[發明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法有效
| 申請號： | 200980139523.1 | 申請日： | 2009-10-05 |
| 公開（公告）號： | CN102177546A | 公開（公告）日： | 2011-09-07 |
| 發明（設計）人： | 水野高德;鈴木陽介 | 申請（專利權）人： | HOYA株式會社 |
| 主分類號： | G11B5/84 | 分類號： | G11B5/84;C03C15/00;C03C19/00;C03C23/00 |
| 代理公司： | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磁盤 玻璃 制造 方法 | ||
1.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，具備使用固定磨粒將主表面為鏡面的鏡面板玻璃加工為必要的平坦度及表面粗糙度的表面研磨工序，其特征在于，具備在使用所述固定磨粒的表面研磨工序前，將所述鏡面板玻璃表面通過磨砂加工進行表面粗糙化的表面粗糙化工序。
2.權利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在表面粗糙化工序中所使用的處理液的pH為4.0～7.0，且包含濃度4.0M～8.0M的氫氟酸以及緩沖劑。
3.權利要求2所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述處理液作為腐蝕反應促進劑含有氟離子供給劑。
4.權利要求3所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述氟離子供給劑選自NH4F、NaF、KF及CaF2。
5.權利要求2～4任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述緩沖劑選自KOH、NaOH及NH4F。
6.權利要求5所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述緩沖劑為KOH的情況下，優選所述處理液的pH為4.0～7.0。
7.權利要求5所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述緩沖劑為NaOH的情況下，所述處理液的pH為4.5～7.0。
8.權利要求1～7任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述表面粗糙化工序將鏡面的表面粗糙度Ra為0.01μm以下的鏡面板玻璃進行表面粗糙化，使表面粗糙度Ra為2.0μm～10.0μm。
9.權利要求1～8任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在使用所述固定磨粒的表面研磨工序中，加工至表面粗糙度Ra為0.01μm以下，且平坦度為6.0μm以下。
10.權利要求1～9任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，具備在所述表面粗糙化工序前，對所述鏡面板玻璃表面進行前洗滌的前洗滌工序。
11.權利要求10所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述前洗滌在使所述磨砂加工后的所述鏡面板玻璃的板厚偏差成為10μm以下的條件下進行。
12.權利要求10或11所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述前洗滌通過化學溶液洗滌及/或擦洗洗滌來進行。
13.權利要求12所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述化學溶液洗滌使用選自酸、堿及表面活性劑的至少兩種來進行。
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