[發(fā)明專利]磁控增強(qiáng)離子鍍鋁工藝及裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010131250.0
• 申請日: 2010-03-24
• 公開（公告）號: CN102199753A
• 公開（公告）日: 2011-09-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 渠洪波
• 申請（專利權(quán)）人: 沈陽科友真空技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/14
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 21002
• 代理人: 俞魯江

1.一種磁控增強(qiáng)離子鍍鋁工藝，將基片(2)安裝固定在真空室(1)內(nèi)的上部分，將蒸發(fā)源(5)安裝固定在基片(2)正對下方，將真空室(1)接地，基片(2)接偏壓電源(3)，蒸發(fā)源(5)接蒸發(fā)電源(4)，真空室(1)充氬氣，其特征在于：在基片(2)同蒸發(fā)源(5)之間產(chǎn)生的電場E的正交方向設(shè)置磁場B。

2.一種實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1所述工藝的裝置，其特征在于：本裝置設(shè)置在真空室(1)中，安裝在基片(2)和蒸發(fā)源(5)之間，由左右兩部分對稱安裝組成；每一部分包括陽極板(6)、磁體(8)和極靴(9)；陽極板(6)覆蓋在磁體(8)的表面，然后固定安裝在極靴(9)上；陽極板(6)同真空室(1)電連接，真空室(1)接地；所述左右兩部分磁極極性相對。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于：磁體(8)兩側(cè)設(shè)置冷卻水通道(7)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于：所述左右兩部分的工作傾斜角度可以進(jìn)行調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)范圍為兩陽極板(6)間夾角180°～0°。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于：所述磁體(8)采用永磁體。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于：所述磁體(8)采用電磁體。

7.一種權(quán)利要求1所述工藝的應(yīng)用，其特征在于：應(yīng)用到鍍制其他如Ti、Fe、Co、Cr等金屬及其合金的離子鍍工藝中。