[發(fā)明專利]用于熒光分析儀上的X射線檢測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010108168.6 | 申請(qǐng)日: | 2010-02-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101782537A | 公開(公告)日: | 2010-07-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙建軍;周俊武;李杰;趙宇;徐寧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京礦冶研究總院 |
| 主分類號(hào): | G01N23/223 | 分類號(hào): | G01N23/223 |
| 代理公司: | 北京凱特來(lái)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11260 | 代理人: | 鄭立明;趙鎮(zhèn)勇 |
| 地址: | 100044 北京市*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 熒光 分析 射線 檢測(cè) 方法 | ||
1.一種用于熒光分析儀上的X射線檢測(cè)方法,其特征在于,它是波長(zhǎng)色散和能量色 散相結(jié)合的檢測(cè)方法,包括步驟:
A、利用布拉格定律將被測(cè)對(duì)象的特征X射線分離出來(lái);
B、對(duì)分離出來(lái)的特征X射線用X射線探測(cè)器檢測(cè),得到光譜數(shù)據(jù);
C、將步驟A中得到的分離后的特征X射線的光譜數(shù)據(jù)用能量色散的方法進(jìn)行處理
D、對(duì)分離前的特征X射線用另外的X射線探測(cè)器檢測(cè),得到光譜數(shù)據(jù);
E、將步驟D中檢測(cè)到的分離前的特征X射線的光譜數(shù)據(jù)用能量色散的方法進(jìn)行處理;
F、用步驟E中處理后的數(shù)據(jù)對(duì)步驟C中的數(shù)據(jù)進(jìn)行修正,用于對(duì)步驟A中分離出來(lái)的 被測(cè)對(duì)象進(jìn)行分析。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于熒光分析儀上的X射線檢測(cè)方法,其特征在于,所述步 驟F之后還包括步驟:
用步驟E中處理后的數(shù)據(jù)對(duì)步驟A中未被分離出來(lái)的元素進(jìn)行分析。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于熒光分析儀上的X射線檢測(cè)方法,其特征在于,所述未 被分離出來(lái)的元素指低品位元素和/或非金屬元素。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于熒光分析儀上的X射線檢測(cè)方法,其特征在于,所述用 能量色散的方法進(jìn)行處理包括:
根據(jù)先驗(yàn)知識(shí),對(duì)于不存在譜峰重疊的特征X射線,用高斯擬合方法進(jìn)行處理;對(duì)存 在譜峰重疊的情況,進(jìn)行譜峰分解處理。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的用于熒光分析儀上的X射線檢測(cè)方法,其特征在 于,最后還包括步驟:
當(dāng)被測(cè)對(duì)象物理性質(zhì)有一定變化時(shí),根據(jù)步驟C或步驟E處理后的數(shù)據(jù)建立品位分析 模型。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N23-00 利用未包括在G01N 21/00或G01N 22/00組內(nèi)的波或粒子輻射來(lái)測(cè)試或分析材料,例如X射線、中子
G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射,例如,用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu);利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
G01N23-221 ..利用活化分析法
G01N23-223 ..通過(guò)用X射線輻照樣品以及測(cè)量X射線熒光





