[發明專利]具有光學紋路的高耐磨3D轉印紙的結構與制法

無效

• 申請號: 201010101862.5
• 申請日: 2010-01-26
• 公開（公告）號: CN101875270A
• 公開（公告）日: 2010-11-03
• 發明（設計）人: 李浪
• 申請（專利權）人: 江蘇傳藝科技有限公司
• 主分類號: B41M5/42
• 分類號: B41M5/42;B41M3/12;B41M3/06;B41M7/00;B44C1/17
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 柏尚春

1.一種具有光學紋路的高耐磨3D轉印紙的結構，其特征在于：包括戴膜體(1)、光學紋路層(2)、預硬化層(3)、色墨層(4)和熱熔膠層(5)，所述戴膜體(1)上設有光學紋路層(2)，光學紋路層(2)上設有預硬化層(3)，預硬化層(3)上設有色墨層(4)，色墨層(4)上設有熱熔膠層(5)。

2.根據權利要求1所述的具有光學紋路的高耐磨3D轉印紙的結構，其特征在于：所述戴膜體(1)為壓克力樹酯(polyacrylic?resin)、聚酯樹酯(polyester?resin)、聚醋酸乙烯樹酯(polyacetate?resin)、聚氯乙烯與醋酸乙烯共聚合體(polyvinlychloride?and?acrylic?polymerization?resin)者。

3.根據權利要求1所述的具有光學紋路的高耐磨3D轉印紙的結構，其特征在于：所述戴膜體(1)可抽成薄膜(film)，且厚度在50至250micron者。

4.根據權利要求1所述的具有光學紋路的高耐磨3D轉印紙的結構，其特征在于：所述光學紋路層(2)為壓克力系、EPOXY、聚酯系等高溫硬化型等，其涂布厚度在12至50micron者。

5.根據權利要求1所述的具有光學紋路的高耐磨3D轉印紙的結構，其特征在于：所述光學紋路層(2)可以直接于基材上施以光學紋路壓紋。

6.根據權利要求1所述的具有光學紋路的高耐磨3D轉印紙的結構，其特征在于：所述光學紋路層(2)經加工轉印完后具有可離形性。

7.根據權利要求1所述的具有光學紋路的高耐磨3D轉印紙的結構，其特征在于：所述預硬化層(3)為壓克力系、EPOXY、聚酯系等常溫可干燥，其涂布厚度在8至40micron者。

8.根據權利要求1所述的具有光學紋路的高耐磨3D轉印紙的結構，其特征在于：所述色墨層(4)為壓克力系、EPOXY、聚酯系等高溫硬化型等，但為帶顏色者，其印刷厚度在3至30micron者。

9.根據權利要求1所述的具有光學紋路的高耐磨3D轉印紙的結構，其特征在于：所述熱熔膠層(5)為壓克力樹酯(polyacrylic?resin)、聚酯樹酯(polyester?resin)、環氧樹酯(epoxy.resin)等者。

10.一種具有光學紋路的高耐磨3D轉印紙的制法，其特征在于：它包括以下步驟：

(1)準備戴膜體；

(2)在戴膜體上施以透明油的印刷作業并于其上施以光學紋路(透明油)，使所需的圖形在熱塑型之基材形成一透明層；

(3)利用涂布方式或網版印刷方式印上硬化層；

(4)于透明層上施以印刷作業(例如網版、凹版印刷)，使所需的圖形在透明層上形成一色墨層；

(5)最后于印上一層熱融膠層。