[發明專利]涂底劑組合物、包含該組合物的光學膜以及包括該光學膜的偏振板有效
| 申請號: | 201010121799.1 | 申請日: | 2010-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN101813801A | 公開(公告)日: | 2010-08-25 |
| 發明(設計)人: | 金熹正;金東烈;丁鵬郡 | 申請(專利權)人: | LG化學株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/30 | 分類號: | G02B5/30;G02B1/10;G02F1/1335;C09D4/06 |
| 代理公司: | 北京金信立方知識產權代理有限公司 11225 | 代理人: | 劉曄;朱梅 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 涂底劑 組合 包含 光學 以及 包括 偏振 | ||
1.一種偏振板,其包括:
1)聚乙烯醇偏振片;和
2)設置在所述偏振片的至少一側上且包含(甲基)丙烯酸樹脂的膜; 和
在所述包含(甲基)丙烯酸樹脂的膜與偏振片接觸的一側上由涂底 劑組合物形成的底漆層,
其中,所述涂底劑組合物包含含有乙酰乙酰基的聚乙烯醇化合物、 含有至少兩個乙烯基的丙烯酸酯化合物和堿性催化劑和光固化引發 劑;
其中基于含有乙酰乙酰基的聚乙烯醇化合物中的乙酰乙酰基,所 述含有至少兩個乙烯基的丙烯酸酯化合物的含量為0.1~2當量;基于 含有乙酰乙酰基的聚乙烯醇化合物中的乙酰乙酰基,所述堿性催化劑 的含量為0.1~1當量;基于100重量份的含有至少兩個乙烯基的丙烯 酸酯化合物,所述光固化引發劑的含量為0.1~5重量份。
2.如權利要求1所述的偏振板,其中,所述含有乙酰乙酰基的聚 乙烯醇化合物中的乙酰乙酰基的變性度在0.1~40mol%的范圍內。
3.如權利要求1所述的偏振板,其中,所述含有至少兩個乙烯基 的丙烯酸酯化合物包括選自1,6-己二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸 酯、二甘醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、 1,4-丁二醇二丙烯酸酯和新戊二醇二丙烯酸酯中的一種或多種。
4.如權利要求1所述的偏振板,其中,所述堿性催化劑包括選自 1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯(DBU)、三乙胺、1,5-二氮雜雙環 [4.3.0]-5-壬烯(DBN)和四甲基胍(TMG)中的一種或多種。
5.如權利要求1所述的偏振板,其中,在所述偏振片的兩側上都 設置所述包含(甲基)丙烯酸樹脂的膜。
6.如權利要求1所述的偏振板,其中,將所述包含(甲基)丙烯酸 樹脂的膜設置在所述偏振片的任意一側上,并且將選自TAC膜、PET 膜、COP膜、PC膜和聚降冰片烯膜中的膜設置在該偏振片的另一側上。
7.如權利要求1所述的偏振板,其中,所述(甲基)丙烯酸樹脂包 括選自(甲基)丙烯酸酯單體的均聚物或共聚物;(甲基)丙烯酸酯單體和 芳香族乙烯基單體的共聚物;(甲基)丙烯酸酯單體、芳香族乙烯基單體 和酸酐的共聚物;以及(甲基)丙烯酸酯單體和環狀單體的共聚物中的一 種或多種。
8.如權利要求1所述的偏振板,其中,所述包含(甲基)丙烯酸樹 脂的膜進一步包含選自含有具有含羥基部分和芳香族部分的鏈的芳香 族樹脂;苯乙烯樹脂;以及苯乙烯單體和環狀單體的共聚物中的一種 或多種。
9.一種涂底劑組合物,其包含:
1)含有乙酰乙酰基的聚乙烯醇化合物;
2)含有至少兩個乙烯基的丙烯酸酯化合物;
3)堿性催化劑;和
光固化引發劑;
其中基于含有乙酰乙酰基的聚乙烯醇化合物中的乙酰乙酰基,所 述含有至少兩個乙烯基的丙烯酸酯化合物的含量為0.1~2當量;基于 含有乙酰乙酰基的聚乙烯醇化合物中的乙酰乙酰基,所述堿性催化劑 的含量為0.1~1當量;基于100重量份的含有至少兩個乙烯基的丙烯 酸酯化合物,所述光固化引發劑的含量為0.1~5重量份。
10.如權利要求9所述的涂底劑組合物,其中,所述2)含有至少 兩個乙烯基的丙烯酸酯化合物包括選自1,6-己二醇二丙烯酸酯、乙二醇 二丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙 烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯和新戊二醇二丙烯酸酯中的一種或多 種。
11.如權利要求9所述的涂底劑組合物,其中,所述3)堿性催化 劑包括選自1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯(DBU)、三乙胺、1,5-二氮 雜雙環[4.3.0]-5-壬烯(DBN)和四甲基胍(TMG)中的一種或多種。
12.一種光學膜,其在包含(甲基)丙烯酸樹脂的膜的至少一側上包 括由根據權利要求9所述的涂底劑組合物形成的底漆層。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于LG化學株式會社,未經LG化學株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010121799.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:硅成膜裝置及其使用方法
- 下一篇:離心分離機





