[發明專利]用于EUV微光刻的投射曝光設備的照明光學部件的場分面鏡

有效

• 申請號: 200980138463.1
• 申請日: 2009-08-31
• 公開（公告）號: CN102171616A
• 公開（公告）日: 2011-08-31
• 發明（設計）人: 阿德里安.斯泰庫;馬丁.恩德雷斯
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B5/08
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

1.一種在用于EUV微光刻的投射曝光設備(1)的照明光學部件中使用的場分面鏡(6)，用以將布置在物場(9)中的物的結構傳送到像場(13)中，所述場分面鏡(6)

-具有帶有反射表面(22)的多個場面(18)；

-其中所述場面(18)被布置為使得所述場面(18)彼此相鄰的布置分布在所述場分面鏡(6)的基平面(xy)上，

其特征在于至少兩個所述場面(18)的所述反射表面(22)到所述基平面的投影關于以下至少一個參數不同：

-尺寸；

-形狀；

-取向。

2.如權利要求1所述的場分面鏡，其特征在于在支撐板(21)上布置所述場面(18)，尤其是按行及按列彼此相鄰地布置。

3.如權利要求1或2所述的場分面鏡，其特征在于至少兩個所述場面(18)布置為關于垂直于所述場分面鏡(6)的所述基平面(xy)的軸(23；26)相對于彼此傾斜超過1°。

4.如權利要求1至3中的任一項所述的場分面鏡，其特征在于所述場面(18)到所述基平面(xy)上的投影具有部分環形。

5.如權利要求3或4所述的場分面鏡，其特征在于所述傾斜軸(23)穿過其上布置相鄰場面(18)的所述部分環形的環的中心點，從而，當關于所述傾斜軸(23)傾斜時，所述場面沿所述環的周向位移。

6.如權利要求4或5所述的場分面鏡，其特征在于在到所述基平面(xy)的投影中，所述場面(18)具有至少2mm的所述部分環的厚度，尤其是3.4mm的厚度。

7.如權利要求4至6中的任一項所述的場分面鏡，其特征在于至少兩個所述場面(18)相對于彼此、關于平行于所述部分環的半徑的軸(25)傾斜。

8.如權利要求1至7中的任一項所述的場分面鏡，其特征在于所述場面(18)的所述反射表面(23)分別由面基體(24)的端壁形成，所述面基體(24)由兩個相對的球形側壁(27、28)限制。

9.如權利要求8所述的場分面鏡，其特征在于所述面基體由所述兩個相對的球形側壁(27、28)凸形/凹形地限制。

10.如權利要求8或9所述的場分面鏡，其特征在于相鄰面基體(24)的兩個互相面對的側壁(27_x、28_y)具有相同的曲率半徑，且相對于彼此為同心。

11.如權利要求8至10中的任一項所述的場分面鏡，其特征在于所述場面(18)之一的所述面基體(24)的兩個相對側壁(27_x、28_y)具有相同的曲率半徑但不同心。

12.如權利要求8至10中的任一項所述的場分面鏡，其特征在于所述場面(18)之一的所述面基體(24)的兩個相對側壁(27_x、28_y)具有不相同的曲率半徑但同心。

13.如權利要求8至10中的任一項所述的場分面鏡，其特征在于所述面基體(24)的兩個相對側壁(27_x、28_y)不同心，所述反射表面(22)形成具有在所述周向上變化的厚度的部分環。

14.如權利要求1至13中的任一項所述的場分面鏡，其特征在于至少兩個所述場面(18a至18c)關于對稱中心半徑(29)具有不同的方位角范圍，并且尤其是關于此對稱中心半徑(29)，具有非對稱的方位角范圍。

15.如權利要求1至14中的任一項所述的場分面鏡，其特征在于相鄰場面(18₁、18₂)被布置為關于垂直于所述場分面鏡(6)的所述基平面(xy)的軸相對于彼此傾斜。

16.如權利要求15所述的場分面鏡，其特征在于所述場面(18₁、18₂)的所述反射表面(22)具有長面范圍(x)和短面范圍(y)，在所述長面范圍(x)上相鄰的且相對于彼此傾斜的所述場面(18₁、18₂)之間，產生沿所述長面范圍(x)不斷改變的中間空間(45)。