[發明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法

有效

• 申請號: 200980139523.1
• 申請日: 2009-10-05
• 公開（公告）號: CN102177546A
• 公開（公告）日: 2011-09-07
• 發明（設計）人: 水野高德;鈴木陽介
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84;C03C15/00;C03C19/00;C03C23/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 李帆

技術領域

本發明涉及一種硬盤驅動器(以下稱為“HDD”)等磁盤裝置所用的磁盤用玻璃基板的制造方法。

背景技術

近年來，作為適于高記錄密度化的磁盤用基板之一，使用玻璃基板。玻璃基板與金屬的基板相比剛性高，所以適于磁盤裝置的高速旋轉化。另外，玻璃基板可得到平滑且平坦的表面，所以可降低磁頭的浮起量，適于S/N比的提高和高記錄密度化。

通常，磁盤用玻璃基板通過依次實行使玻璃原料加熱熔化而預備熔融玻璃的工序、將該熔融玻璃成形為板狀的玻璃盤的工序、對成形為板狀的玻璃盤進行加工、研磨而制作玻璃基板的工序來制作。

在將熔融玻璃成形為板狀的玻璃盤時，采用壓制法、浮法等成形方法。在壓制法中，從圓柱狀的玻璃母材切斷成比磁盤用基板稍厚的厚度的玻璃盤，調整玻璃盤的形狀并且加工成所要求的平坦度及板厚。在將玻璃盤加工為所要求的平坦度及板厚的研磨工序中，使用研磨裝置將玻璃盤研磨至目標的板厚并且加工為目標的平坦度。用研磨裝置的上平臺和下平臺夾住玻璃盤，使其一邊向反方向旋轉一邊用游離磨粒(漿料)進行加工。游離磨粒使用對應于玻璃盤的規定的尺寸精度及形狀精度的粒度的磨粒，在最初的研磨加工(研磨1)中使用大的粒徑(例如平均粒徑30μm左右)的游離磨粒進行研磨，在第二次研磨加工(研磨2：精研磨工序)中使用小的粒徑(例如平均粒徑10μm左右)的游離磨粒進行研磨。

在浮法中，從利用浮法制造的板狀玻璃切出玻璃盤，調整玻璃盤的形狀并且對主表面進行研磨加工。利用浮法制造的板狀玻璃由于從最初開始主表面就被鏡面化，所以平坦度及板厚比壓制玻璃優異。因此，省略了使用大的粒徑的游離磨粒的研磨1，進行從最初開始就使用小的粒徑的游離磨粒的研磨加工(研磨2)。

作為與之相關的現有技術，例如可舉出特開2002-55061號公報。

現有技術文獻

專利文獻1：特開2002-55061號公報

發明內容

發明所要解決的課題

但是，在上述研磨2的研磨加工中，如果使用粒徑比游離磨粒小的固定磨粒作為研磨墊，就可以使玻璃基板上產生的裂紋變淺，能夠減小在研磨2的研磨加工結束時的表面粗糙度。例如，使用在薄片上貼上金剛石顆粒的金剛石片作為研磨墊。因為使用的金剛石顆粒比作為游離磨粒所使用的氧化鋁類顆粒的粒徑小，所以可以使裂紋變淺，也可以減小表面粗糙度。

但是，為了像利用浮法制造的板狀玻璃那樣，對表面粗糙度為Ra＝0.01μm以下的鏡面玻璃盡可能不使表面粗糙度惡化地進行研磨，直到達到必要的平坦度，需要微細的磨粒。要使用這種微細的磨粒的研磨墊對鏡面玻璃進行加工時，必須將加工開始的加工速率抑制為非常低的速度(通常加工速率的1/5～1/10以下)，存在加工時間變長的問題。

需要說明的是，上述的研磨開始時的加工速率低的課題并不限于利用浮法制造的鏡面板玻璃，是在使用微細磨粒的研磨墊加工鏡面板玻璃的場合共同產生的問題。

本發明是鑒于這樣的問題而完成的，目的在于提供一種在用微細的固定磨粒對鏡面板玻璃的主表面進行加工時，從加工開始時就可實現高加工速率，可以縮短加工時間的磁盤用玻璃基板的制造方法。

用于解決課題的手段

本發明的磁盤用玻璃基板的制造方法的一個方式，具備使用固定磨粒將主表面為鏡面的鏡面板玻璃加工為必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，其特征在于，具備在使用所述固定磨粒的表面研磨工序之前，將所述鏡面板玻璃表面通過磨砂加工進行表面粗糙化的表面粗糙化工序。

根據該方法，由于是通過磨砂加工用簡單的方法將鏡面板玻璃表面進行表面粗糙化，因此能夠使用固定磨粒并以高的加工速率對板玻璃進行研磨加工，能夠提高生產率。

在本發明的磁盤用玻璃基板的制造方法的一個方式中，在表面粗糙化工序中所使用的處理液優選pH為4.0～7.0、且包含濃度4.0M～8.0M的氫氟酸以及緩沖劑。根據該方法，在使用固定磨粒對鏡面板玻璃表面進行加工前，將所述鏡面板玻璃表面進行表面粗糙化直到所述固定磨粒發揮研磨作用的程度時，由于使用pH4.0～pH7.0、且包含濃度4.0M～8.0M的氫氟酸以及緩沖劑的處理液，所以，在鏡面板玻璃表面形成固定磨粒掛住的凸部，可以防止鏡面板玻璃表面的固定磨粒的打滑，從利用固定磨粒的加工開始就可以實現高的加工速率。

在本發明的磁盤用玻璃基板的制造方法的一個方式中，所述處理液優選作為腐蝕反應促進劑而含有氟離子供給劑。在此，氟離子供給劑通過向HF供給氟離子成為HF₂^-，以提高所述處理液的腐蝕反應速度。