[發明專利]一種鈦鎳形狀記憶合金眼鏡的制造工藝

有效

• 申請號: 201010116706.6
• 申請日: 2010-01-30
• 公開（公告）號: CN101768719A
• 公開（公告）日: 2010-07-07
• 發明（設計）人: 張國宏;蔣新東;許芳;周余友
• 申請（專利權）人: 深圳市歐帝光學有限公司
• 主分類號: C23C14/16
• 分類號: C23C14/16;C23C14/35;C23C14/02;B23K1/20;G02C5/00
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技術領域

本發明涉及眼鏡制造工藝，尤其是涉及到一種鈦鎳形狀記憶合金眼鏡的制 造工藝。

背景技術

作為新技術新材料，鈦鎳形狀記憶合金因其具有強度高、重量輕、超彈性、 眼鏡配帶使用中變形恢復性好等優良的材料特性而在高檔眼鏡的消費領域有很 大的研發和產業化需求。但是由于鈦鎳形狀記憶合金材料自身的性質，存在焊 接的難題。由鈦鎳形狀記憶合金材料制備的眼鏡部件，相互之間難以直接釬焊； 鈦鎳形狀記憶合金材料制備的眼鏡部件與其它常用的眼鏡材料部件比如不銹鋼 圈線或者鎳銅合金圈線或者高純鈦圈線之間，也難以直接釬焊。

業界貫常的解決這一難題的方法，其一是：將由鈦鎳形狀記憶合金材料制 備的眼鏡部件先緊固于一可釬焊焊接的材料制成的連接件中，再由該連接件與 眼鏡的其它部件釬焊焊接。例如：中國專利ZL99124979.8以及ZL02117651.5 的公開。其二是：將由鈦鎳形狀記憶合金材料制備的眼鏡部件先通過電鍍鍍一 層可釬焊的電鍍層，比如電鍍鎳層，然后再與眼鏡的其它部件釬焊焊接。

前述方法之一，增加的連接件會破壞眼鏡架的美觀，并且增加了太多的材 料及工序而造成成本增加。前述方法之二，電鍍生產易產生環境污染；電鍍鎳 層在人工汗環境下會產生鎳等有害物質的釋出。

這里定義的釬焊包括電阻釬焊。

發明內容

本發明的目的在于針對前述的眼鏡制造工藝的缺陷，提供一種新的鈦鎳形 狀記憶合金眼鏡的制造工藝。

本發明一種鈦鎳形狀記憶合金眼鏡的制造工藝，

包括制備焊接前的鈦鎳形狀記憶合金材料的眼鏡部件的工序，

包括將鈦鎳形狀記憶合金材料的眼鏡部件與其它眼鏡部件在需要釬焊的部 位進行釬焊焊接的工序，

其特征在于：

在制備焊接前的鈦鎳形狀記憶合金材料的眼鏡部件的工序中，包括如下工 藝：將鈦鎳形狀記憶合金材料的眼鏡部件清洗干燥后放入真空離子鍍設備中， 進行真空離子鍍，鍍得鎳層或者不銹鋼層或者鎳和不銹鋼的復合離子鍍層，鍍 層厚度在0.8um～3.0um之間；

在將鈦鎳形狀記憶合金材料的眼鏡部件與其它眼鏡部件在需要釬焊的部位 進行釬焊焊接的工序中，是將通過真空離子鍍鍍得鎳層或者不銹鋼層或者鎳和 不銹鋼的復合離子鍍層后的鈦鎳形狀記憶合金材料的眼鏡部件與其它眼鏡部件 在需要釬焊的部位進行釬焊焊接。

由上述本發明的技術方案，通過真空離子鍍鍍得鎳層或者不銹鋼層或者鎳 和不銹鋼的復合離子鍍層后的鈦鎳形狀記憶合金材料的眼鏡部件能夠容易的與 其它眼鏡部件在需要釬焊的部位進行釬焊；釬料對所述鍍層部件的表面潤濕性、 鋪展性好。鍍層膜附著力強，釬焊接頭的強度進行拉力測試容易達到眼鏡架相 關測試要求。因真空離子鍍不產生電鍍過程中的廢液、廢氣、廢物，因而是一 種環保工藝。因真空離子鍍的鍍層膜比電鍍鍍層膜更致密、更附著力強，即使 在真空離子鍍鎳層中也比電鍍鎳較少的鎳元素釋出；而在真空離子鍍不銹鋼鍍 層中更較少有鎳元素釋出。

具體實施例

實施例一：

采用含Ni的重量比為56％，含Ti的重量比為43.7％的鈦鎳形狀記憶合金 線材，制備鈦鎳形狀記憶合金材料的眼鏡鼻梁部件，包括：下料、熱處理、沖 壓成型。然后：將鈦鎳形狀記憶合金材料的眼鏡鼻梁部件清洗干燥后放入磁控 多弧離子鍍設備中，操作包括：開啟多弧鈦靶，對鼻梁部件進行離子轟擊，產 生鈦打底；開啟不銹鋼圓柱靶，負偏壓-180V，靶電流13A，時間13～17min， 對鼻梁部件進行濺射鍍膜，鍍得不銹鋼層，鍍層厚度在1.2um～2.0um。

在燒鼻梁的工序中，將通過真空離子鍍鍍得不銹鋼層的鈦鎳形狀記憶合金 鼻梁與不銹鋼材質的眼鏡圈線在鼻梁位進行釬焊焊接，采用高頻感應加熱機， 用眼鏡不銹鋼配件焊接常用的銀焊線作釬料。釬焊過程觀察：釬料對所述鍍層 部件的表面潤濕性、鋪展性好，易于釬焊。焊接后，在其它相關的眼鏡構架工 序完成后，包括對前述焊接部位清理、打磨后，對焊接部位進行業界行業標準 的相關拉力測試，釬焊接頭的強度達到大于25kg/拉脫力的相關要求。

前述的制造工藝中，為了使得鼻梁的釬焊部位表面皆是被真空鍍層覆蓋的， 在進行真空離子鍍之前，先對鼻梁兩端進行與圈線釬焊的拼位企口的鑼切，以 使得真空離子鍍之后釬焊之前無需再鑼切釬焊部位。

實施例二：