[發(fā)明專利]半導(dǎo)體裝置及其制造方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010108017.0 | 申請(qǐng)日: | 2010-01-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101834148A | 公開(公告)日: | 2010-09-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 能木孝男;木谷智之;東條啟;菅謙太郎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社東芝 |
| 主分類號(hào): | H01L21/50 | 分類號(hào): | H01L21/50;H01L21/60;H01L23/482 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 金春實(shí) |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 裝置 及其 制造 方法 | ||
(相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
本申請(qǐng)基于并要求以2009年3月11日提交的在先日本專利申請(qǐng)2009-58708為優(yōu)先權(quán),在此引入其全部內(nèi)容作為參考。)
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體裝置及其制造方法。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有技術(shù)中,已有在Cu襯底上安裝源絲線鍵合(wire?bonding)用的金屬塊(block)而制造半導(dǎo)體封裝的方法(例如,參照專利文獻(xiàn)1)。
但是,在專利文獻(xiàn)1中公開的半導(dǎo)體裝置的結(jié)構(gòu),由于必須有鍵合絲線,所以存在半導(dǎo)體裝置整體上大型化,且制造工時(shí)多、成本高的問題。
另外,在現(xiàn)有技術(shù)中,已有如下半導(dǎo)體裝置,即,該半導(dǎo)體裝置具有:在第一主面上配置引出了絲線的凸塊(bump)、在與上述第一主面相反側(cè)的面上經(jīng)由第一導(dǎo)電物與第一金屬電極相接、用絕緣物覆蓋外側(cè)面的半導(dǎo)體元件,并且從上述凸塊引出的絲線經(jīng)由第二導(dǎo)電物與第二金屬電極連接(例如,參照專利文獻(xiàn)2)。
但是,在專利文獻(xiàn)2中公開的半導(dǎo)體裝置,半導(dǎo)體元件未配置在半導(dǎo)體裝置的中央部,而是配置在第一金屬電極側(cè)。由此,存在在移動(dòng)半導(dǎo)體裝置時(shí)半導(dǎo)體元件受到的沖擊大的問題。而且,上述導(dǎo)電物由導(dǎo)電性樹脂或高熔點(diǎn)焊料等構(gòu)成,上述金屬電極由Al、Cu、Au或包含它們的合金等構(gòu)成,所以存在半導(dǎo)體裝置整體上大型化,且成本高的問題。
<專利文獻(xiàn)1>日本特開平5-347324號(hào)公報(bào)
<專利文獻(xiàn)2>日本特開2000-252235號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方案,提供一種半導(dǎo)體裝置的制造方法,該半導(dǎo)體裝置包括:半導(dǎo)體元件,該半導(dǎo)體元件具有:相互對(duì)置的第一面和第二面、和在上述第一面上設(shè)置的電極;第一外部電極,該第一外部電極,與上述半導(dǎo)體元件的上述第一面相對(duì)置,具有:與上述第一面大致平行的第一主面、與上述第一主面大致垂直的第一側(cè)面、和向與上述第一主面垂直的方向突出且與在上述半導(dǎo)體元件的上述第一面上設(shè)置的電極連接的凸部;第二外部電極,該第二外部電極,與上述半導(dǎo)體元件的上述第二面相對(duì)置,具有:與上述第二面大致平行的第二主面、與上述第二主面大致垂直的第二側(cè)面、和作為上述第二主面的相反側(cè)的面且大小與上述第二主面實(shí)質(zhì)上相同的相反面;以及絕緣體,覆蓋上述半導(dǎo)體元件和上述第一外部電極的上述凸部;且把上述第一側(cè)面和上述第二側(cè)面作為安裝面,上述半導(dǎo)體元件配置在上述第一外部電極與上述第二外部電極之間,該制造方法的特征在于包括:在上述第一面的上述電極的每一個(gè)上,形成由導(dǎo)電體構(gòu)成的上述凸部的工序,上述第一面的上述電極設(shè)置在形成于半導(dǎo)體晶片上的多個(gè)上述半導(dǎo)體元件的上述半導(dǎo)體晶片的表面?zhèn)龋?!-- SIPO
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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