[發明專利]沉積掩模

無效

• 申請號: 201010123804.2
• 申請日: 2010-02-25
• 公開（公告）號: CN101824591A
• 公開（公告）日: 2010-09-08
• 發明（設計）人: 李相信;高政佑;姜澤教;洪承柱
• 申請（專利權）人: 三星移動顯示器株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C16/04
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 韓明星;薛義丹

1.一種沉積掩模，所述沉積掩模包括掩模板以及支撐掩模板的周邊的框架，所述框架具有：

固定于掩模板的接觸表面；

面對掩模板并與掩模板隔開的非接觸表面，所述非接觸表面被設置在所述接觸表面和形成在框架中心的開口之間。

2.如權利要求1所述的沉積掩模，其中，所述掩模板包括：

圖案化的陣列區域；

圍繞陣列區域設置的非陣列區域，所述非陣列區域被固定到所述接觸表面。

3.如權利要求2所述的沉積掩模，其中，所述框架包括：

形成非接觸表面的主體；

從主體延伸并形成接觸表面的突起，使所述框架具有階梯結構。

4.如權利要求1所述的沉積掩模，其中，所述非接觸表面相對于掩模板的平面形成銳角。

5.一種沉積掩模，所述沉積掩模包括掩模板以及支撐掩模板的周邊的框架，所述框架具有：

固定于掩模板的接觸表面；

非接觸表面，所述非接觸表面具有設置為與所述接觸表面相鄰的第一邊緣，以及設置為與形成在框架中的開口相鄰的第二邊緣，第一邊緣與第二邊緣相對，其中，所述第一邊緣距離掩模板比所述第二邊緣距離掩模板近。

6.如權利要求5所述的沉積掩模，其中，所述非接觸表面相對于掩模板的平面形成銳角。

7.如權利要求5所述的沉積掩模，其中，所述掩模板具有：

圖案化的陣列區域；

圍繞陣列區域的周邊設置的非陣列區域，所述非陣列區域被固定到所述接觸表面。

8.如權利要求5所述的沉積掩模，其中，所述接觸表面的寬度大于將掩模板連接到框架的焊點的寬度。

9.如權利要求8所述的沉積掩模，其中，所述非接觸表面的面積大于所述接觸表面的面積。

10.一種沉積掩模，所述沉積掩模包括掩模板以及支撐掩模板的周邊的框架，所述框架具有：

固定于掩模板的接觸表面；

非接觸表面，所述非接觸表面設置在所述接觸表面和形成在框架中心的開口之間，并與所述掩模板隔開。

11.如權利要求10所述的沉積掩模，其中，所述框架包括：

形成非接觸表面的主體；

從主體向掩模板延伸的突起，所述突起形成接觸表面。

12.如權利要求10所述的沉積掩模，其中，所述掩模板包括：

圖案化的陣列區域；

圍繞陣列區域的周邊設置的非陣列區域，所述非陣列區域被固定到所述接觸表面。

13.如權利要求10所述的沉積掩模，其中，所述接觸表面的寬度大于將掩模板連接到框架的焊點的寬度。

14.如權利要求10所述的沉積掩模，其中，所述接觸表面與掩模板的平面平行。

15.如權利要求10所述的沉積掩模，其中，所述非接觸表面的面積大于所述接觸表面的面積。