[發明專利]排水的吸附裝置

有效

• 申請號: 201010002993.8
• 申請日: 2010-01-15
• 公開（公告）號: CN101830536B
• 公開（公告）日: 2010-09-15
• 發明（設計）人: 堤正彥;茂庭忍;山本勝也;足利伸行;海老原聰美;仕入英武;納田和彥
• 申請（專利權）人: 株式會社東芝
• 主分類號: C02F1/28
• 分類號: C02F1/28
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 陳建全

1.一種排水的吸附裝置，其特征在于，該排水的吸附裝置包括：

反應槽，其中形成有吸附劑的流化床，至少含有磷酸離子作為處理 對象物質的排水被導入到下部，以形成與排水供給或處理水排水相伴的 所述反應槽內的排水的上升流，上升的所述排水與含有水滑石粒子的吸 附劑接觸，從而使所述處理對象物質吸附在所述吸附劑上；

排水供給裝置，將含有所述處理對象物質的排水供給至所述反應 槽；

吸附劑投入裝置，將所述吸附劑投入至所述反應槽內；

處理水排出裝置，將在所述吸附劑上吸附了所述處理對象物質后的 處理水從所述反應槽排出；

吸附劑排出裝置，將吸附了所述處理對象物質的吸附劑從所述反應 槽排出；以及

吸附劑流出防止裝置，用于在所述排水中的處理對象物質與所述吸 附劑吸附的期間，防止所述吸附劑從所述反應槽內流出；其中，

所述吸附劑流出防止裝置具有使與排水供給或處理水排水相伴的 所述反應槽內的水的流動狀態發生變化的反應槽內流動狀態變化裝置；

其中，作為所述反應槽內流動狀態變化裝置，具有循環管線和循環 泵，以形成循環流，所述循環流包含方向與在所述反應槽內上升的水流 方向不同的下降流。

2.根據權利要求1所述的排水的吸附裝置，其中，作為所述反應 槽內流動狀態變化裝置，具有擋板，該擋板配置在所述反應槽內堆積著 吸附劑的吸附劑層與所述處理水排出裝置之間，以限制欲伴隨著所述反 應槽內流動的水流而流出的吸附劑的移動。

3.根據權利要求1所述的排水的吸附裝置，其中，作為所述反應 槽內流動狀態變化裝置，具有過濾膜，該過濾膜配置在所述反應槽內堆 積著吸附劑的吸附劑層與所述處理水排出裝置之間，以限制欲伴隨著所 述反應槽內流動的水流而流出的吸附劑的移動。

4.根據權利要求3所述的排水的吸附裝置，其中，還具有用于清 洗所述過濾膜的清洗裝置。

5.根據權利要求1所述的排水的吸附裝置，其中，所述吸附劑是 比重超過1且平均粒徑為0.1～20μm的非混合的水滑石的微粒。