[發明專利]探測值校正設備

有效

• 申請號: 201010102935.2
• 申請日: 2010-01-28
• 公開（公告）號: CN101810488A
• 公開（公告）日: 2010-08-25
• 發明（設計）人: M·貝爾特拉姆;J·維格特;S·G·維斯納
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號: A61B6/02
• 分類號: A61B6/02;A61B6/03;G06T11/00;G06T5/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 王英;劉炳勝

1.一種用于校正多能量成像系統的投影圖像的探測值（P_E(i,j)）的探 測值校正設備（10），所述多能量成像系統包括：輻射源（2），用于發射橫 穿對象的輻射；和探測單元（6），其包含探測表面，用于生成取決于已經 橫穿所述對象的所述輻射的所述探測值（P_E(i,j)），其中，探測值（P_E(i,j)） 表示強度、能量和在所述探測表面上的位置，其中，所述探測值校正設備 （10）包括：

-散射貢獻提供單元（11），其用于針對所述探測值的不同強度、不同能 量和在所述探測表面上的不同位置提供散射貢獻 （κ(R_E(k,l),ρ_E(k,l),φ_E(k,l),i-k,j-l)），其中，散射貢獻 （κ(R_E(k,l),ρ_E(k,l),φ_E(k,l),i-k,j-l)）表示散射對將要校正的所述探測值 （P_E(i,j)）的貢獻，該散射由表示強度、能量和在所述探測表面上的位置 的探測值（P_E(k,l)）的輻射生成，

-散射貢獻組合單元（30），其用于將散射貢獻 （κ(R_E(k,l),ρ_E(k,l),φ_E(k,l),i-k,j-l)）相組合以校正探測值（P_E(i,j)），其中， 經組合的散射貢獻（S_E(i,j)）表示由所述投影圖像的其它探測值（P_E(k,l)） 的輻射引起的散射對將要校正的所述探測值（P_E(i,j)）的貢獻，并且其中， 在考慮了所述其它探測值（P_E(k,l)）的強度、能量和在所述探測表面上的 位置的情況下，將所述散射貢獻（κ(R_E(k,l),ρ_E(k,l),φ_E(k,l),i-k,j-l)）相組合，

-校正單元（12），其用于通過利用經組合的散射貢獻（S_E(i,j)）來對 所述投影圖像的所述探測值（P_E(i,j)）進行散射校正。

2.如權利要求1所述的探測值校正設備，其中，所述散射貢獻提供單 元（11）適于提供散射圖像（15），其中，每個散射圖像（15）表示對所述 投影圖像的所述探測值的散射貢獻，所述投影圖像由表示強度、能量和在 所述探測表面上的位置的探測值的輻射生成。

3.如權利要求2所述的探測值校正設備，其中，所述散射貢獻提供單 元（11）適于通過模擬和/或測量由沿著通向探測值的路徑（16）穿過所述 對象的模型（19）的輻射所生成的散射來提供散射圖像（15），所述探測值 表示強度、能量和在所述探測表面上的位置。

4.如權利要求3所述的探測值校正設備，其中，所述對象的所述模型 （19）是這樣的模型：其表示a）多種材料和b）平均材料中的至少一個， 所述平均材料包含的散射特性是多種材料的散射特性的平均。

5.如權利要求2所述的探測值校正設備，其中，所述散射貢獻提供單 元（11）適于提供被參數化的散射圖像。