[發(fā)明專利]用于對(duì)襯底進(jìn)行化學(xué)處理的方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200980138441.5
• 申請(qǐng)日: 2009-09-29
• 公開（公告）號(hào): CN102171798A
• 公開（公告）日: 2011-08-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: A.特佩;B.舒姆;D.弗蘭克;I.施沃特利希;K.瓦斯;W.施密特
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 肖特太陽能股份公司
• 主分類號(hào): H01L21/306
• 分類號(hào): H01L21/306;H01L21/00;H01L31/18
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張濤;李家麟

1.?一種用于通過使起化學(xué)作用的液態(tài)加工介質(zhì)（26）與襯底的至少下側(cè)面的接觸來對(duì)具有下側(cè)面（12）、上側(cè)面（22）和側(cè)面（14，16，18，20）的優(yōu)選為片狀或板狀的襯底（10）進(jìn)行化學(xué)處理的方法，其中該襯底在形成襯底、襯底介質(zhì)與包圍襯底和襯底介質(zhì)的氣氛之間的三重線的同時(shí)相對(duì)于加工介質(zhì)運(yùn)動(dòng),

其特征在于，

在避免加工介質(zhì)與襯底（10）的上側(cè)面（22）接觸的情況下執(zhí)行相對(duì)運(yùn)動(dòng)；相對(duì)于襯底與加工介質(zhì)（36）之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)以所期望的高度在背向加工介質(zhì)流動(dòng)側(cè)的側(cè)面（14，16，18，20）上形成三重線（42）；和/或在存在于加工介質(zhì)中的成分的分壓方面將所述氣氛調(diào)節(jié)為使得上側(cè)面（22）保留疏水性特性或者在上側(cè)面中形成疏水性特性；以及襯底優(yōu)選地在與加工介質(zhì)相對(duì)運(yùn)動(dòng)期間被以這樣的程度旋轉(zhuǎn)，即使得三重線在化學(xué)處理期間從在上側(cè)面與側(cè)面之間延伸的每個(gè)棱邊（38）或者在側(cè)面的范圍中出發(fā)。

2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，

其特征在于，

在襯底的上側(cè)面（22）與側(cè)面（14，16，18，20）之間的背向加工介質(zhì)流動(dòng)側(cè)的棱邊（38）處形成三重線（42）。

3.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，

其特征在于，

襯底（10）在形成從襯底發(fā)出的由加工介質(zhì)構(gòu)成的尾波40的同時(shí)相對(duì)于加工介質(zhì)（26）運(yùn)動(dòng)，該尾波從棱邊（38）或者從由棱邊（38）限制的側(cè)面（14，16，18，20）發(fā)出。

4.?根據(jù)前述權(quán)利要求至少之一所述的方法，

其特征在于，

作為襯底（10）使用半導(dǎo)體襯底、尤其是硅半導(dǎo)體襯底。

5.?根據(jù)前述權(quán)利要求至少之一所述的方法，

其特征在于，

該化學(xué)處理以這樣的程度進(jìn)行，即使得襯底（10）在處理以后具有光滑的下側(cè)面和側(cè)面（12，14，16，18，20）。

6.?根據(jù)前述權(quán)利要求至少之一所述的方法，

其特征在于，

通過化學(xué)處理侵蝕1μm至100μm之間的層厚度。

7.?根據(jù)前述權(quán)利要求至少之一所述的方法，

其特征在于，

作為襯底（10）使用至少在下側(cè)面（12）和/或至少在側(cè)面（12，14，16，18，20）被摻雜的半導(dǎo)體襯底，例如具有pn結(jié)的硅襯底，并且摻雜的區(qū)域通過化學(xué)處理被除去。

8.?根據(jù)前述權(quán)利要求至少之一所述的方法，

其特征在于，

作為襯底（10）使用這樣的襯底：所述襯底在俯視圖中具有正方形、偽正方形、矩形或圓形的幾何形狀。

9.?根據(jù)前述權(quán)利要求至少之一所述的方法，

其特征在于，

作為襯底（10）使用這樣的襯底：所述襯底具有厚底d，其中50μm≤d≤500μm、尤其是100μm≤d≤200μm。

10.?根據(jù)前述權(quán)利要求至少之一所述的方法，

其特征在于，

使用具有在俯視圖中為角形幾何形狀的具有棱邊（38）的襯底（10），所述棱邊（38）的至少之一、優(yōu)選每個(gè)棱邊具有長度L，其中100mm≤L≤350mm、尤其是125mm≤L≤156mm。

11.?根據(jù)前述權(quán)利要求至少之一所述的方法，

其特征在于，

襯底（10）在側(cè)面（14，16，18，20）至少局部浸潤的情況下穿過加工介質(zhì)（26）相對(duì)于該加工介質(zhì)運(yùn)動(dòng)。

12.?根據(jù)前述權(quán)利要求至少之一所述的方法，

其特征在于，

作為加工介質(zhì)（26）使用這樣的加工介質(zhì)：所述加工介質(zhì)包含至少一種對(duì)襯底（10）具有氧化作用的含水酸以及至少一種對(duì)襯底材料的氧化物具有絡(luò)合作用的含水酸作為成分。

13.?根據(jù)前述權(quán)利要求至少之一所述的方法，

其特征在于，

作為加工介質(zhì)（26）使用這樣的加工介質(zhì)：所述加工介質(zhì)包含由H₂O、HF、HNO₃、HCl、氧化劑組成的組中的成分，所述氧化劑例如H₂O₂、NO₂、氟化銨、醋酸、硫酸、磷酸。