[發明專利]單面雙層光盤及其制造方法

無效

• 申請號: 201010103716.6
• 申請日: 2010-01-27
• 公開（公告）號: CN101794598A
• 公開（公告）日: 2010-08-04
• 發明（設計）人: 范繼良;楊明生
• 申請（專利權）人: 東莞宏威數碼機械有限公司
• 主分類號: G11B7/24
• 分類號: G11B7/24;G11B7/26
• 代理公司: 廣州三環專利代理有限公司 44202
• 代理人: 張艷美;郝傳鑫

1.一種單面雙層光盤，其特征在于，包括：

空白基片；

第一記錄層，所述第一記錄層形成于所述空白基片的一表面上；

半反射層，所述半反射層形成于所述第一記錄層上；

緩沖層，所述緩沖層形成于所述半反射層上；

第二記錄層，所述第二記錄層形成于所述緩沖層上；

全反射層，所述全反射層形成于所述第二記錄層上；

紙質蓋板，所述紙質蓋板具有相對的印刷面與粘合面，及

保護膜，所述保護膜形成于所述紙質蓋板的粘合面上并與空白基片上形成的全反射層粘合。

2.如權利要求1所述的單面雙層光盤，其特征在于，所述紙質蓋板的印刷面上印刷有光盤內容標簽。

3.如權利要求1所述的單面雙層光盤，其特征在于，所述保護膜為氧化硅或氮化硅材質。

4.如權利要求1所述的單面雙層光盤，其特征在于，所述緩沖層的厚度介于43微米至55微米之間。

5.如權利要求1所述的單面雙層光盤，其特征在于，所述第一記錄層、第二記錄層的厚度均介于2微米至4微米之間。

6.一種單面雙層光盤的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)提供一空白的基片；

(2)在所述空白基片的一表面上旋涂形成第一膠水層；

(3)在所述第一膠水層上壓膜信息坑道形成第一記錄層；

(4)在所述第一記錄層上濺射形成半反射層；

(5)在所述半發射層上旋涂形成緩沖層；

(6)在所述緩沖層上旋涂形成第二膠水層；

(7)在所述第二膠水層上壓膜信息坑道形成第二記錄層；

(8)在所述第二記錄層上濺射形成全反射層；

(9)提供一紙質蓋板，所述紙質蓋板具有相對的印刷面與粘合面；

(10)在所述紙質蓋板的粘合面上形成保護膜；

(11)通過膠水將形成有保護膜的所述紙質蓋板與形成有全反射層的空白基片粘合形成單面雙層光盤。

7.如權利要求6所述的單面雙層光盤的制造方法，其特征在于，所述步驟(11)中，所述膠水旋涂于所述全反射層上。

8.如權利要求6所述的單面雙層光盤的制造方法，其特征在于，所述步驟(3)、(5)、(7)之后還進一步包括固化步驟。

9.如權利要求6所述的單面雙層光盤的制造方法，其特征在于，所述紙質蓋板的印刷面上印刷有光盤內容標簽。

10.如權利要求6所述的單面雙層光盤的制造方法，其特征在于，所述保護膜為氧化硅或氮化硅材質。

11.如權利要求6所述的單面雙層光盤的制造方法，其特征在于，所述緩沖層的厚度介于43微米至55微米之間。

12.如權利要求6所述的單面雙層光盤的制造方法，其特征在于，所述第一記錄層、第二記錄層的厚度均介于2微米至4微米之間。