[發明專利]適用于高階高密度互連積層板的覆銅箔板及其制備方法有效
| 申請號: | 201010110409.0 | 申請日: | 2010-02-10 |
| 公開(公告)號: | CN101797825A | 公開(公告)日: | 2010-08-11 |
| 發明(設計)人: | 席奎東;粟俊華;包秀銀;張東 | 申請(專利權)人: | 上海南亞覆銅箔板有限公司 |
| 主分類號: | B32B15/14 | 分類號: | B32B15/14;B32B17/02;B32B37/12;B32B37/10;C09J163/04 |
| 代理公司: | 上海正旦專利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陸飛;盛志范 |
| 地址: | 201802*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 適用于 高密度 互連 積層板 銅箔 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬電子信息技術領域,具體涉及一種適用于生產高階HDI(高密度互聯積層板) 的環氧玻璃布基覆銅箔板及其制備方法。
背景技術
伴隨著中國電子行業的蓬勃發展,電子產品不斷的改變人們的生活,不斷的融入各個 行業各個角落,電子產品的主基板覆銅箔板廣泛應用于通訊、移動通訊、電腦、儀器儀表、 數字電視、數控音響、衛星、雷達等產品。
隨著電子產品輕、薄、短、小和數字化的需求,使電子產品向小型化、多功能、高性 能與高可靠度方面發展,導致印制電路板向精細圖形、高密度、高多層化的發展,PCB行 業在線路板的生產中的線寬、線距、孔徑、孔壁等工藝的要求也均向著高集成、高密度、 高多層方向發展,于是誕生了HDI(高密度互聯積層板)。HDI的微導孔孔徑在6mil以下, 微導孔孔環環徑在0.35mm以下,接點密度在130點每平方英寸以上,布線密度在117英寸 每平方英寸以上,線寬/線距在0.1/0.1mm以下。高階HDI(十二層以上)更加精細的要求 和其在生產時需進行的高階多次熱壓,高多層壓合等特殊工藝要求,更對其主基材覆銅箔 板提出了性能上的重大考驗,尤其是高多層的壓合決定了符合需求的覆銅板必須具有高玻 璃轉化點溫度和低Z軸CTE(熱膨脹系數)、PTE(熱膨脹百分率)來控制在生產的高溫過 程中的尺寸穩定性,并同時具備優秀的耐熱性能來保證高階多次的熱壓、焊接等生產條件, 另外還有機械加工性、吸水率、耐CAF(離子遷移)性等等,各項可靠度性能均要全面保 證。開發一款完全滿足高階HDI(高密度互聯積層板)生產所需條件的高性能覆銅箔板是 目前覆銅箔板技術發展的關鍵點之一。
以往的FR-4普通TG(玻璃化溫度)及中TG產品的玻璃化溫度均在160℃以下;Z軸 CTE值約為50/290、PTE約3.2%;耐熱性僅能保證T260大于30分鐘,T288大于10分鐘, TD(熱分解溫度)大于325℃。這些非常重要的性能點均已經無法滿足高階HDI產品的需 求,本發明提及的這種高性能環氧玻璃布基覆銅箔板的TG點高達175℃;Z軸CTE低達 39/244,PTE低達2.8%;耐熱性方面TD大于340℃,T260大于60分鐘,T288達20分鐘, 另外綜合優良的機械加工性、吸水率、耐CAF性等特點,可完全滿足高階HDI產品的生產 需求。
發明內容
本發明的目的在于提出一種適用于高階HDI(高密度互聯積層板)的高玻璃化溫度型 環氧玻璃布基覆銅箔板及其制備方法。
本發明提出的適用于高階HDI(高密度互聯積層板)的高玻璃化溫度型環氧玻璃布基 覆銅箔板,由多官能團環氧樹脂和輔料以適當配比調制后的粘合劑,涂覆上膠于玻璃纖維 布之上,再覆上銅箔經熱壓而制備獲得,板厚為0.05~3.2mm,所用銅箔厚度為1/3oz~5oz。
本發明的環氧玻璃布基覆銅箔板的制備方法如下:
1.調膠:
膠水(即粘合劑)的組成成分按質量配比如下:
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海南亞覆銅箔板有限公司,未經上海南亞覆銅箔板有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010110409.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





