[發明專利]激光干涉儀非線性誤差修正方法、裝置及應用其的干涉儀

無效

• 申請號: 201010135331.8
• 申請日: 2010-03-26
• 公開（公告）號: CN101839686A
• 公開（公告）日: 2010-09-22
• 發明（設計）人: 高思田;施玉書;盧明臻;杜華
• 申請（專利權）人: 中國計量科學研究院
• 主分類號: G01B9/02
• 分類號: G01B9/02
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 梁揮;祁建國

1.一種單頻激光干涉儀非線性誤差修正方法，是利用諧波分離修正法對所述干涉儀非線性誤差進行修正，其特征在于，所述方法包括：

步驟一，對干涉信號中的基波成分進行修正，獲取初始相位角；

步驟二，對所述干涉信號中的諧波成分進行修正，獲取相位角的修正值；

步驟三，依據所述初始相位角及所述相位角的修正值獲取補償修改后的精確相位角，并據此獲取所述干涉儀測量鏡位移以實現對干涉儀的非線性誤差修正。

2.根據權利要求1所述的激光干涉儀非線性誤差修正方法，其特征在于，在所述步驟一之前還包括一修正方程建立步驟，用于依據該修正方程，從所述干涉儀的兩路干涉信號中獲取干涉信號的相位角。

3.根據權利要求3所述的激光干涉儀非線性誤差修正方法，其特征在于，所述修正方程用有限項傅里葉級數表示如下：

u1=f1(θ)=a10+Σm=0M/4[a1(m+1)sin(θ2m)+b1(m+1)cos(θ2m)]+Σn=1N{c1nsin[(n+1)θ]+d1ncos[(n+1)θ]}u2=f2(θ)=a20+Σm=0M/4[a2(m+1)sin(θ2m)+b2(m+1)cos(θ2m)]+Σn=1N{c2nsin[(n+1)θ]+d2ncos[(n+1)θ]}]]>

式中：a₁₀、a₂₀為直流分量；

M為光學倍程數；

上式第二項為基波及由于光學倍程引起的低于基波的諧波分量，其中a_1(m+1)、b_1(m+1)、a_2(m+1)、b_2(m+1)分別為各諧波分量的系數；

上式第三項為高于基波的諧波分量，其中c_1n、d_1n、c_2n、d_2n分別為各諧波分量的系數，N為高次諧波截取長度。