[發(fā)明專利]濺射設(shè)備、雙旋轉(zhuǎn)擋板單元以及濺射方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201010121189.1
• 申請日: 2010-02-11
• 公開（公告）號: CN101824598A
• 公開（公告）日: 2010-09-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 廣見太一;村上匡章
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能安內(nèi)華股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務(wù)所 11038
• 代理人: 張濤

1.一種濺射設(shè)備，包括：

布置在真空容器中的多個濺射陰極；

包括第一擋板和第二擋板的雙旋轉(zhuǎn)擋板機構(gòu)，所述第一擋板和第 二擋板布置成在面對所述濺射陰極的同時能夠獨立地旋轉(zhuǎn)，并且所述 第一擋板和第二擋板每個都包括在預定位置處形成在其中的至少一個 開口，所述第二擋板與所述濺射陰極之間的距離大于所述第一擋板與 所述濺射陰極之間的距離；以及

置于所述濺射陰極與所述第一擋板之間的第一沉積護罩，所述第 一沉積護罩橫向地圍繞所述濺射陰極的位于所述第一擋板這一側(cè)的前 表面區(qū)域。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，圍繞所述第一擋板中的開 口的第二沉積護罩安裝在所述第一擋板的位于所述第二擋板這一側(cè)的 表面上。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述第二沉積護罩構(gòu)造成 具有等于所述濺射陰極的直徑的直徑。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，

其中，所述濺射陰極包括：

陰極護罩，所述陰極護罩在與靶之間有預定的間隙的情況下圍繞 所述靶的外部周邊；和圓柱形構(gòu)件，所述圓柱形構(gòu)件連接至所述陰極 護罩，并且在與所述濺射陰極之間有預定的間隙的情況下圍繞所述濺 射陰極的側(cè)表面，并且

其中，通過所述濺射陰極與所述圓柱形構(gòu)件之間的間隙以及所述 靶與所述陰極護罩之間的間隙，能夠?qū)R射氣體引到所述靶的前表面 上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中，所述第一沉積護罩安裝在 所述陰極護罩的位于所述第一擋板這一側(cè)的表面上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述第一擋板中的開口的 邊緣是錐形的。

7.一種濺射方法，所述濺射方法由濺射設(shè)備執(zhí)行，所述濺射設(shè)備 包括布置在真空容器中的多個濺射陰極以及具有第一擋板和第二擋板 的雙旋轉(zhuǎn)擋板機構(gòu)，所述第一擋板和第二擋板布置成在面對所述濺射 陰極的同時能夠獨立地旋轉(zhuǎn)，并且所述第一擋板和第二擋板每個都包 括在預定位置處形成在其中的至少一個開口，所述第二擋板與所述濺 射陰極之間的距離大于所述第一擋板與所述濺射陰極之間的距離；其 中，第一沉積護罩置于所述濺射陰極與所述第一擋板之間，并橫向地 圍繞所述濺射陰極的位于所述第一擋板這一側(cè)的前表面區(qū)域；并且其 中，圍繞所述第一擋板中的開口的第二沉積護罩安裝在所述第一擋板 的位于所述第二擋板這一側(cè)的表面上，所述方法包括：

預濺射步驟，在其中所述第一擋板中的開口定位在所述濺射陰極 的位于所述第一擋板這一側(cè)的前表面區(qū)域中且所述第二擋板中的開口 沒有定位在所述前表面區(qū)域中的布置的情況下，在將濺射氣體引入到 所述前表面區(qū)域中時，執(zhí)行放電；以及

主濺射步驟，在其中所述第一擋板中的開口和所述第二擋板中的 開口二者定位在所述濺射陰極的位于所述第一擋板這一側(cè)的前表面區(qū) 域中的布置的情況下，在將濺射氣體引入到所述前表面區(qū)域中時，執(zhí) 行放電。