[發(fā)明專利]掩模檢查裝置和方法以及虛擬圖產(chǎn)生裝置和方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201010107033.8 | 申請(qǐng)日: | 2010-01-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101826475A | 公開(公告)日: | 2010-09-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙贊衡;閔卿旭 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星移動(dòng)顯示器株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L21/66 | 分類號(hào): | H01L21/66;H01L21/00;H01L51/56;G01N21/88;C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司: | 北京德琦知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018 | 代理人: | 羅正云;王琦 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢查 裝置 方法 以及 虛擬 產(chǎn)生 | ||
1.一種掩模檢查裝置,用于檢查以期望圖案進(jìn)行沉積中所用到的具有 多個(gè)開口的掩模,所述裝置包括:
檢測(cè)單元,檢測(cè)所述掩模的所述多個(gè)開口中的每一個(gè)的邊界線;
存儲(chǔ)單元,存儲(chǔ)與待被利用所述掩模執(zhí)行沉積的部件有關(guān)的信息;
設(shè)置單元,利用所存儲(chǔ)的與待被執(zhí)行沉積的部件有關(guān)的信息為所述多個(gè) 開口中的每一個(gè)設(shè)置第一邊界線、第二邊界線和安全區(qū)域,其中所述第一邊 界線形成相應(yīng)的開口的沉積區(qū)域的輪廓,所述第二邊界線包圍所述第一邊界 線,所述安全區(qū)域插入在所述第一邊界線與所述第二邊界線之間;以及
控制單元,確定被所述檢測(cè)單元檢測(cè)的所述掩模的所述多個(gè)開口中的每 一個(gè)的被檢測(cè)到的邊界線是否不接觸相應(yīng)的第一邊界線和相應(yīng)的第二邊界 線并且所述被檢測(cè)到的邊界線是否存在于相應(yīng)的安全區(qū)域中,
其中所述與待被執(zhí)行沉積的部件有關(guān)的信息包括與基板、所述基板上的 室和子像素以及所述子像素之間的間距有關(guān)的信息。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模檢查裝置,其中所述設(shè)置單元根據(jù)所述 與待被執(zhí)行沉積的部件有關(guān)的信息將所述第一邊界線、所述第二邊界線和所 述安全區(qū)域設(shè)置為虛擬圖。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模檢查裝置,其中所述檢測(cè)單元是電荷耦 合器件照相機(jī)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模檢查裝置,進(jìn)一步包括輸出單元,用于 輸出與所述多個(gè)開口中的一些開口有關(guān)的信息,其中所述一些開口的被檢測(cè) 到的邊界線接觸相應(yīng)的第一邊界線和相應(yīng)的第二邊界線中的至少一個(gè)并且 不存在于相應(yīng)的安全區(qū)域中。
5.一種檢查掩模的方法,所述掩模具有多個(gè)開口并用于以期望圖案進(jìn) 行沉積,所述方法包括:
準(zhǔn)備以期望的圖案進(jìn)行沉積中所用到的具有多個(gè)開口的所述掩模,所述 多個(gè)開口以預(yù)定的圖案形成;
根據(jù)與待被執(zhí)行沉積的部件有關(guān)的信息為所述多個(gè)開口中的每一個(gè)設(shè) 置第一邊界線、第二邊界線和安全區(qū)域,其中所述第一邊界線形成相應(yīng)的開 口的沉積區(qū)域的輪廓,所述第二邊界線包圍所述第一邊界線,所述安全區(qū)域 在所述第一邊界線與所述第二邊界線之間;以及
確定所述掩模的所述多個(gè)開口中的每一個(gè)的被檢測(cè)到的邊界線是否不 接觸相應(yīng)的第一邊界線和相應(yīng)的第二邊界線并且所述被檢測(cè)到的邊界線是 否存在于相應(yīng)的安全區(qū)域中,
其中所述與待被執(zhí)行沉積的部件有關(guān)的信息包括與基板、在所述基板上 的室和子像素以及所述子像素之間的間距有關(guān)的信息。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢查掩模的方法,其中在設(shè)置所述第一邊界 線、所述第二邊界線和所述安全區(qū)域的過(guò)程中,根據(jù)所述與待被執(zhí)行沉積的 部件有關(guān)的信息將所述第一邊界線、所述第二邊界線和所述安全區(qū)域存儲(chǔ)為 虛擬圖。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢查掩模的方法,其中使用檢測(cè)單元來(lái)檢測(cè) 所述多個(gè)開口的被檢測(cè)到的邊界線。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的檢查掩模的方法,其中所述檢測(cè)單元是電荷 耦合器件照相機(jī)。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢查掩模的方法,進(jìn)一步包括在執(zhí)行所述確 定之后,輸出與所述多個(gè)開口中被檢測(cè)到的邊界線不存在于相應(yīng)的安全區(qū)域 中的那些開口有關(guān)的信息。
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H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
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