[發明專利]感射線性樹脂組合物以及層間絕緣膜及其制造方法

有效

• 申請號: 201010104136.9
• 申請日: 2010-01-27
• 公開（公告）號: CN101788767A
• 公開（公告）日: 2010-07-28
• 發明（設計）人: 花村政曉;長屋勝也;丸山拓之
• 申請（專利權）人: JSR株式會社
• 主分類號: G03F7/075
• 分類號: G03F7/075
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所 11216
• 代理人: 劉激揚

技術領域

本發明涉及感射線性樹脂組合物以及層間絕緣膜及其制造方 法。

背景技術

薄膜晶體管(以下稱為“TFT”)型液晶顯示元件及磁頭元件、 集成電路元件、固態圖像傳感器元件等電子部件，通常為了在層 狀布置的布線之間進行絕緣，設置層間絕緣膜。由于作為形成層 間絕緣膜的材料，優選為獲得必要圖案形狀所需的工序少、且具 有高度平坦性的材料，因而感射線性樹脂組合物被廣泛地使用(參 見專利文獻1和專利文獻2)。

上述電子部件中，例如TFT型液晶顯示元件，由于要經過在 上述層間絕緣膜上形成透明電極膜，再在其上形成液晶取向膜的 工序而制造，因而層間絕緣膜在透明電極膜形成工序中要經受高 溫條件，并且要經受電極圖案形成時所使用的抗蝕層剝離液，因 此，對其必須具有足夠好的耐受性。

如此制得的層間絕緣膜，在其形成時的顯影工序中，如果顯 影時間哪怕是稍微超出最佳時間，在圖案與基板之間也很容易發 生顯影液滲透而導致脫落，因此，必須嚴格控制顯影時間，并且 制品的成品率方面很成問題。

近年來，在TFT型液晶顯示元件領域，正處于大屏幕化、高 亮度化、高精細化、快速響應化、薄型化等的趨勢，作為其所用 的層間絕緣膜形成用組合物，要求具有高敏感度，并且所形成的 層間絕緣膜，要求具有比以往更優越的低介電常數、高透光率等 高性能。

這樣，在由感射線性樹脂組合物形成層間絕緣膜時，作為組 合物，要求具有高敏感度，并且，要求在形成工序中的顯影工序 中，即使當顯影時間超出所定時間時，也不會發生圖案的脫落， 而顯示良好的粘合性，且由其形成的層間絕緣膜具有高耐熱性、 高耐溶劑性、低介電常數、高透光率等。但是，滿足這種要求的 感射線性樹脂組合物迄今還是未知的。

而且，隨著近年來大屏幕電視的趨勢和生產成本降低的要求， 帶有濾色器的基板的制造中所用的基板玻璃尺寸正處于大型化的 勢頭。因此，在基板上形成層間絕緣膜時所進行的感射線性樹脂 組合物的涂敷工序中，采用以前廣泛使用的旋涂法已經很困難， 涂敷方法替換為由狹槽狀噴嘴噴出組合物而進行涂敷的所謂的縫 模涂敷法。這種縫模涂敷法，與旋涂法相比，既具有能夠減少涂 敷所需的組合物的量的優點，也有利于降低液晶顯示元件的生產 成本。但是，在這種縫模涂敷法中，在真空吸附基板的吸附狀態 下，以一定的方向掃掠涂敷嘴而進行涂敷，然后，保持在真空吸 附用的空穴中的支撐銷升起而將基板頂起，將其從涂敷臺移送到 下一工序。因此，在一連串的工序中，會出現涂膜上產生由真空 吸附用的空穴引起的斑痕、支撐銷引起的斑痕、涂敷嘴掃掠方向 上呈現的條狀斑痕等的情形，從而成為實現如上所述的高度平坦 性的障礙。

現有技術

【專利文獻】

【專利文獻1】日本特開2001-354822號公報

【專利文獻2】日本特開2001-343743號公報

發明內容

本發明是鑒于上述情況而作出的，其目的是提供一種感射線 性樹脂組合物，即使采用縫模涂敷法作為涂敷方法，也能顯示出 優良的膜厚均一性，并且具有高的射線敏感度，在顯影工序中， 具有即使超出最佳顯影時間仍能夠形成良好的圖案形狀的顯影裕 度，以及提供高耐熱性、高耐溶劑性、高透光率、低介電常數等 各種性能優良的層間絕緣膜及其制造方法。

本發明的上述目的和優點，第一，由一種感射線性樹脂組合 物達成，其含有：

(A)堿可溶性樹脂；

(B)1，2-醌二疊氮化合物(以下稱為“化合物(B)”)；以及

(C)含有(c1)下述式(1⁰)表示的化合物(以下稱為“化合物 (c1)”)、(c2)下述通式(2⁰)表示的化合物(以下稱為“化合物(c2)”) 和(c3)具有下述通式(3)表示的基團的聚合性不飽和化合物(以下稱 為“化合物(c3)”)的聚合性不飽和化合物的共聚物(以下稱為“共 聚物(C)”)。

CH₂＝CR¹COO-C_αH_2α-C_βF_2β+1??????????(1⁰)