[發明專利]MgAlON透明陶瓷的無壓燒結制備方法有效
| 申請號: | 201010137522.8 | 申請日: | 2010-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN101817683A | 公開(公告)日: | 2010-09-01 |
| 發明(設計)人: | 王皓;商青琳;王為民;傅正義;王玉成;張清杰 | 申請(專利權)人: | 武漢理工大學 |
| 主分類號: | C04B35/58 | 分類號: | C04B35/58;C04B35/622 |
| 代理公司: | 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102 | 代理人: | 唐萬榮 |
| 地址: | 430070 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | mgalon 透明 陶瓷 燒結 制備 方法 | ||
1.MgAlON透明陶瓷的無壓燒結制備方法,其特征在于它包括如下步驟:
1)MgAlON透明陶瓷粉末的制備:
①按α-氧化鋁粉末、氮化鋁粉末和氧化鎂粉末所占質量百分比為:α-氧化鋁粉末 76.45wt%~88.77wt%、氮化鋁粉末3.79wt%~18.53wt%、氧化鎂粉末4wt%~10wt%,將α-氧 化鋁粉末、氮化鋁粉末和氧化鎂粉末混合,得到混合粉料A;按混合粉料A與無水乙醇的配 比為100g∶200mL~100g∶300mL,將混合粉料A分散于無水乙醇中,并球磨不少于24小時, 得到漿料A;
所述的α-氧化鋁粉末的純度大于99.5wt%,平均粒徑小于或等于1μm,所含金屬雜質 的濃度低于500ppm;
②將漿料A干燥,得到混合物A;
③將干燥后的混合物A置于坩堝中,坩堝置于石墨反應器中,石墨反應器置于大電流反 應合成裝置中,大電流反應合成裝置內充有氮氣或含氮混合氣體,所充氣體壓力不大于 0.05MPa;對石墨反應器直接施加大電流,以100℃~400℃的升溫速度加熱到1400℃~ 1700℃,保溫時間為0~20min,自然冷卻后,得到MgAlON透明陶瓷粉末;
2)按MgAlON透明陶瓷粉末、氟化物所占質量百分比為:MgAlON透明陶瓷粉末95~ 99.9wt%、氟化物0.1~5wt%,將MgAlON透明陶瓷粉末和氟化物混合,得到混合粉末B;按混 合粉末B與無水乙醇的配比為100g∶(50~100)mL,將混合粉末B分散于無水乙醇中并球磨, 得到漿料B;
3)將漿料B干燥,得到混合物B;
4)將混合物B在常溫下采用軸向模壓壓制成型、再經冷等靜壓壓制后,獲得陶瓷素坯;
5)將陶瓷素坯置于坩堝內,坩堝置于無壓燒結爐中,以流動氮氣保護、1~20℃/min的 升溫速率加熱到1750~1950℃,保溫5~30h,自然冷卻后得到MgAlON燒結體;燒結體經過 研磨、拋光后,得到MgAlON透明陶瓷。
2.根據權利要求1所述的MgAlON透明陶瓷的無壓燒結制備方法,其特征在于:所述的氮 化鋁粉末的純度大于98wt%,平均粒徑小于或等于200nm,所含金屬雜質的濃度低于5000ppm。
3.根據權利要求1所述的MgAlON透明陶瓷的無壓燒結制備方法,其特征在于:所述的氧 化鎂的純度為99.95wt%,平均粒徑在2μm以下。
4.根據權利要求1所述的MgAlON透明陶瓷的無壓燒結制備方法,其特征在于:所述的氟 化物為MgF2、CaF2、LiF或YF3;所述的氟化物的質量純度大于99%,平均粒徑小于2μm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢理工大學,未經武漢理工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010137522.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種具有換熱功能的紡織清洗裝置
- 下一篇:一種紡織用麻線侵油裝置





