[發明專利]掩模附著單元和使用該掩模附著單元的沉積設備無效
| 申請號: | 201010114815.4 | 申請日: | 2010-02-10 |
| 公開(公告)號: | CN101812662A | 公開(公告)日: | 2010-08-25 |
| 發明(設計)人: | 成棟永;金在中 | 申請(專利權)人: | 三星移動顯示器株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 韓明星;薛義丹 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 附著 單元 使用 沉積 設備 | ||
技術領域
實施例涉及一種掩模附著單元和使用該掩模附著單元的沉積設備,更具體地說,涉及一種能夠防止掩模組件的切口變形的掩模附著單元和使用該掩模附著單元的沉積設備。
背景技術
因為平板顯示裝置(例如,液晶顯示(LCD)裝置和有機發光二極管(OLED)顯示裝置)重量輕且纖薄,所以已經將它們用作陰極射線管(CRT)顯示裝置的替代性顯示裝置。OLED顯示裝置相對于LCD顯示裝置具有許多優點。比如,與LCD顯示裝置相比,OLED顯示裝置具有更好的亮度和更大的視角,同時因為能夠去掉背光單元,所以具有超纖薄結構。
OLED顯示裝置是使用如下現象的顯示裝置,即,從陰極注入到有機薄膜的電子與從陽極注入的空穴復合,以形成激子,從而發光。
為了在由例如玻璃、不銹鋼或合成樹脂形成的基底上選擇性地形成陰極、陽極、有機薄膜等,使用光刻方法或沉積方法。沉積方法使用掩模組件,掩模組件具有包括多個切口的圖案。在光刻方法中,如果將光致抗蝕劑涂覆到基底的特定區域,然后進行濕蝕刻或干蝕刻,則在光致抗蝕劑剝離工藝或蝕刻工藝過程中會將濕氣引入到光致抗蝕劑中。因此,當有機薄膜由可能因濕氣而劣化的材料形成時,可以使用采用掩模組件的沉積方法。
OLED顯示裝置包括具有R、G和B有機發射層的OLED,以顯示全色。例如,在經由傳統的沉積方法形成OLED顯示裝置的過程中,可以在將要形成有沉積材料(例如,OLED的R、G和B有機發射層)的基底上設置具有多個開口的掩模組件。然后,可以通過掩模組件的開口將R、G和B有機發射層設置到基底上,從而在基底上沉積期望的圖案。因此,可以在基底的特定區域形成包括R、G和B有機發射層的OLED。
使用傳統的掩模組件的沉積設備可以包括掩模附著單元,掩模附著單元具有將掩模組件和基底附著的磁性材料。然而,傳統的掩模附著單元中的磁性材料會對掩模組件施加不均勻的磁力,從而導致掩模組件變形。
發明內容
因此,多個實施例涉及一種基本上克服了由于現有技術的限制和缺點產生的一個或多個問題的掩模附著單元和使用該掩模附著單元的沉積設備。
因此,一個實施例的特征在于提供這樣一種掩模附著單元和一種使用該掩模附著單元的沉積設備,即,所述掩模附著單元和所述沉積設備能夠使得掩模附著單元的磁性材料對掩模組件施加的磁力的不均勻性最小化,從而防止掩模組件的切口變形。
以上和其他特征和優點中的至少一個可以通過提供一種用于沉積設備的掩模附著單元來實現,該用于沉積設備的掩模附著單元包括:磁性組件;蓋板,與所述磁性組件隔開;磁性控制單元,至少部分地在所述磁性組件的邊緣和所述蓋板的邊緣之間。
所述磁性控制單元可以包含磁屏蔽材料或鐵素體磁性材料。
所述磁性控制單元可以包含鐵素體磁性材料,所述磁性控制單元是由鋼形成的薄膜片。
所述磁性控制單元可以與所述磁性組件的兩個表面疊置。
所述磁性控制單元的一部分可以在所述磁性組件和所述蓋板之間。
所述蓋板可以具有多個冷卻劑通道。
所述磁性組件可以包括磁板和涂覆到所述磁板的面向所述蓋板的表面的磁性材料。
所述磁性控制單元可以與所述磁性材料的兩個表面疊置,所述磁性控制單元覆蓋所述磁性材料的側表面。
所述磁性組件的所述磁性材料可以是金屬基材料。
以上和其他特征和優點中的至少一個還可以通過提供一種沉積設備來實現,所述沉積設備包括室、在所述室中的沉積源、在所述沉積源上方的掩模組件和在所述掩模組件上方的掩模附著單元,其中,所述掩模附著單元包括:磁性組件;蓋板,與所述磁性組件隔開;磁性控制單元,至少部分地在所述磁性組件的邊緣和所述蓋板的邊緣之間。
所述磁性控制單元可以包含磁屏蔽材料或鐵素體磁性材料。
所述磁性控制單元可以包含鐵素體磁性材料,所述磁性控制單元是由鋼形成的薄膜片。
所述蓋板可以具有多個冷卻劑通道。
所述磁性組件可以包括磁板和涂覆到所述磁板的面向所述蓋板的表面的磁性材料。
所述磁性組件的所述磁性材料可以是金屬基材料。
所述掩模組件可以包括具有多個開口的掩模框和至少一個圖案掩模,所述至少一個圖案掩模延伸成固定至所述掩模框。
所述圖案掩模可以是精細金屬掩模。
所述掩模框可以由金屬材料形成。
所述沉積設備還可以包括用于將所述掩模組件結合到所述室的掩模支撐件。
所述掩模支撐件可以具有多個冷卻劑通道。
附圖說明
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