[發(fā)明專利]移動臺、具有移動臺的輸送裝置及帶電粒子束裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980158961.2 | 申請日: | 2009-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN102414811A | 公開(公告)日: | 2012-04-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 宗石猛;明石幸治 | 申請(專利權(quán))人: | 京瓷株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/68 | 分類號: | H01L21/68;H01L21/027 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 蔣亭 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 移動 具有 輸送 裝置 帶電 粒子束 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及在例如半導(dǎo)體制造裝置或液晶制造裝置中用于輸送試料的移動臺及具有該移動臺的輸送裝置、以及帶電粒子束裝置。
背景技術(shù)
作為在制造半導(dǎo)體設(shè)備時使用的裝置,有使用電子束或離子束的圖案描繪裝置及檢查裝置。在這些裝置中,為了使試料移動到目標位置而使用的移動臺例如在基座上配置有沿X軸方向移動的X臺,并在X臺上配置有沿Y軸方向移動的Y臺。并且,提出有一種以與X臺的移動方向平行的方式對Y臺設(shè)置滑動件,并對動力傳遞部即Y驅(qū)動軸設(shè)置由固定輥和按壓輥構(gòu)成的輥鉤部(ロ一ラフツク部)的結(jié)構(gòu)(例如,日本特開2007-184193號公報)。在該結(jié)構(gòu)中,Y驅(qū)動軸被固定于直線電動機,滑動件在固定輥與按壓輥之間能夠沿著X軸方向移動。
然而,在專利文獻1的結(jié)構(gòu)中,在滑動件與按壓輥及固定輥之間容易發(fā)生打滑,從而會產(chǎn)生Y臺的位置精度變差的問題。
因此,追求一種抑制臺的位置精度惡化的技術(shù)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一形態(tài)的移動臺具有第一臺、第二臺、生成部、動力傳遞部。第一臺能夠沿著第一方向移動。第二臺其至少一部分位于第一臺上且能夠沿著與第一方向交叉的第二方向進行移動。生成部生成用于使第二臺沿著第二方向移動的驅(qū)動力。動力傳遞部從生成部向第二臺傳遞驅(qū)動力,且至少一部分伴隨著第一臺的移動而進行動作。
本發(fā)明的一形態(tài)的輸送裝置具有移動臺和控制生成部的動作的控制器。
本發(fā)明的一形態(tài)的帶電粒子束裝置具有能夠向第二臺上載置試料的輸送裝置和設(shè)置在第二臺的上方并對試料照射帶電粒子束的帶電粒子束源。
根據(jù)本發(fā)明的一形態(tài)的移動臺及輸送裝置,能夠抑制臺的位置精度的惡化。
根據(jù)本發(fā)明的一形態(tài)的帶電粒子束裝置,能夠更高精度地向?qū)ΨQ物的所希望的位置照射帶電粒子束。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的第一實施方式的移動臺的俯視圖。
圖2是本發(fā)明的第一實施方式的移動臺的側(cè)視圖,是從圖1的箭頭A方向觀察而得到的側(cè)視圖。
圖3是圖1的B-B線處的剖視圖。
圖4是圖1的由虛線C包圍的部分的剖視圖,是圖2的D-D線的截面的俯視觀察時的圖。
圖5是本發(fā)明的第二實施方式的移動臺的俯視圖。
圖6是本發(fā)明的第二實施方式的移動臺的側(cè)視圖,是從圖5的箭頭E方向觀察而得到的側(cè)視圖。
圖7是表示圖6的F-F線處的旋轉(zhuǎn)軸的一部分及齒輪部的截面的圖。
圖8是本發(fā)明的第二實施方式的移動臺的一變形例的俯視圖。
圖9是圖8的H-H線處的旋轉(zhuǎn)軸的一部分及齒輪部的截面的從箭頭G方向觀察時的圖。
圖10是本發(fā)明的第三實施方式的移動臺的俯視圖,尤其是詳細地表示微調(diào)機構(gòu)的結(jié)構(gòu)的圖。
圖11是圖10的J-J線處的剖視圖。
圖12是本發(fā)明的第三實施方式的移動臺的一變形例的俯視圖。
圖13是詳細地表示圖12的移動臺的微調(diào)機構(gòu)的結(jié)構(gòu)的圖。
圖14是圖13的K-K線處的剖視圖。
圖15是表示本發(fā)明的輸送裝置的結(jié)構(gòu)例的俯視圖。
圖16是表示使用了本發(fā)明的實施方式的移動臺的帶電粒子束裝置的結(jié)構(gòu)例的側(cè)視圖。
具體實施方式
以下,參照附圖,詳細地說明本發(fā)明的實施方式。需要說明的是,在圖4以外的全部的附圖中標注有正交坐標系的X軸、Y軸及Z軸。而且,為了便于說明,在圖1、圖5、圖8、圖10、圖12、圖13、圖15中標注有俯視觀察移動臺1時看不見的Y滾珠絲杠17。
(第一實施方式)
如圖1-圖3所示,第一實施方式的移動臺1A具有基臺11、在基臺11上能夠沿著X軸方向呈直線狀移動的X臺12、在X臺12上能夠沿著Y軸方向呈直線狀移動的Y臺13。而且,移動臺1A具有:在基臺11的上表面以沿著X軸方向延伸的方式設(shè)置的X直線引導(dǎo)件14;在X臺12的上表面以沿著Y軸方向延伸的方式設(shè)置的Y直線引導(dǎo)件15。X臺12由X直線引導(dǎo)件14引導(dǎo),Y臺13由Y直線引導(dǎo)件15引導(dǎo)。基臺11、X臺12及Y臺13配置在由強磁性體即純鐵、低碳鋼或坡莫合金等制作的真空腔室3內(nèi)。
需要說明的是,X直線引導(dǎo)件14和Y直線引導(dǎo)件15在俯視觀察時以正交的方式設(shè)置,因此配置在移動臺1A上的晶片等試料能夠在XY平面中自如地移動。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





