[發明專利]光記錄介質用物鏡的檢查方法無效
| 申請號: | 201010105914.6 | 申請日: | 2010-01-25 |
| 公開(公告)號: | CN101840712A | 公開(公告)日: | 2010-09-22 |
| 發明(設計)人: | 勝間敏明 | 申請(專利權)人: | 富士能株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/135 | 分類號: | G11B7/135;G01M11/02 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 李貴亮 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 記錄 介質 物鏡 檢查 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種光記錄介質用物鏡的檢查方法,更詳細地涉及使用于光拾取裝置的光記錄介質用物鏡的檢查方法,該光拾取裝置將從光源出射的光會聚在光記錄介質而進行信息的記錄及再現的至少一方。
以往,為了記錄聲音信息或影像信息、或者計算機用數據信息等,利用DVD(數字通用光盤)或CD(致密盤)等光記錄介質。對該光記錄介質的數據記錄/再現通過由搭載于光拾取裝置的物鏡將來自光源的光聚光到光記錄介質而進行。近幾年,如從BD(藍光光盤)可知,光記錄介質的高密度化正在發展,所以要求以亞微米級的精度使光聚光在光記錄介質。因此,要求光拾取裝置以及用于光拾取裝置的物鏡具有高度的性能。
在專利文獻1記載有與光拾取用光集成裝置的檢查方法有關的技術。專利文獻1記載的技術是形成與高溫測量的環境等價的狀態,能夠在室溫環境下檢查與半導體激光器在高溫環境中工作時相同的信號電平的變動。
專利文獻1:日本專利公開2006-54012號公報
在光拾取裝置中,不僅對于成為光源的半導體激光器,對于使來自光源的光聚光到光記錄介質的物鏡,也需要考慮基于溫度的影響。隨著溫度變化,不僅透鏡形狀變化,折射率也發生變化,透鏡的焦距或像差也發生變化。基于這種溫度變化的影響,與塑料透鏡相比大多顯現在玻璃透鏡。在輕量化或低成本化的方面,塑料透鏡優選于玻璃透鏡,但在要求如光拾取用物鏡的高性能的透鏡上使用塑料透鏡時需要注意。
由于折射率隨著溫度而變化,因此,一般在設計透鏡時,將基于使用透鏡時的一般透鏡的周圍溫度的溫度,作為設計溫度而設定,使透鏡的形狀等最佳化。然而,檢查所制作的透鏡時的檢查溫度未必一定限制于與設計溫度一致,例如,也存在在檢查溫度25℃下檢查在設計溫度35℃下設計出的透鏡的情況。
從而,在與設計溫度不同的檢查溫度中檢查透鏡時,即使能夠以制造誤差幾乎為零的水準制造出的良品的透鏡,由于基于設計溫度和檢查溫度之差的影響,所以也存在不能與制造誤差大的不良品的透鏡相區別而難以判斷所制作的透鏡的好壞的問題。
上述專利文獻1所記載的技術是要解決基于溫度變化的影響的問題,但其對象為激光光源而不是透鏡,因此,不是解決上述的問題的技術。
發明內容
本發明是借鑒于上述情況而提出的,其目的在于,提供光記錄介質用物鏡的檢查方法,該光記錄介質用物鏡的檢查方法在設計溫度和檢查溫度不同時,能夠更加公正地辨別所制作的物鏡的好壞。
本發明的第1光記錄介質用物鏡的檢查方法,在按照使從光源出射的光通過光記錄介質的透光性的保護層而聚光在光記錄介質的預定的位置的方式對將第1溫度作為設計溫度而設計的塑料制的光記錄介質用物鏡進行檢查時,將取代保護層的檢查用平行平板插入到通過該物鏡被聚光的光的光路而進行檢查,其中,包括:求出在與第1溫度不同的第2溫度中的物鏡的形狀及折射率的第1工序;決定計算用平行平板的厚度,以便由具有在第2溫度中的形狀及折射率的物鏡、和與檢查用平行平板相同的材質且具有在第2溫度中的折射率的計算用平行平板構成的光學系統的像差變為最小的第2工序;利用與在第2工序中決定的計算用平行平板的厚度相同的厚度的檢查用平行平板,在第2溫度中對基于設計所制作的物鏡進行檢查的第3工序。
本發明的第2光記錄介質用物鏡的檢查方法,在按照使從光源出射的光通過光記錄介質的透光性的保護層而聚光在光記錄介質的預定的位置的方式對將第1溫度作為設計溫度而設計的塑料制的光記錄介質用物鏡進行檢查時,將取代保護層的檢查用平行平板插入到通過該物鏡被聚光的光的光路而進行檢查,其中,包括:求出由物鏡和與檢查用平行平板相同材質且折射率與保護層不同的計算用平行平板構成的光學系統的在第1溫度下的像差變為最小時的計算用平行平板的厚度第1工序;求出在與第1溫度不同的第2溫度下的物鏡的形狀及折射率和在第2溫度中的計算用平行平板的折射率的第2工序;計算出光學系統的像差,該光學系統由:具有在第2溫度中的形狀及折射率的物鏡和具有在第2溫度中的折射率和在第1工序求出的厚度的計算用平行平板構成的第3工序;決定計算用平行平板的厚度,使得由具有第2溫度下的形狀及折射率的物鏡和具有第2溫度下的折射率的計算用平行平板構成的光學系統的像差小于在第3工序計算出的像差的第4工序;利用與在第4工序中決定的計算用平行平板的厚度相同的厚度的檢查用平行平板,在以第2溫度檢查中根據設計所制作的物鏡的第5工序。
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