gòu),所述中空結(jié)構(gòu)形成密封的工作腔,所述腔體 的前端開設(shè)有第一通口,所述腔體的后端開設(shè)有第二通口,且所述腔體還設(shè)置 有對(duì)第一通口密封的第一閘門、對(duì)第二通口密封的第二閘閥;
輸送裝置,所述輸送裝置包括輸送件、傳送件及輸送驅(qū)動(dòng)器,所述輸送件 沿水平方向設(shè)置于所述工作腔內(nèi)并與所述輸送驅(qū)動(dòng)器連接,所述輸送件的后端 與所述腔體的第二通口對(duì)接,所述傳送件的后端與所述輸送件的前端對(duì)接;
裝載盒,所述裝載盒包括呈中空結(jié)構(gòu)的裝載框體,所述裝載框體內(nèi)相對(duì)的 兩側(cè)壁上分別設(shè)置有至少兩個(gè)支撐組,所述支撐組呈等間距的平行分布,所述 支撐組由沿同一水平面設(shè)置的若干支撐件組成,相鄰的支撐組之間形成呈水平 的存儲(chǔ)槽,每個(gè)掩膜插放于一個(gè)存儲(chǔ)槽內(nèi),所述裝載框體的后端開設(shè)有傳輸口, 所述傳送件沿水平方向收容于所述裝載盒的裝載框體內(nèi)并與所述輸送驅(qū)動(dòng)器連 接;
升降裝置,所述升降裝置包括升降驅(qū)動(dòng)器及升降承載架,所述升降驅(qū)動(dòng)器 安裝于所述腔體外,所述升降驅(qū)動(dòng)器的輸出軸呈密封地穿入所述工作腔內(nèi)并與 所述升降承載架連接,所述裝載盒承載于所述升降承載架上,所述升降驅(qū)動(dòng)器 驅(qū)動(dòng)所述裝載盒在所述工作腔內(nèi)做豎直方向的往返運(yùn)動(dòng),所述裝載盒的往返運(yùn) 動(dòng)使所述傳輸口在所述腔體內(nèi)形成傳輸對(duì)接區(qū),所述輸送件的前端與所述傳輸 對(duì)接區(qū)對(duì)接,所述裝載盒的前端朝向所述第一通口;
控制裝置,所述控制裝置包括控制處理器及第一傳感器,所述第一傳感器 安裝于所述腔體上且正對(duì)所述輸送件的前端,所述第一傳感器與所述控制處理 器電連接,所述控制處理器與所述升降驅(qū)動(dòng)器電連接,所述第一傳感器檢測到 所述輸送件的前端具有掩膜并發(fā)送信號(hào)給所述控制處理器,所述控制處理器控 制所述升降驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述裝載盒的存儲(chǔ)槽逐一與所述輸送件的前端對(duì)接;
抽真空裝置,所述抽真空裝置與所述腔體連接并為所述工作腔提供真空環(huán) 境;以及
離子清洗器,所述離子清洗器安裝于與裝載盒對(duì)應(yīng)的所述腔體上并與所述 工作腔連通,所述離子清洗器對(duì)工作腔內(nèi)的裝載盒的掩膜進(jìn)行清洗。
2.如權(quán)利要求1所述的掩膜存儲(chǔ)清洗系統(tǒng),其特征在于:所述傳送件的前 端與所述第一通口對(duì)接,所述控制裝置控制所述升降驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)所述裝載盒沿 垂直于所述傳送件方向做往返的運(yùn)動(dòng)。
3.如權(quán)利要求2所述的掩膜存儲(chǔ)清洗系統(tǒng),其特征在于:所述控制裝置還 包括與控制處理器電連接的第二傳感器、第三傳感器及止動(dòng)驅(qū)動(dòng)器,所述第二 傳感器設(shè)置于所述腔體上并與所述傳送件的后端正對(duì),所述第三傳感器設(shè)置于 所述腔體上并與所述傳送件的前端正對(duì),所述止動(dòng)驅(qū)動(dòng)器安裝于所述腔體外, 且所述止動(dòng)驅(qū)動(dòng)器的止動(dòng)軸呈密封地伸入所述工作腔內(nèi)并與傳送件和輸送件的 對(duì)接處正對(duì),所述止動(dòng)驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)止動(dòng)軸阻擋或釋放于傳送件和輸送件之間輸 送的掩膜。
4.如權(quán)利要求2或3所述的掩膜存儲(chǔ)清洗系統(tǒng),其特征在于:所述傳送件 包括傳送輪、安裝軸及安裝支架,所述安裝支架與所述腔體連接,所述安裝軸 與所述安裝支架樞接,所述傳送輪安裝在所述安裝軸上,所述裝載框體的支撐 組沿豎直方向開設(shè)有供所述裝載盒沿所述傳送輪做豎直方向往返運(yùn)動(dòng)的導(dǎo)向 槽。
5.如權(quán)利要求1所述的掩膜存儲(chǔ)清洗系統(tǒng),其特征在于:所述第一閘門的 對(duì)所述第一通口進(jìn)行密封的表面由內(nèi)至外開設(shè)有呈平行排列的第一凹槽及第二 凹槽,所述第一凹槽和第二凹槽上均設(shè)有密封件。
6.如權(quán)利要求5所述的掩膜存儲(chǔ)清洗存儲(chǔ)系統(tǒng),其特征在于:所述密封件 包括橡膠圈及屏蔽金屬圈,所述橡膠圈容置于第一凹槽內(nèi),所述屏蔽金屬圈容 置于第二凹槽內(nèi)。
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- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備
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