[發(fā)明專利]一種集成電路襯底噪聲的分布式抵消方法及電路無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010104730.8 | 申請日: | 2010-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN101794727A | 公開(公告)日: | 2010-08-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 梁國;劉曉鵬;郭清 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江大學(xué) |
| 主分類號: | H01L21/74 | 分類號: | H01L21/74;H01L21/82;H01L23/58 |
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| 地址: | 310027 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 集成電路 襯底 噪聲 分布式 抵消 方法 電路 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于集成電路技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種在數(shù)?;旌霞呻娐分? 襯底噪聲抵消的方法及其實現(xiàn)電路。
背景技術(shù)
隨著系統(tǒng)芯片(SoC-System?on?a?Chip)將模擬電路和大規(guī)模數(shù)字系統(tǒng) 集成在同一硅襯底上,數(shù)字電路產(chǎn)生的噪聲通過襯底耦合會干擾模擬電 路,影響模擬電路的性能。因此襯底噪聲成為SoC設(shè)計所面臨的主要問 題之一,研究和設(shè)計適用于數(shù)?;旌霞呻娐返囊r底噪聲抵消技術(shù)是非常 必要的。
常用的抑制電路噪聲的方法是在被保護電路周圍布置保護環(huán),保護環(huán) 可以吸收由多子和少子產(chǎn)生的襯底耦合電流,進入保護環(huán)內(nèi)部的噪聲也相 應(yīng)削減了。在這一基礎(chǔ)上,研究人員又提出了襯底噪聲的有源抵消方法。 該方法采用反相放大器,輸入端連接噪聲探測帶,用以感應(yīng)從數(shù)字電路傳 向模擬電路的噪聲,輸出端置于噪聲抵消帶,將經(jīng)過反相放大了的被檢測 噪聲輸出到這一噪聲抵消帶,與原來從數(shù)字電路部分傳輸來的噪聲相疊 加,使最終耦合到保護環(huán)內(nèi)模擬電路的噪聲得到削弱,實現(xiàn)噪聲抵消的功 能。這種有源噪聲抵消技術(shù)為“抵消帶法”。
但現(xiàn)有技術(shù)中抵消效果不好,仍然有較強的噪聲從數(shù)字電路傳導(dǎo)至模 擬電路。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種比現(xiàn)有技術(shù)中抵消帶法更為有效的有源襯底噪聲抵 消方法,以及實現(xiàn)電路。
一種集成電路襯底噪聲的分布式抵消方法,所述的集成電路包括集成 在同一硅襯底上的數(shù)字電路和模擬電路,且所述的模擬電路周圍布置有保 護環(huán),對所述的噪聲進行分布式抵消的步驟如下:
a)采集數(shù)字電路產(chǎn)生的噪聲信號;
b)將噪聲信號輸入反相運算放大器進行反相放大,得到噪聲抵消信 號;
c)將噪聲抵消信號并行的注入到硅襯底上靠近模擬電路的至少三個 噪聲注入點,與噪聲信號反相疊加,抵消傳遞到保護環(huán)內(nèi)的噪聲信號。
現(xiàn)有技術(shù)中采用的是“噪聲抵消帶”,而本發(fā)明將連續(xù)分布的噪聲抵 消帶改進為分布式的若干個噪聲注入點,所述的噪聲注入點所在的區(qū)域大 小一般為微米級,噪聲注入點通過重?fù)诫s形成。
步驟a)中采集數(shù)字電路產(chǎn)生的噪聲信號可以采用現(xiàn)有技術(shù)中的噪聲 探測帶,噪聲探測帶一般布置的位置是靠近數(shù)字電路,用來感應(yīng)、采集數(shù) 字電路產(chǎn)生的噪聲信號。
所述的噪聲注入點按照分布式結(jié)構(gòu)排列在噪聲探測帶與模擬電路的 保護環(huán)之間,通過金屬導(dǎo)線并聯(lián)的接入反相運算放大器的輸出端。
噪聲注入點的個數(shù)、位置根據(jù)被保護電路(模擬電路)的尺寸來確定, 實踐中通過仿真得到最佳的個數(shù)和位置。
所述的保護環(huán)一般為方形,可以是一個保護環(huán),也可以是多個保護環(huán), 尺寸依據(jù)環(huán)內(nèi)被保護的模擬IC電路的面積而定。噪聲注入點可呈直線排 列。與保護環(huán)靠近數(shù)字電路的側(cè)邊平行。
本發(fā)明還提供了一種實現(xiàn)所述的分布式抵消方法的電路,包括:
噪聲探測帶,作為感應(yīng)器設(shè)置在數(shù)字電路附近,用于采集數(shù)字電路產(chǎn) 生的噪聲信號;;
至少三個噪聲注入點;
反相運算放大器,其輸入端與噪聲探測帶連接,反相運算放大器的輸 出端與所述的噪聲注入點連接,反相運算放大器用于將噪聲探測帶感應(yīng)到 的噪聲信號反相放大,形成噪聲抵消信號,經(jīng)噪聲注入點以點的形式注入 硅襯底,與通過硅襯底耦合過來的噪聲進行反相疊加,實現(xiàn)襯底噪聲的有 源抵消。
所述的噪聲探測帶,位于靠近數(shù)字電路耦合襯底噪聲源的一側(cè),用于 感應(yīng)襯底噪聲信號。其長度根據(jù)數(shù)字電路部分的尺寸而定,要求能充分的 采樣到數(shù)字電路傳來的噪聲。其寬度可以為幾個微米范圍。在P型襯底中, 可以用重?fù)诫s的P+區(qū)形成噪聲探測帶。在N型襯底中,可以用重?fù)诫s的 N+區(qū)形成噪聲探測帶。
所述的噪聲注入點,位于噪聲探測帶與模擬電路的保護環(huán)之間。注入 點的最佳個數(shù)、位置根據(jù)被保護電路的尺寸而定。各反相噪聲注入點可排 成一直線,并與保護環(huán)最靠近數(shù)字電路的那條邊平行。在P型襯底中,采 用重?fù)诫sP+區(qū)作為分布式反相噪聲注入點。在N型襯底中,采用重?fù)诫s N+區(qū)作為分布式反相噪聲注入點。各個分布式反相噪聲注入點通過金屬 等導(dǎo)體并接在一起。
反相運算放大器,其輸入端連接噪聲探測帶,其輸出端連接分布式反 相噪聲注入點,其最佳增益根據(jù)噪聲探測帶、分布式注入點和保護環(huán)之間 的位置關(guān)系及保護環(huán)的尺寸而調(diào)整。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





