[發(fā)明專利]發(fā)光器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201010004434.0 | 申請日: | 2010-01-15 |
| 公開(公告)號: | CN101840978A | 公開(公告)日: | 2010-09-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 金鮮京;宋炫暾;李鎮(zhèn)旭 | 申請(專利權(quán))人: | LG伊諾特有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 顧晉偉;王春偉 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 器件 | ||
相關(guān)申請
本申請根據(jù)35U.S.C.§119要求2009年3月17日提交的韓國專利申請No.10-2009-0022549的優(yōu)先權(quán),通過引用將其全文并入。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及發(fā)光器件及制造發(fā)光器件的相應(yīng)方法。
背景技術(shù)
氮化物半導(dǎo)體由于它們表現(xiàn)出高的熱穩(wěn)定性和寬的帶隙而用于光學(xué)器件和高功率電子器件中。然而,氮化物半導(dǎo)體發(fā)光器件的發(fā)光效率需要改善。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的一個目的是提供具有優(yōu)異光提取效率的發(fā)光器件。
本發(fā)明的另一目的是提供其中發(fā)光圖案是垂直可調(diào)的發(fā)光器件及其制造方法。
為實現(xiàn)這些及其他優(yōu)點并且根據(jù)本發(fā)明的目的,如本文所包含并且廣泛描述的那樣,本發(fā)明一方面提供一種發(fā)光器件,包括:包括第一導(dǎo)電型半導(dǎo)體層、有源層和第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層的發(fā)光結(jié)構(gòu)。在所述發(fā)光器件中還包括:在所述發(fā)光結(jié)構(gòu)上的第一光子晶體結(jié)構(gòu)、在所述第一光子晶體結(jié)構(gòu)上的下部密封物和在所述下部密封物上的第二光子晶體結(jié)構(gòu)。
通過以下給出的詳細(xì)說明,將使得其它本發(fā)明的可應(yīng)用范圍變得顯而易見。然而,應(yīng)理解,詳細(xì)描述和具體的實例表示本發(fā)明的優(yōu)選實施方案,但是給出僅僅作為示例性的,這是因為對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說,通過這些詳細(xì)的描述,可在本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)顯而易見地做出各種改變和變化。
附圖說明
通過以下給出的詳細(xì)描述和附圖,可更完全地理解本發(fā)明,所述附圖僅僅通過示例性地給出,因此本發(fā)明不限于此,其中:
圖1是根據(jù)本發(fā)明一個實施方案的發(fā)光器件的垂直截面圖;
圖2是根據(jù)本發(fā)明一個實施方案的發(fā)光器件的水平截面圖;
圖3~8是說明制造根據(jù)本發(fā)明一個實施方案的發(fā)光器件的方法的截面圖;
圖9是根據(jù)本發(fā)明另一個實施方案的發(fā)光器件的垂直截面圖;和
圖10~15是說明制造根據(jù)本發(fā)明另一個實施方案的發(fā)光器件的方法的截面圖。
具體實施方式
以下,將參考附圖描述根據(jù)實施方案的發(fā)光器件。
在以下描述中,當(dāng)層(或膜)稱為在另一層或者襯底‘上’時,其可直接在所述另一層或者襯底上,或者也可存在中間層。此外,當(dāng)層稱為在另一層‘下’時,其可直接在所述另一層下,或者也可存在一個或更多個中間層。此外,當(dāng)層稱為在兩層‘之間’時,其可以是所述兩層之間僅有的層,或者也可存在一個或更多個中間層。
圖1是根據(jù)本發(fā)明一個實施方案的發(fā)光器件的垂直截面圖。如圖所示,發(fā)光器件包括:發(fā)光結(jié)構(gòu)100、第一光子晶體結(jié)構(gòu)101、下部密封物A和第二光子晶體結(jié)構(gòu)162。此外,發(fā)光結(jié)構(gòu)100包括:第一導(dǎo)電型半導(dǎo)體層110、有源層120和第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層130(見圖3)。
如圖1所示,在發(fā)光結(jié)構(gòu)100上設(shè)置第一光子晶體結(jié)構(gòu)101,在第一光子晶體結(jié)構(gòu)101上設(shè)置下部密封物A,在下部密封物A上設(shè)置第二光子晶體結(jié)構(gòu)162。此外,第二光子晶體結(jié)構(gòu)162可包括周期或者非周期性的圖案以提高光提取效率,以下將對此更詳細(xì)地進(jìn)行描述。
此外,在圖1所示的實施方案中,下部密封物A設(shè)置于第一光子晶體結(jié)構(gòu)101和第二光子晶體結(jié)構(gòu)162之間。此外,在第二光子晶體結(jié)構(gòu)162上設(shè)置上部密封物B。下部密封物A或上部密封物B可還包括空氣或者環(huán)氧樹脂,但是不限于此。
此外,第一層150保留在發(fā)光結(jié)構(gòu)100的邊緣處,并且可由與發(fā)光結(jié)構(gòu)100相同材料族(類型)的半導(dǎo)體材料形成或者可包括介電層,但是不限于此。保留的第一層150因此支撐第二光子晶體結(jié)構(gòu)162。此外,圖2是沿線I-I’的水平截面圖,更詳細(xì)地說明圖1中發(fā)光器件的第二光子晶體結(jié)構(gòu)162。
此外,根據(jù)圖1和2中的實施方案中顯示的發(fā)光器件的結(jié)構(gòu),通過調(diào)整第一和第二光子晶體結(jié)構(gòu)101和162的圖案的周期和位置,可在垂直方向上聚光。特別地,其設(shè)置在發(fā)光結(jié)構(gòu)100上的第一光子晶體結(jié)構(gòu)101用作改善光提取效率的結(jié)構(gòu),第二光子晶體結(jié)構(gòu)162用作垂直調(diào)整光的發(fā)光圖案的結(jié)構(gòu)。因此,第一和第二光子晶體結(jié)構(gòu)101和162優(yōu)選設(shè)定為具有不同的結(jié)構(gòu)因子,例如圖案周期。
更具體地,以納米頻率發(fā)出的光(例如,460nm處的藍(lán)色光)未高效地從發(fā)光結(jié)構(gòu)發(fā)出。因此,本發(fā)明提供納米結(jié)構(gòu)例如第一和第二光子晶體結(jié)構(gòu)101和162,具有選擇的預(yù)定納米圖案周期以從發(fā)光結(jié)構(gòu)有利地提取更多光。周期指的是兩個相鄰納米結(jié)構(gòu)之間的距離。以下將更詳細(xì)地描述這些特征。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于LG伊諾特有限公司,未經(jīng)LG伊諾特有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201010004434.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





