[發(fā)明專利]鞋用鞋頭以及與其一體成形的大底

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200980160484.3
• 申請日: 2009-08-11
• 公開（公告）號: CN102469843A
• 公開（公告）日: 2012-05-23
• 發(fā)明（設計）人: 樸晟源;金慶泰
• 申請（專利權）人: 特瑞達股份有限公司
• 主分類號: A43B7/32
• 分類號: A43B7/32
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫

技術領域

本發(fā)明涉及一種鞋用鞋頭(toe?cap)以及與其一體成形的大底，具體涉及這樣一種鞋用鞋頭以及與其一體成形的大底，即，鞋頭上端呈從大腳拇指側(cè)向小腳趾側(cè)向下傾斜的形狀，鞋頭沿腳趾的外形形狀逐漸彎曲，將鞋頭與大底合為一體時，在大底前部的上表面形成能支承各腳趾的支承溝。

背景技術

一般來說，鞋子是這樣制成的。將由構成鞋子外形的鞋面包裹在根據(jù)腳形狀形成的鞋楦(鞋模)的外表面，在此狀態(tài)下將鞋底粘著在鞋面周圍下方，之后將鞋楦分離開。由此在鞋子內(nèi)部形成了與鞋楦形狀相對應的空間，這樣就制成了能讓腳穿上的鞋。

上述鞋底大致可包括：與地面接觸的大底(outsole)，與人體腳掌接觸的、一般在鞋子上都可以分離的內(nèi)底(insole)，設置在上述大底和內(nèi)底之間且與大底上端接觸的中底(midsole)。

作為本發(fā)明所涉及的大底的現(xiàn)有技術，專利文獻1公開了一種大底和用于包裹腳趾部分的鞋頭一體成形的長靴(專利文獻1)。作為與之相類似的技術，在專利文獻2公開了一種設置有鞋頭的拖鞋。該鞋頭在鞋面與鞋底一體成形的狀態(tài)下，從前端頭部向鞋面的腳背側(cè)延伸，粘著固定在鞋面的外表面上。鞋面鞋面

上述專利文獻的特征都是在鞋底，即通過使大底與包裹腳趾的鞋頭成為一體，讓鞋頭包住腳趾從而保護腳趾不受外界沖擊。

但是以前的鞋頭是將腳趾包裹起來保護，其形狀不是能將一個個腳趾分別固定住的形狀，而是將5個腳趾全部同時包裹的弓形形狀，所以不僅存在不合腳、穿著不適的問題，也存在受到強烈的外部沖擊時不能充分安全地保護腳趾的問題。

此外，具有以下缺點。由于鞋頭的整體高度都是一樣的，因此腳趾中相對最大的大腳拇趾受到壓迫會引發(fā)疼痛，嚴重時有時會引起足底筋膜炎、趾間神經(jīng)瘤這樣的疾病。對最小的小腳趾來說，小腳趾在鞋內(nèi)不能被固定住，因此會感到非常不合腳。

專利文獻1美國專利第4,294,022號

專利文獻2韓國實用新型第20-340751號

發(fā)明內(nèi)容

為了改善上述各種問題，我們希望鞋子內(nèi)部空間尤其是和腳前端相接觸的鞋頭能夠最接近人體的腳趾形狀。因此，本發(fā)明的目的在于，通過腳部解剖學的資料，制造對應于腳趾形狀的鞋頭以及與鞋頭一體成形的大底，提供一種能夠增加舒適感和合腳感，并且能夠充分保護來自外部強烈沖擊的鞋用鞋頭以及與其一體成形的大底。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的第一實施方式是一種用于包裹人體腳趾的鞋頭，其特征在于：上述鞋頭(30)上端的高度從大腳拇趾(41)部位的最高點向小腳趾部位(45)逐漸向下傾斜。

優(yōu)選地，上述鞋頭(30)上端的下斜角(D)在5°～25°的范圍內(nèi)呈圓弧狀傾斜。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的第二實施方式是一種用于包裹人體腳趾的鞋頭，其特征在于：上述鞋頭(30)沿腳趾的外形形狀呈圓弧狀，在五個腳趾(41～45)之間的四個位置上分別形成第一至第四溝部(31～34)，以支承各個腳趾。

此外，與上述鞋頭一體成形的大底(20)，其特征在于：在前方上端面上形成有支承溝(21)，以容納人體各腳趾(41)～(45)中至少一個或至少一個以上腳趾底面。

根據(jù)本發(fā)明，通過具有特別構造，即，鞋頭沿腳趾的外形形狀彎曲，鞋頭上端形成從大腳拇趾側(cè)向小腳趾側(cè)下傾的形狀，能夠分別支承固定五個腳趾，因此能夠提供良好的合腳感和舒適感，增加活動性，并通過具有凹凸形狀的構造，能夠提高鞋頭的強度，從而保護腳的安全，使其不受外界沖擊。

進一步來說，由于在與鞋頭一體成形的大底的整個上端形成有用于容納各個腳趾底面的支承溝，因此能夠提高鞋的合腳感與舒適感。

附圖說明

圖1是表示表示本發(fā)明中鞋的主要部分的立體圖。

圖2是本發(fā)明中鞋的正視圖，表示鞋頭的主要部分。

圖3是將圖2的A-A線切開的截面圖，以表示鞋頭的彎曲形狀。

圖4是表示本發(fā)明中與鞋頭一體成形的大底的局部縱向截面圖。

具體實施方式

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的第一實施方式是一種用于包裹人體腳趾的鞋頭，其特征在于：上述鞋頭(30)上端的高度從大腳拇趾(41)部位的最高點向小腳趾部位(45)逐漸向下傾斜。

優(yōu)選地，上述鞋頭(30)上端的下斜角(D)在5°～25°的范圍內(nèi)呈圓弧狀傾斜。