[發明專利]一種具有OC材料的TFT ARRAY板的制備方法

有效

• 申請號: 201010129161.2
• 申請日: 2010-03-18
• 公開（公告）號: CN101807553A
• 公開（公告）日: 2010-08-18
• 發明（設計）人: 劉偉;任思雨;胡君文;謝凡;洪勝寶;朱漢平;于春崎;何基強
• 申請（專利權）人: 信利半導體有限公司
• 主分類號: H01L21/84
• 分類號: H01L21/84
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 逯長明

技術領域

本發明涉及TFT制造領域，具體涉及一種具有OC材料的TFT板的制備方法。?

背景技術

薄膜晶體管TFT(Thin?Film?Transistor)液晶顯示器在現代生活中有著廣泛的應用：如手機顯示屏，電腦的顯示器，MP3，MP4顯示屏等等，同時，人們對其性能的要求也越來越高，高開口率、半透等高品質的顯示產品也不斷地走進人們的生活，而不論是高開口率或是半透等高品質的產品，其制作過程中都可能要用到OC材料，而OC是overcoat的簡稱，是一種感光性樹脂薄膜，將其涂覆于TFT陣列(ARRAY)板上形成一個感光薄膜層，能夠增加TFT?ARRAY板的平坦性和開口率，因而如何將OC材料制作到TFT?ARRAY板上的工藝使之更好的發揮作用，也成為以上產品制作過程中的關鍵環節，對新技術的開發有著重要的意義。?

傳統的具有OC材料的TFT?ARRAY板的制作方法為先在玻璃板上制備柵極金屬層、柵極絕緣層和半導體層；再在玻璃板上制備源漏極金屬層；在柵極金屬層、半導體層、源漏極金屬層外涂覆絕緣膜保護層，并首先通過光刻工藝得到保護層圖案；在做好的保護層圖案上再涂覆一層OC材料，并通過曝光顯影得到OC層圖案，然后制備像素層，最終得到TFT?ARRAY板。?

現有技術中的制備方法先沉積了絕緣膜保護層，并光刻保護層圖案以后才進行涂覆OC材料得到OC層，再對OC層進行曝光顯影固化的步驟，這樣做會導致一部分OC層本來需要完全顯影去除掉的圖案部分在顯影固化后殘留下來，這樣就會導致像素電極和源漏極之間的接觸電阻變大，進而出現我們在購買液晶顯示屏或者液晶顯示屏屏幕上出現的“壞點”，影響了產品的顯示效果，甚至導致產品作廢。?

發明內容

本發明要解決的技術問題在于，提供一種具有OC材料的TFT?

ARRAY板的制備方法，操作簡單、工藝可控、更好的控制了OC層的厚度的均一性以及降低了透明像素電極與源漏極金屬層的接觸電阻。?

為了解決以上問題，本發明提供了一種具有OC材料的TFTARRAY板的制備方法，包括：?

a)在玻璃基板上制作柵極金屬層圖形、源漏極金屬層圖形、半導體層圖形；?

b)使用化學氣相沉積法在所述半導體層和源漏極金屬層上沉積絕緣膜保護層，并旋涂OC材料，得到OC層，再進行曝光、顯影、固化工藝，先做出OC層圖案；?

c)在所述OC層圖案上，通過曝光、顯影、刻蝕工藝，做出絕緣膜保護層圖案；?

d)在所述OC層上濺射透明像素電極層，經過光刻形成像素電極，得到TFT?ARRAY板。?

優選的，步驟b)具體為：?

b1)使用化學氣相沉積法在所述半導體層和源漏極金屬膜上沉積絕緣膜保護層；?

b2)將OC材料旋涂在所述絕緣膜保護層上；?

b3)將b2)得到的基板進行曝光操作；?

b4)將b3)得到的基板進行顯影操作；?

b5)加熱b4)得到的基板，使OC層固化。?

優選的，步驟b3)所述曝光操作使用的光源至少由以下光源中的一種組成：G-Line：436nm、H-Line：405nm、I-Line：365nm。?

優選的，步驟b4)所述的顯影操作的顯影液為有機堿類顯影液。?

優選的，所述顯影液的濃度為0.3～0.6wt％。?

優選的，步驟b5)具體為：?

b51)將步驟b4)得到的基板在100℃～160℃下加熱，加熱時間為60～200s；?

b52)將步驟b51)得到的基板在200℃～300℃下加熱，加熱時間?為30～80min。?

優選的，步驟b4)具體為：?

b41)將顯影液涂覆在步驟b3)得到的基板上；?

b42)將步驟b41)得到的基板在水的作用下沖洗被顯影液中和的OC層，得到OC層圖形。?

優選的，步驟a)具體為：a1)清洗玻璃基板，并烘干備用；?

a2)在所述玻璃基板上濺射金屬膜，經光刻后得到柵極金屬圖形；?

a3)使用化學氣相沉積法在柵極金屬層上連續沉積柵極絕緣層和半導體層，并光刻得到半導體層圖形；?

a4)在步驟a3)得到的基板上濺射金屬膜，并光刻得到源漏極金屬層圖形。?

優選的，所述玻璃基板的透光率為85％～92％。?

優選的，所述OC材料由聚酰亞胺樹脂或丙烯酸樹脂組成。?