[發明專利]曝光裝置和光掩膜有效
| 申請號: | 200980142622.5 | 申請日: | 2009-10-22 |
| 公開(公告)號: | CN102197340A | 公開(公告)日: | 2011-09-21 |
| 發明(設計)人: | 水村通伸 | 申請(專利權)人: | 株式會社V技術 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G02F1/13;G02F1/1368;G03F1/08;H01L21/027 |
| 代理公司: | 上海市華誠律師事務所 31210 | 代理人: | 徐申民 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 裝置 光掩膜 | ||
技術領域
本發明涉及一種曝光裝置,其在一方向搬送被曝光體,并對該被曝光體間歇照射曝光光以形成曝光圖案,更加具體地,本發明涉及一種曝光裝置和光掩膜,其在同一曝光步驟中同時形成要求分辨率不同的兩種曝光圖案,提高曝光處理效率。
背景技術
以往的曝光裝置,是隔著光掩膜對以一定速度被搬送的被曝光體間歇地進行曝光光的照射,對光掩膜的掩膜圖案在規定位置曝光的曝光裝置,其通過拍攝單元拍攝由光掩膜確定的曝光位置的被曝光體的搬送方向上游側的位置,根據該拍攝圖像重合被曝光體和光掩膜,從而可控制曝光光的照射時機(例如,參照專利文獻1)。
先行技術文獻
專利文獻
專利文獻1:特開2008-76709號公報
發明內容
發明所要解決的問題
但是,在這樣的以往的曝光裝置中,由于通過垂直透過光掩膜的曝光光將形成于光掩膜的掩膜圖案直接轉印到被曝光體上,因此由于照射到光掩膜的光源光的視角(平行光半角)的存在,被曝光體上的圖案的像失焦而分辨率降低,有可能無法曝光形成微細圖案。從而,無法在同一曝光步驟中同時形成要求分辨率不同的兩種圖案。
對于這樣的問題,可以分為兩個步驟進行,即,要求分辨率高的微細圖案采用分辨率高的例如縮小投影曝光裝置曝光形成,要求分辨率低的圖案采用所述曝光裝置曝光形成,但是這樣的曝光處理效率不佳。
又,采用所述縮小投影曝光裝置,以高分辨率的狀態同時形成分辨率要求不同的兩種曝光圖案也可以,但是這樣情況下,被曝光體在二維平面內步進移動進行多面曝光。因此,對于大面積的被曝光體來說,曝光處理效率非常低。
因此,本發明為了解決上述問題,其目的在于提供一種在同一曝光步驟中同時形成要求分辨率不同的兩種曝光圖案,提高曝光處理效率。
解決問題的手段
為了達到上述目的,本發明的曝光裝置為在一個方向上搬送被曝光體,隔著光掩膜對所述被曝光體間歇地照射光源光,對應于形成于所述光掩膜的多個掩膜圖案在所述被曝光體上形成曝光圖案的曝光裝置,所述光掩膜為,在形成于透明基板的一表面的遮光膜上,在所述被曝光體的搬送方向的前后形成由要求分辨率不同的兩種掩膜圖案構成的兩個掩膜圖案群,所述透明基板的另一表面對應于所述要求分辨率不同的兩種掩膜圖案中要求分辨率高的一方的掩膜圖案形成將該一方的掩膜圖案縮小投影于所述被曝光體上的微透鏡,所述光掩膜被配置為所述微透鏡側作為所述被曝光體側。
通過這樣的結構,被曝光體在一個方向被搬送,光源光隔著光掩膜間歇地照射于被曝光體,該光掩膜在形成于透明基板的一面的遮光膜上、在被曝光體的搬送方向的前后形成有由要求分辨率不同的兩種掩膜圖案構成的兩個掩膜圖案群,要求分辨率不同的兩種掩膜圖案中,一方的掩膜圖案由對應于要求分辨率高的一方的掩膜圖案形成于透明基板的另一表面的微透鏡縮小投影到被曝光體,形成與該一方掩膜圖案對應的曝光圖案,要求分辨率不同的兩種掩膜圖案中,與要求分辨率低的另一方的掩膜圖案對應的曝光圖案形成于被曝光體上。
又,所述要求分辨率高的一方的掩膜圖案所構成的掩膜圖案群,具有在與所述被曝光體的搬送方向大致正交的方向上由所述多個掩膜圖案以規定間隔排列為一直線狀而形成的多個掩膜圖案列,位于所述被曝光體的搬送方向最下游側的所述掩膜圖案列所形成的多個曝光圖案的間隙能夠通過后續的掩膜圖案列所形成的多個曝光圖案補完,所述后續的掩膜圖案列在所述多個掩膜圖案的所述排列方向上分別錯開規定尺寸。這樣,通過具有在與被曝光體的搬送方向大致正交的方向、多個掩膜圖案以規定間隔排列形成的多個掩膜圖案列的掩膜圖案群,該掩膜圖案群是由相對位于被曝光體的搬送方向最下游側的掩膜圖案列后續的掩膜圖案列在多個掩膜圖案的排列方向上分別錯開規定尺寸形成的要求分辨率高的一方的掩膜圖案所構成的,使得位于被曝光體的搬送方向最下游側的掩膜圖案列所形成的多個曝光圖案的間隙由后續的掩膜圖案列所形成的多個曝光圖案補完。
所述被曝光體為液晶顯示裝置的TFT用基板;所述要求分辨率不同的兩種掩膜圖案中,所述一方的掩膜圖案為薄膜晶體管的電極布線圖案,另一方的掩膜圖案為向所述薄膜晶體管提供信號的信號布線圖案;所述電極布線圖案和所述信號布線圖案形成為所述電極布線圖案的曝光圖案和所述信號布線圖案的曝光圖案相互連接。這樣,將薄膜晶體管的電極布線圖案縮小投影在液晶顯示裝置的TFT用基板上,形成對應于電極布線圖案的曝光圖案,并形成與向薄膜晶體管提供信號的信號布線圖案對應的曝光圖案,在TFT用基板將兩曝光圖案相互連接。
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