[發明專利]涂底劑組合物、包含該組合物的光學膜以及包括該光學膜的偏振板

有效

• 申請號: 201010121799.1
• 申請日: 2010-02-25
• 公開（公告）號: CN101813801A
• 公開（公告）日: 2010-08-25
• 發明（設計）人: 金熹正;金東烈;丁鵬郡
• 申請（專利權）人: LG化學株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02B1/10;G02F1/1335;C09D4/06
• 代理公司: 北京金信立方知識產權代理有限公司 11225
• 代理人: 劉曄;朱梅

技術領域

本發明涉及一種涂底劑組合物、包含該組合物的光學膜以及包括 該光學膜的偏振板。更具體而言，本發明涉及一種包括底漆層而使得 透明度、光學性質、機械強度以及對偏振片的粘合性均優異的光學膜， 并且該光學膜可以被有效地用作偏振片的保護膜等。

本申請要求獲得于2009年2月25日在韓國知識產權局(KIPO)提 交的韓國專利申請第10-2009-0015875號的優先權，其披露的內容通過 引用的方式全部并入本文。

背景技術

最近，隨著光學技術的發展，使用各種不同方法的顯示技術，如 代替已知的布朗顯像管(brown?tube)使用的等離子體顯示面板(PDP)、液 晶顯示器(LCD)、有機/無機EL顯示器(ELD)等，已經被提出并被出售。 在上述顯示器中，已建議使用各種不同的塑料膜，并且已經很好地開 發出越來越多的所需性能。例如，在液晶顯示器中，為了更薄更輕并 提高顯示性能，在偏振板、延遲膜、塑料基板、光導板等中使用了各 種不同的塑料膜。

對于偏振板，其通常具有如下結構：通過使用由聚乙烯醇水溶液 組成的水性固著劑將作為保護膜的乙酰纖維素膜(下文，稱為TAC膜) 層壓在偏振片上。但是，用作偏振片的聚乙烯醇膜和用作偏振片保護 膜的TAC膜在耐熱性和防潮性上均存在不足。因此，當在高溫或高濕 度的氣氛下長時間使用包括上述膜的偏振板時，則由于偏光度會降低， 偏振片和保護膜會分開或光學性質會降低，所以上述偏振板在用途方 面存在各種不同的限制。另外，在TAC膜中，面內延遲值(R_in)和厚度 延遲值(R_th)會根據周圍溫度/濕度環境的變化而有很大的變化。如果將 包括作為保護膜的TAC膜的偏振板用于液晶顯示器件，則存在的問題 是：視角性能會根據周圍溫度/濕度環境的變化而變化，因此降低了圖 像質量。另外，由于TAC膜具有隨著周圍溫度/濕度環境的變化而變化 的高維度變化率和相對較大的光學彈性值，所以在耐熱和防潮環境下 評價耐久性后，會在局部發生延遲性能的變化，因此圖像質量容易下 降。

此外，在通過使用TAC膜作為偏振片保護膜制備偏振板的情況下， 水性聚乙烯醇固著劑主要用于將TAC膜粘合到包含聚乙烯醇組分的偏 振片上。此時，為了提高粘合強度，在TAC膜的表面上要進行堿處理 或電暈處理。對于已知的TAC膜，由于通過堿處理或電暈處理將親水 性基團如羥基引入到該膜的表面上，所以可以通過與聚乙烯醇固著劑 發生氫鍵結合確保粘合強度；但是，對于丙烯酸樹脂膜，即使進行電 暈處理或等離子體處理，由于被引入到該膜表面上的親水性基團的量 較少，也不能確保足夠的粘合強度。

在制備偏振板的過程中，作為彌補上述TAC膜的各種不同缺點的 材料，建議使用環烯烴樹脂膜或丙烯酸樹脂膜。但是，即使對環烯烴 樹脂膜或丙烯酸樹脂膜進行電暈處理或等離子體處理，由于被引入到 該膜表面上的親水性基團的量較少，因此，該膜對聚乙烯醇的粘合性 也較低，使得在其實際應用上也存在限制。

發明內容

為了解決相關技術領域中的問題，本發明的目的是提供一種涂敷 在光學膜上而對聚乙烯醇偏振片表現出優異的粘合性的涂底劑組合 物、光學膜以及包括該光學膜的偏振板。

本發明提供了一種涂底劑組合物，其包含：1)含有乙酰乙酰基的聚 乙烯醇化合物；2)含有至少兩個乙烯基的丙烯酸酯化合物；和3)堿性 催化劑。

另外，本發明還提供了一種光學膜，其在包含(甲基)丙烯酸樹脂的 膜的至少一側上包括由上述涂底劑組合物形成的底漆層。

此外，本發明還提供了一種制備光學膜的方法，其包括以下步驟： 1)制備包含(甲基)丙烯酸樹脂的膜；和2)在步驟1)中制備的膜的至少一 側上通過涂敷涂底劑組合物并固化該涂底劑組合物而形成底漆層，該 涂底劑組合物包含含有乙酰乙酰基的聚乙烯醇化合物、含有至少兩個 乙烯基的丙烯酸酯化合物和堿性催化劑。

另外，本發明還提供了一種包括上述光學膜的液晶顯示器件。

此外，本發明還提供了一種偏振板，其包括：1)聚乙烯醇偏振片； 和2)設置在所述偏振片的至少一側上且包含(甲基)丙烯酸樹脂的膜，其 中，所述包含(甲基)丙烯酸樹脂的膜與偏振片接觸的一側上包括底漆 層，該底漆層由包含含有乙酰乙酰基的聚乙烯醇化合物、含有至少兩 個乙烯基的丙烯酸酯化合物和堿性催化劑的涂底劑組合物形成。