[發明專利]基板緩沖單元

無效

• 申請號: 201010123013.X
• 申請日: 2010-02-25
• 公開（公告）號: CN101826448A
• 公開（公告）日: 2010-09-08
• 發明（設計）人: 宮原昭德
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

技術領域

本發明涉及一種用于使在基板輸送路徑中輸送的、例如平 板顯示器(FPD)所采用的玻璃基板臨時自基板輸送路徑退避 的基板緩沖單元，特別是涉及一種能夠高效率地以空氣清洗緩 沖裝置內空間的基板緩沖單元。

背景技術

在FPD的制造過程中，為了在FPD用的玻璃基板上形成電 路圖案而采用光刻技術。利用光刻法形成電路圖案如下所述這 樣進行：在玻璃基板上涂敷抗蝕液而形成抗蝕劑膜，與電路圖 案相對應地使抗蝕劑膜曝光，對其進行顯影處理。為了形成電 路圖案，采用沿著輸送生產線(基板輸送路徑)設置進行抗蝕 液的涂敷、顯影處理等處理的各處理單元而成的制造生產線。 玻璃基板在輸送生產線上被輸送的同時、在各處理單元被實施 規定的處理。

但是，在上述制造生產線上，通常，為了調整在各處理單 元之間接收并交出基板的時機，設有使玻璃基板自輸送生產線 臨時退避來進行保管的緩沖裝置。

作為該緩沖裝置，本案申請人在專利文獻1中公開有這樣 的升降機式的緩沖裝置(以下稱作升降機緩沖裝置)，即，通過 使能夠多層載置玻璃基板的架部升降來搬出或搬入基板。

根據圖7簡單說明專利文獻1中公開的升降機緩沖裝置的 基板退避動作。圖7的(a)～圖7的(c)所示的升降機緩沖裝 置200包括設置在輸送生產線上且具有以多層設置的基板載置 部202a～202f的架部205、以及能夠將該架部205支承為能升降 移動的升降機構206。

在需要使基板退避到升降機緩沖裝置200中時，X方向下游 側的輔助傳送帶機構210的驅動停止。并且，如圖7的(a)所 示，從X方向上游側輸送來的第一個基板G1通過殼體201的搬 入口201a，整個基板載置在載置部202a上時，傳送帶機構250a 停止。由此，成為基板G1載置在載置部202a上的狀態。

接著，在從X方向上游側將下一個基板G2輸送來時，傳送 帶機構250a與其驅動源之間的連接被解除。

然后，利用升降機構206使架部205上升，使得載置部 202b～202f中的任一個、例如圖7的(b)所示那樣是載置部202b 與輸送生產線的高度一致，將載置部202b的傳送帶機構250b 連接于其驅動部而驅動該傳送帶機構250b。在此，基板G?1成為 與載置部202a一同自輸送生產線退避的狀態。然后，整個基板 G2載置在載置部202b上時，傳送帶機構250b的驅動被停止。

通過反復該工序，直到基板輸送的待機狀態被解除為止， 在輸送生產線上輸送來的后續的基板G3、G4、...分別載置在 載置部202c、202d、...上來進行保管(參照圖7的(c))。

但是，上述升降機緩沖裝置200與其他單元一同設置在清 潔室內。在清潔室的頂部設有被稱作FFU(風機過濾器單元) 的清潔空氣供給裝置，由此，形成空氣向下方流動的垂直層流。

以往，利用該下降流確保室內的清潔度、進而確保收容有 基板的架子部205內的清潔度。

即，如圖8所示，作為外殼板的殼體201的上表面為了將從 上方流向下方的清潔空氣吸入到殼體201內而開放。因此，清 潔室內的下降流從殼體201的上表面流入到殼體201內，形成從 基板搬入搬出口201a、201b流出的清潔空氣的流動。

專利文獻1：日本特開2007-250671號公報

但是，在上述構造中，架子部205利用升降機構206在殼體 201內升降移動時，如圖9所示那樣架子部205下方的空間207 的容積發生變化，破壞形成在殼體201內的空氣的流動，有可 能產生不良情況。

即，每次架子部205升降移動時，其下方的空間207的容積 都發生變化而被壓縮膨脹，因此，自升降機構206卷起灰塵， 灰塵流入到架子部205內，產生在載置于架子部205內的基板上 附著灰塵這樣的問題。

發明內容

本發明即是在上述那樣的狀況下做成的，其目的在于提供 一種使向一個方向輸送的基板臨時退避的基板緩沖單元，其中， 能夠高效率地以空氣清洗緩沖空間。