[發明專利]濺射設備、雙旋轉擋板單元以及濺射方法

有效

• 申請號: 201010121189.1
• 申請日: 2010-02-11
• 公開（公告）號: CN101824598A
• 公開（公告）日: 2010-09-08
• 發明（設計）人: 廣見太一;村上匡章
• 申請（專利權）人: 佳能安內華股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 張濤

技術領域

本發明涉及一種具有可用于制造薄膜的結構的濺射設備、濺射方 法以及雙旋轉擋板單元，并且更具體地，本發明涉及一種包括多個靶 的濺射設備、安裝在該濺射設備中的雙旋轉擋板單元以及濺射方法。

背景技術

一種已知的濺射設備使用通過將兩個被獨立地控制旋轉的擋板組 合而形成的雙旋轉擋板機構，來從多個放置在真空容器中的靶選擇待 濺射的靶(參見日本專利特開No.2005-256112)。

在日本專利特開No.2005-256112中說明的濺射設備(多陰極濺射 沉積設備)包括放置在單個真空容器中的四個靶和包括兩個擋板的雙 旋轉擋板機構，所述兩個擋板相互獨立地旋轉并且包括分別形成在各 擋板中的開口。雙旋轉擋板機構通過將形成在第一擋板中的開口的位 置與形成在第二擋板中的開口的位置組合而選擇靶，并且對所選的靶 持續放電。可以通過預濺射處理和主濺射處理以前述的方式在襯底上 沉積膜。

該濺射設備控制第一擋板的旋轉操作，以便使其它靶中包含的任 何物質決不沉積在所選的待濺射靶上。這能夠防止在預濺射期間其它 靶中包含的任何物質粘附到所選的靶的表面上。這繼而能夠防止在主 濺射期間發生任何交叉污染。

不幸地，依據濺射材料和放電條件，即使以上提及的雙旋轉擋板 機構也會遭遇交叉污染。例如，當易于大量地散射到周邊的金(Au) 被選擇作為濺射材料時，Au原予會不期望地進入盤保持器和與所選的 濺射陰極相鄰的濺射陰極，并且在其上形成膜。

另外，因為在日本專利特開No.2005-256112中說明的濺射設備包 括位于與濺射陰極(靶)相距較遠的位置處的濺射氣體入口，所以在 放電觸發期間靶附近的濺射氣體的壓力難以升高。這不利地導致在放 電方面或低壓放電穩定性方面的困難。這還會導致各陰極位置的放電 壓力的差異。

發明內容

本發明已經考慮到上述問題，并且提供了一種濺射設備、安裝在 該濺射設備中的雙旋轉擋板單元以及濺射方法，所述濺射設備可以通 過防止濺射物質散射到周邊而更加可靠地防止任何交叉污染。

本發明的另一個目的是提供一種允許穩定的放電和放電觸發的濺 射設備、安裝在該濺射設備中的雙旋轉擋板單元以及濺射方法。

本發明的發明人重復封閉研究以便于解決上述問題，并且通過獲 得新知識而完成本發明，所述新知識指能夠通過在傳統的雙旋轉擋板 機構的擋板上安裝沉積護罩而防止靶的任何交叉污染并且穩定濺射氣 體壓力的知識。

根據本發明的一個方面，提供一種濺射設備，其包括：

布置在真空容器中的多個濺射陰極；

包括第一擋板和第二擋板的雙旋轉擋板機構，所述第一擋板和第 二擋板布置成在面對所述濺射陰極的同時能夠獨立地旋轉，并且所述 第一擋板和第二擋板每個都包括在預定位置處形成在其中的至少一個 開口，所述第二擋板與所述濺射陰極之間的距離大于所述第一擋板與 所述濺射陰極之間的距離；以及

置于所述濺射陰極與所述第一擋板之間的第一沉積護罩，所述第 一沉積護罩橫向地圍繞所述濺射陰極的位于所述第一擋板這一側的前 表面區域。

根據本發明的另一個方面，提供一種雙旋轉擋板單元，其包括：

第一擋板和第二擋板，所述第一擋板和第二擋板布置成在面對放 置在真空容器中的濺射陰極的同時能夠獨立地旋轉，并且所述第一擋 板和第二擋板每個都包括在預定位置處形成在其中的至少一個開口， 所述第二擋板與所述濺射陰極之間的距離大于所述第一擋板與所述濺 射陰極之間的距離，

其中，圍繞所述第一擋板中的開口的第二沉積護罩安裝在所述第 一擋板的位于所述第二擋板這一側的表面上。

根據本發明的又一個方面，提供一種由濺射設備執行的濺射方法， 所述濺射設備包括布置在真空容器中的多個濺射陰極以及具有第一擋 板和第二擋板的雙旋轉擋板機構，所述第一擋板和第二擋板布置成在 面對所述濺射陰極的同時能夠獨立地旋轉，并且所述第一擋板和第二 擋板每個都包括在預定位置處形成在其中的至少一個開口，所述第二 擋板與所述濺射陰極之間的距離大于所述第一擋板與所述濺射陰極之 間的距離；其中，第一沉積護罩置于所述濺射陰極與所述第一擋板之 間，并橫向地圍繞所述濺射陰極的位于所述第一擋板這一側的前表面 區域的；并且其中，圍繞所述第一擋板中的開口的第二沉積護罩安裝 在所述第一擋板的位于所述第二擋板這一側的表面上，所述方法包括：