[發明專利]由含銅溶液制備氧化銅的方法

無效

• 申請號: 201010106308.6
• 申請日: 2010-01-22
• 公開（公告）號: CN102134090A
• 公開（公告）日: 2011-07-27
• 發明（設計）人: 江德馨
• 申請（專利權）人: 聯鼎電子科技有限公司
• 主分類號: C01G3/02
• 分類號: C01G3/02
• 代理公司: 北京市中聯創和知識產權代理有限公司 11364
• 代理人: 高龍鑫

1.一種由含銅溶液制備氧化銅的方法，包括下列步驟：

取得該含銅溶液；

調整該含銅溶液的pH值以形成具有一第一pH值的一第一含銅溶液，其中在該第一pH值的條件下，該含銅溶液的一鐵離子形成一含鐵沉淀物以進行分離。

調整該第一含銅溶液的該第一pH值以形成具有一第二pH值的一第二含銅溶液及一第一含銅沉淀物；

將該第一含銅沉淀物形成具有一第三pH值的一第三含銅溶液及一第二含銅沉淀物；以及

分離該第三含銅溶液及該第二含銅沉淀物，其中該第二含銅沉淀物包括氧化銅。

2.如權利要求1所述的由含銅溶液制備氧化銅的方法，其特征在于，該第一pH值介于3至6。

3.如權利要求2所述的由含銅溶液制備氧化銅的方法，其特征在于，該第二pH值介于7至8.5。

4.如權利要求3所述的由含銅溶液制備氧化銅的方法，其特征在于，該第三pH值介于11至13.5。

5.如權利要求1或2中任一項所述的由含銅溶液制備氧化銅的方法，其特征在于，在調整該含銅溶液的pH值以形成具有該第一pH值的該第一含銅溶液步驟中，還包括下列步驟：

加入一電荷增強劑至該一含銅溶液；

加入一高分子凝集劑至該含銅溶液；以及

過濾該含銅溶液。

6.如權利要求5所述的由含銅溶液制備氧化銅的方法，其特征在于，在過濾該含銅溶液以移除該鐵化物并形成具有該第一pH值的該第一含銅溶液步驟后，還包括下列步驟：

加入一活性炭至該第一含銅溶液中并在充分接觸反應后移除該活性炭。

7.如權利要求1或3中的任一項所述的由含銅溶液制備氧化銅的方法，其特征在于，該第一含銅沉淀物包括堿式氯化銅、氧化銅和/或其它銅化合物。

8.如權利要求1所述的由含銅溶液制備氧化銅的方法，其特征在于，在調整該第一含銅溶液的該第一pH值以形成具有該第二pH值的該第二含銅溶液及該第一含銅沉淀物步驟后，還包括下列步驟：

分離該第二含銅溶液及該第一含銅沉淀物，并移除該第二含銅溶液；以及

將該第一含銅沉淀物水洗后再移除該第一含銅沉淀物的水分。

9.如權利要求1或8中任一項所述的由含銅溶液制備氧化銅的方法，其特征在于，該第二含銅沉淀物還包括氫氧化銅，且在分離該第三含銅溶液及該第二含銅沉淀物的步驟后，還包括下列步驟：

將該第二含銅沉淀物水洗后再移除該第二含銅沉淀物的水分；以及

微波加熱該第二含銅沉淀物以得到一粗制氧化銅。

10.如權利要求9所述的由含銅溶液制備氧化銅的方法，其特征在于，在微波加熱該第二含銅沉淀物以得到該粗制氧化銅步驟后，還包括下列步驟：

粉碎該粗制氧化銅以形成一氧化銅粉末，其中該氧化銅粉末的粒徑介于100目至250目之間；

將該氧化銅粉末置于水中并進行超聲波清洗；以及

將該氧化銅粉末移除水分。

11.如權利要求10所述的由含銅溶液制備氧化銅的方法，其特征在于，在將該氧化銅粉末移除水分步驟中，使用一離心分離機使該氧化銅粉末去除水分和/或以一低碳數醇類充分接觸反應該氧化銅粉末并再分離以去除該氧化銅粉末所含的水分。

12.如權利要求1所述的由含銅溶液制備氧化銅的方法，其特征在于，該含銅溶液為一電路板制備過程中的一蝕刻廢液及一微蝕刻廢液。