[發明專利]用于苦參堿類物質分離提純的表面印跡材料的制備方法有效
| 申請號: | 201010115069.0 | 申請日: | 2010-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN101775152A | 公開(公告)日: | 2010-07-14 |
| 發明(設計)人: | 高保嬌;安富強;杜瑞奎;喻華兵;王蕊欣 | 申請(專利權)人: | 中北大學 |
| 主分類號: | C08J9/26 | 分類號: | C08J9/26;C08J3/24;C08F292/00;C08F120/06;C09C1/28;C09C3/12;B01J20/30;B01J20/26 |
| 代理公司: | 山西太原科衛專利事務所 14100 | 代理人: | 朱源 |
| 地址: | 030051山*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 苦參 物質 分離 提純 表面 印跡 材料 制備 方法 | ||
1.一種用于苦參堿類物質分離提純的表面印跡材料的制備方法,其特征在 于包括以下步驟:
(1)、硅膠微粒的活化:將25~30g硅膠微粒加入到130~150mL濃度為5%~ 10%的鹽酸水溶液中,在回流溫度下攪拌活化8~10h后,過濾,用蒸餾水洗滌 濾餅,在真空烘箱中真空干燥24~30h,得到活化的硅膠微粒;
(2)、硅膠微粒表面化學鍵連含雙鍵的硅烷偶聯劑:將8~10g活化后的硅膠 微粒加入到四口燒瓶中,再加入300~400mL體積比為1∶1乙醇與水的混合溶劑 中攪拌,然后加入8~10mL含雙鍵的硅烷偶聯劑γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲 氧基硅烷、三甲氧基烯丙基硅烷或三甲氧基乙烯基硅烷,在45~50℃下反應 24~28h,反應結束后將產物在索氏抽提器中用乙醇洗滌,除去體系中未反應的 硅烷偶聯劑,最后在真空烘箱中真空干燥24~30h,得到改性的硅膠微粒;
(3)、硅膠微粒表面化學接枝聚甲基丙烯酸:四口燒瓶中加入200~300mL 水、3~5g改性的硅膠微粒和10~15g甲基丙烯酸,用N2排空氣30min,并在 N2保護下攪拌0.5h,使改性的硅膠微粒充分分散,升至70~75℃,加入單體甲 基丙烯酸質量0.5~0.6%的過硫酸銨作為引發劑,于70~75℃下在攪拌中進行 接枝聚合反應,反應24h后,抽濾,得到接枝微粒,再在索氏抽提器中用無水 乙醇抽提24h,以除去物理吸附在微球表面的聚合物,然后進行真空干燥;
(4)、硅膠微粒表面分子印跡聚合物的制備:稱取1~2g接枝微粒與50mL 濃度為8~10mmol/L的苦參堿類物質水溶液混和,用稀氫氧化鈉溶液調節體系 的pH=9,在恒溫振蕩器中恒溫振蕩5~6h,使接枝微粒對苦參堿類物質的吸附 達到飽和,濾出微粒,真空干燥,取1~2g飽和吸附了苦參堿的接枝微粒,置 于濃度為8~10mmol/L苦參堿類物質的體積濃度為50%的乙醇水溶液中,用稀 氫氧化鈉溶液調節體系的pH=9,加入0.1~0.2mL的交聯劑乙二醇二縮水甘油 醚、1,4-二氯丁烷、1,6-二氯己烷、或環氧氯丙烷,在50~60℃下攪拌反應8~ 10h,反應結束后,用含有NaCl的乙酸水溶液反復洗滌產物微粒,并用蒸餾水 與無水乙醇反復洗滌,除去苦參堿類物質模板分子,抽濾,抽真空烘干即可制 得苦參堿類物質分子印跡材料。
2.根據權利要求1所述用于苦參堿類物質分離提純的表面印跡材料的制備 方法,其特征是所述苦參堿類物質為氧化苦參堿、苦參堿、異苦參堿或羥基苦 參堿。
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