[發明專利]氣相用緩釋性防菌、防霉劑和使用其的防菌、防霉方法無效
| 申請號: | 200980145465.3 | 申請日: | 2009-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN102215693A | 公開(公告)日: | 2011-10-12 |
| 發明(設計)人: | 森田雅之;森田康子;吉村建治;船津亮二 | 申請(專利權)人: | 株式會社凱美克爾 |
| 主分類號: | A01N47/46 | 分類號: | A01N47/46;A01P3/00;A61L2/20;A61L9/01;A61L9/04 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氣相用緩釋性防菌 防霉 使用 方法 | ||
1.一種氣相用防菌、防霉劑,其以通式
表示的、在使用條件下能夠氣化的異硫氰基乙酸酯化合物為有效成分;
式中的R1為分子鏈可以被氮原子或硫原子中斷的碳原子數1~6的烷基或碳原子數2~6的鏈烯基、或碳原子數7~13的芳烷基;R2為氫原子、或分子鏈可以被氮原子或硫原子中斷的碳原子數1~4的烷基。
2.根據權利要求1所述的氣相用防菌、防霉劑,其中,式中的R1為甲基、乙基、丙基或丁基。
3.根據權利要求1或2所述的氣相用防菌、防霉劑,其中,式中的R2為氫原子、甲基或乙基。
4.一種防菌、防霉方法,其特征在于,在以氣體狀態含有權利要求1~3中任一項所述的氣相用防菌、防霉劑的氣相中保存被處理物。
5.根據權利要求4所述的防菌、防霉方法,其中,氣相中所含的氣體狀態的防菌、防霉劑的濃度為0.001~10.0ppm。
6.根據權利要求4或5所述的防菌、防霉方法,其中,被處理物為透鏡。
7.根據權利要求4或5所述的防菌、防霉方法,其中,被處理物為纖維制品。
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