[發明專利]用于EUV微光刻的投射曝光設備的照明光學部件的場分面鏡有效
| 申請號: | 200980138463.1 | 申請日: | 2009-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN102171616A | 公開(公告)日: | 2011-08-31 |
| 發明(設計)人: | 阿德里安.斯泰庫;馬丁.恩德雷斯 | 申請(專利權)人: | 卡爾蔡司SMT有限責任公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G02B5/08 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 邱軍 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 euv 微光 投射 曝光 設備 照明 光學 部件 場分面鏡 | ||
技術領域
本發明涉及根據權利要求1的前序部分的、用于極紫外光(EUV)微光刻的投射曝光設備的照明光學部件的場分面鏡(facet?mirror)。本發明還涉及產生此類型的場分面鏡的方法、具有此類型的場分面鏡的照明光學部件、具有此類型的照明光學部件的照明系統、具有此類型的照明系統的投射曝光設備、利用此類型的投射曝光設備制造微結構或納米結構組件的方法、以及利用此類型的制造方法制造的微結構及納米結構的組件。
背景技術
此類的場分面鏡公開于WO?2007/128407A中。
此類型的場分面鏡一方面應提供均勻的物場照明,另一方面應盡可能多地將EUV光源產生的照明光導引到物場。在此情況中,場分面鏡的面有著適應于欲照明的物場的形狀及寬高比。但在同時確保均勻物場照明和高EUV通過量方面,已知場分面鏡仍需要改善,尤其是當EUV光源提供的照明光在照明束上不具有均勻的強度分布時。
發明內容
因此,本發明的目的在于開發前述類型的場分面鏡,使得均勻物場照明和高EUV通過量的同時確保符合高要求。
根據本發明,通過具有權利要求1中公開的特征的場分面鏡來實現此目的。
本發明的核心在于放棄以前所保持的邊界條件,根據該邊界條件,場面邊緣在已知場分面鏡通常呈現的支撐板法線方向上的投影相同,具體而言,是在尺寸、形狀及取向方面相同。因為允許形成不相同的投影的新自由度,所以,例如,各個單獨場面的像在迭加到物場上期間可以預先補償它們(由于成像條件)相對于彼此的可能旋轉。由于通過照明光學系統經由場面按通道(channel-wise)導引的照明光的各個通道,發生面像的此類旋轉,如本發明所認識到的。這里還可能發生場面在物場上的成像比例的變化。通過放棄場面反射表面在基平面上有相同投影的條件,也可以預先補償成像比例的變化。在成像到物場上期間,未預先補償的面像旋轉的導致物場照明的邊緣散射的不利效應,這是因為迭加在物場上的場面像不再匹配不同的實際面形,尤其是在邊緣處。場分面鏡的基平面通常由場面支撐件的支撐平面預先決定,其中彼此相鄰布置的場面分布在基平面上。此基平面通常與場分面鏡的主反射平面一致,為了照明光學系統的照明通道的分配,還可以相對于所述主反射平面獨立地傾斜布置場面。在此情況中,主反射平面為具有未傾斜場面的反射平面,即場面與支撐平面平行。
場面可被布置為在支撐板上彼此相鄰。支撐板一般平行于場分面鏡的基平面。
至少兩個場面可布置為關于垂直于場分面鏡的基平面的軸相對于彼此傾斜超過1°。相對于未傾斜起始位置的傾斜,可例如在-3°至3°之間的范圍、-2°至2°之間的范圍、或在-1°至1°之間的范圍中。此傾斜最多輕微改變場面的反射表面的傾斜位置,因此對傾斜場面向照明光學系統的照明通道的分配沒有影響或僅有輕微影響。場面的這種傾斜布置給出了先前由于設定的場面空間容納問題而拒絕的自由度,并有助于降低或甚至完全避免在場分面鏡上的場面的先前已知的占據幾何形態中所觀察到的物場照明的邊緣散射。場面關于垂直于基平面或垂直于主反射平面的軸的傾斜的本發明的自由度有助于其中避免關于軸的如下傾斜角的設計:該傾斜角位于主反射平面內,且在傾斜場面的反射表面在主反射平面上的投射面與實際反射面之間導致太大的失調。根據本發明,關于它們的制造具有有利的寬高比的場面,可被用于占據場分面鏡,而對物場照明不產生破壞的邊緣散射。此外,因此有效增加了物場的填充度以及可傳輸的光傳導率(conductance)。這對于具有大光傳導率的光源或照明系統尤其重要,其提供被填充到不同程度而無光損失的照明光瞳。關于垂直于主反射平面的傾斜軸傾斜的場面向由光瞳分面鏡的光瞳面的分配所預定的照明角的分配,導致確保發生在物場邊緣處的照明光的強度監控有最小化損失的可能性。此類型的場面可用于投射曝光設備,在投射曝光期間,在投射曝光設備內,物在物位移方向上被連續地或以步進地位移。
根據權利要求4的場分面鏡的部分環形或弧形允許相應部分環形或弓形(arcuate)的物場的良好適配的照明。可利用設計為反射鏡光學系統的投射曝光設備的下游投射光學系統對此類型的物場形狀良好地成像。
根據權利要求5的傾斜軸的布置確保各個場面的傾斜僅輕微改變此場面在主反射平面上的占據需求,這是因為傾斜最多導致面反射面的弓形或部分環形側邊緣的位置的輕微偏離。在關于此傾斜軸的傾斜期間,在關于部分圓形或弧形的周向上在前或在后的面反射表面的端面實際上僅被位移。
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