[發明專利]放射氟化

無效

• 申請號: 200980142400.3
• 申請日: 2009-10-20
• 公開（公告）號: CN102186796A
• 公開（公告）日: 2011-09-14
• 發明（設計）人: M·E·格拉澤;E·阿斯塔德;R·J·奈恩
• 申請（專利權）人: 哈默史密斯網上成像有限公司;通用電氣健康護理有限公司
• 主分類號: C07B59/00
• 分類號: C07B59/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 李進;林森

1.一種放射氟化方法，所述方法包括：

(i)用適合的[¹⁸F]-氟離子源放射氟化式Ia的疊氮化物，以得到式Ib的放射氟化疊氮化物：

其中所述放射氟化在適用于所述放射氟化的溶劑中進行，并且其中：

R¹為C_1-10亞烷基、C_3-10亞環烷基、C_4-20亞環烷基-亞烷基、C_5-14亞芳基、C_6-20亞烷基-亞芳基、C_1-10亞雜烷基、C_2-10亞雜環烷基、C_3-13亞雜芳基、C_6-20亞雜烷基-亞芳基、C_6-20亞烷基-亞雜芳基或C_6-20亞雜烷基-亞雜芳基，其中R¹具有0-3個選自C_1-4烷基、C_5-10芳基、氨基、羥基、鹵素或硝基的取代基，且其中R¹任選包含一個或多個保護基；

并且LG為適合的離去基團；

(ii)還原式Ib的放射氟化疊氮化物，以得到式Ic的放射氟化胺：

H₂N-R¹-¹⁸F

(Ic)

其中所述還原在適用于所述還原的溶劑中進行，并且其中R¹如步驟(i)中定義。

2.權利要求1的方法，所述方法還包括：

(iii)使式Ic的放射氟化胺與式Id的化合物反應：

其中：

R²為選自C_1-10烷基、C_1-10雜烷基、C_3-10環烷基、C_4-20環烷基-烷基、C_5-14芳基、C_3-13雜芳基、C_6-20亞烷基-芳基、C_6-20亞雜烷基-芳基、C_6-20亞烷基-雜芳基、C_6-20亞雜烷基-雜芳基的R^*基團，其中R^*任選被一個或多個選自鹵素、氨基、羥基或硝基的取代基取代，或者R²為生物分子或納米顆粒，并且其中R²任選包含一個或多個保護基；并且

R³為適合的活化基團(AG)，以得到式IIa的放射氟化酰胺：

其中R¹如權利要求1所定義，R²如式Id所定義；

或者；

R³為R^*基團，以得到式IIb的放射氟化胺：

其中R¹如權利要求1所定義，R²如式Id所定義；

并且其中所述反應步驟(iii)在適用于所述反應步驟的溶劑中進行。

3.權利要求1或權利要求2的方法，其中R¹為C_1-6亞烷基、C_1-6亞雜烷基、C_3-10亞環烷基、C_5-14亞芳基和C_3-13亞雜芳基。

4.權利要求1至3中任一項的方法，其中LG選自Cl、Br、I、甲苯磺酸酯基(OTs)、硝基苯磺酸酯基(ONs)、對溴苯磺酸酯基(OBs)、甲磺酸酯基(OMs)和三氟甲磺酸酯基(OTf)。

5.權利要求1至4中任一項的方法，其中步驟(i)的所述適合[¹⁸F]-氟離子源為[¹⁸F]-氟離子鹽，所述氟離子鹽包含陽離子反荷離子，所述陽離子反荷離子選自銣、銫、與穴狀配體絡合的鉀或四烷基銨鹽。

6.權利要求1至5中任一項的方法，其中所述還原步驟(ii)在酸的存在下由元素銅催化。

7.權利要求2至6中任一項的方法，其中R²為R^*基團。