[發明專利]探測值校正設備

有效

• 申請號: 201010102935.2
• 申請日: 2010-01-28
• 公開（公告）號: CN101810488A
• 公開（公告）日: 2010-08-25
• 發明（設計）人: M·貝爾特拉姆;J·維格特;S·G·維斯納
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號: A61B6/02
• 分類號: A61B6/02;A61B6/03;G06T11/00;G06T5/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 王英;劉炳勝

技術領域

本發明涉及探測值校正設備、散射貢獻提供單元和多能量成像系統。 本發明還涉及探測值校正方法、散射貢獻提供方法、多能量成像方法和相 應的計算機程序。

背景技術

WO2007/148263A1公開了一種用于生成核函數集的方法，該核函數集 用于對由成像系統記錄的物理對象的投影圖像進行卷積誤差補償，該成像 系統例如是計算機斷層攝影系統。以如此方式計算該核函數集，從而使得 對于投影圖像中的每個像素計算用于誤差補償的不對稱散射分布，從而表 示沿由X射線源到像素的射束產生的X射線散射。通過利用所生成的核函 數集執行卷積誤差補償來對投影圖像進行散射校正。如果對屬于輻射源的 不同角度位置的多個投影圖像進行散射校正，并且如果這些散射校正投影 圖像用于重建對象的圖像，那么可以減少重建圖像中由散射引起的偽影， 因而改善了重建圖像的質量。

但是，如果核函數集用于對多能量計算機斷層攝影系統的探測值執行 卷積誤差補償，那么通過利用經校正的探測值而重建的圖像仍然包括由散 射過程的光譜依賴所引起的散射偽影。

發明內容

本發明的一目的在于提供用于校正多能量成像系統的投影圖像的探測 值的探測值校正設備和探測值校正方法，其中經校正的探測值，特別是通 過利用經校正的探測值所重建的圖像，包括更少的由散射引起的偽影。本 發明的另一目的在于提供相應的散射貢獻提供單元、散射貢獻提供方法、 多能量成像系統和多能量成像方法。此外，本發明的一目的在于提供相應 的計算機程序，其用于分別地根據探測值校正方法控制探測值校正設備、 根據散射貢獻提供方法控制散射貢獻提供單元以及根據多能量成像方法控 制多能量成像系統。

在本發明的一方面中，一種探測值校正設備，其用于校正多能量成像 系統的投影圖像的探測值，該多能量成像系統包括：輻射源，用于發射橫 穿對象的輻射；以及探測單元，其包含用于生成取決于已經橫穿對象的輻 射的探測值的探測表面，其中探測值表示強度、能量和在探測表面上的位 置，其中該探測值校正設備包括：

-散射貢獻提供單元，其用于為探測值的不同強度、不同能量和在探測表 面上的不同位置提供散射貢獻，其中散射貢獻表示散射對將要校正的探測 值的貢獻，該散射由表示強度、能量和在探測表面上的位置的探測值的輻 射生成，

-散射貢獻組合單元，其用于將散射貢獻相組合以校正探測值，其中所組 合的散射貢獻表示由投影圖像的其它探測值的輻射產生的散射對將要校正 的探測值的貢獻，并且其中在考慮了其它探測值的強度、能量和在探測表 面上的位置的情況下，將散射貢獻相組合，

-校正單元，其用于利用所組合的散射貢獻來對投影圖像的探測值進行 散射校正。

由于為了校正探測值而使用組合的散射貢獻，其中所組合的散射貢獻 表示散射對將要校正的探測值的貢獻，該散射由投影圖像的其它探測值的 輻射引起，并且其中在考慮了其它探測值的強度、能量和在探測表面上的 位置的情況下，將散射貢獻相組合，因此該散射對探測值的貢獻可以認為 是能量依賴的。這允許在針對散射校正探測值的同時考慮到散射過程的光 譜依賴性，因而允許對多能量成像系統的探測值進行校正，從而使經校正 的探測值，特別是通過利用這些經校正的探測值所重建的圖像，包括更少 的由散射引起的偽影。

多能量成像系統優選是這樣的成像系統：其生成與入射至對象的輻射 的不同光譜中的至少一個以及探測單元的能量窗口相應的探測值，因而生 成光譜探測值。該多能量成像系統優選是獲取形成投影圖像的探測值的成 像系統，如C臂系統或者計算機斷層攝影系統。

優選的是，由探測值表示的能量優選是由入射至對象的輻射的光譜中 的至少一個所限定的能量光譜和探測單元的也可以視為是能量面元(energy bin)的能量窗口。因而，探測值優選表示能量光譜、強度和探測表面上的 位置，即探測值優選限定了對輻射的能量光譜所測量的強度，該輻射在各 個位置處與探測表面相交。如果輻射源相對于對象可以具有不同的位置， 那么探測值優選還表示輻射源位置，即探測值優選限定了在輻射源定位在 各個位置上的同時，對輻射的能量光譜所測量的強度，該輻射在各個位置 處與探測表面相交。

投影圖像優選是由探測表面上的探測值所形成的圖像。