[發明專利]光電倍增管有效
| 申請號: | 201010123812.7 | 申請日: | 2010-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN101814413A | 公開(公告)日: | 2010-08-25 |
| 發明(設計)人: | 杉山浩之;下井英樹;小玉剛史;木下仁志;河野泰行;井上圭祐 | 申請(專利權)人: | 浜松光子學株式會社 |
| 主分類號: | H01J43/04 | 分類號: | H01J43/04;H01J43/18 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322 | 代理人: | 龍淳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光電倍增管 | ||
技術領域
本發明涉及檢測來自外部的入射光的光電倍增管。
背景技術
一直以來,利用了微細加工技術的小型光電倍增管的開發不斷取 得進展。已知的有,例如在透光性的絕緣基板上配置有光電面、倍增 極以及陽極的平面型光電倍增管(參照下述專利文獻1)。利用這樣的 結構,可以高可靠性地檢測出微弱光,并且可以實現裝置的小型化。
然而,在如上所述的現有的光電倍增管中,存在被倍增了的電子 容易入射到被夾持在各級倍增極之間的絕緣基板的表面的趨勢。因此, 存在絕緣基板帶電而導致耐受電壓(withstand?voltage)降低的情況。
專利文獻1:美國專利第5264693號的說明書
發明內容
因此,本發明正是鑒于上述問題,其目的在于提供一種光電倍增 管,可以防止電子向倍增極之間的絕緣部分入射,從而改善耐受電壓。
為了解決上述問題,本發明的光電倍增管的特征在于,具備:具 有形成有由絕緣材料構成的平面的基板的箱體;第1級~第N級(N 為2以上的整數)電子倍增部,從基板的平面上的一端側向另一端側 依次間隔地排列;光電面,該光電面被配置于一端側且與電子倍增部 相間隔,將來自外部的入射光變換為光電子并釋放光電子;以及陽極 部,該陽極部被配置于另一端側且與電子倍增部相間隔,將被電子倍 增部倍增的電子作為信號取出,在基板的平面上,在鄰接的2個電子 倍增部之間,形成有表面由絕緣材料構成的溝槽部,第1級~第N級 電子倍增部被固定在與基板的溝槽部鄰接的凸部上。
根據這樣的光電倍增管,入射光入射于光電面而被變換為光電子, 該光電子入射于基板上的多級電子倍增部從而被倍增,被倍增了的電 子作為電信號而從陽極部被取出。此時,由于在鄰接的電子倍增部之 間的基板的表面上形成有絕緣性的溝槽部,因此,能夠防止通過鄰接 的電子倍增部之間的電子向基板表面入射。由此,能夠防止由基板表 面的帶電所導致的耐受電壓的降低。
優選溝槽部被形成為橫跨從第K-1級電子倍增部的另一端側的邊 緣部到第K級電子倍增部的一端側的邊緣部所夾持的范圍,其中K為 2以上N以下的整數。在這種情況下,由于能夠可靠地使鄰接的電子 倍增部之間的電子軌道從基板的表面分離,因此能夠有效地防止電子 向基板表面入射。
此外,優選溝槽部被形成為:相比第K級電子倍增部的一端側的 邊緣部,更向另一端側擴展。采用這樣的結構,減少了通過鄰接的電 子倍增部之間的電子向溝槽部的另一端側入射,因此能夠進一步防止 電子向基板表面入射。
此外,還優選溝槽部被形成為:相比第K-1級電子倍增部的另一 端側的邊緣部,更向一端側擴展。采用這樣的結構,減少了通過鄰接 的電子倍增部之間的電子向溝槽部的一端側入射,因此能夠進一步防 止電子向基板表面入射。
此外,還優選在基板的所述平面上,在凸部的端部還形成有連通 鄰接的溝槽部之間的溝槽部。這樣,使得凸部上的電子倍增部從基板 分離,并可以進一步改善耐受電壓。
附圖說明
圖1為本發明的一個優選實施方式所涉及的光電倍增管的立體圖。
圖2為圖1的光電倍增管的分解立體圖。
圖3為表示圖1的光電倍增管的內部結構的部分截斷立體圖。
圖4為圖3的電子倍增部以及沿著下側框架的IV-IV線的部分放大 截面圖。
圖5為表示圖3的電子倍增部中的電子軌道的側面圖。
圖6為用于說明圖3的電子倍增部的加工方法的截面圖。
圖7為表示圖3的電子倍增部以及下側框架的變形例的部分放大 截面圖。
圖8為表示圖3的電子倍增部以及下側框架的變形例的部分放大 截面圖。
圖9為表示圖3的電子倍增部以及下側框架的變形例的部分放大 截面圖。
具體實施方式
以下,參照附圖詳細說明本發明所涉及的光電倍增管的優選實施 方式。其中,在附圖的說明中,對相同或者相當的部分賦予同一符號 并省略重復的說明。
圖1為本發明的一個優選實施方式所涉及的光電倍增管1的立體 圖,圖2為圖1的光電倍增管1的分解立體圖。
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