[發明專利]表面處理用噴嘴裝置

有效

• 申請號: 200980138209.1
• 申請日: 2009-09-15
• 公開（公告）號: CN102165098A
• 公開（公告）日: 2011-08-24
• 發明（設計）人: 屋代進
• 申請（專利權）人: 積水化學工業株式會社
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;B08B7/00;H01L21/304;H01L21/3065;H01L21/205;H01L21/31;H05H1/24
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 雒運樸

技術領域

本發明涉及用于向被處理物吹送處理氣體以便進行表面處理的噴嘴裝置。

背景技術

例如在專利文獻1中，在覆蓋等離子表面處理裝置的電極的電介質的板(供給槽形成部件)上設置有樹狀的槽。樹狀槽構成為從一個槽部分岔成兩個(多個)槽部，分岔的各槽部再分岔成兩個(多個)，多次反復進行該分岔，從而作為整體而形成為樹狀(淘汰賽程表形狀)。在上述電介質板(供給槽形成部件)的形成有上述樹狀槽的面上重疊有另一電介質板(覆蓋部件)。由此，上述樹狀槽構成處理氣體的通路。處理氣體沿上述樹狀槽的枝部分散后，經過與樹狀槽的前端側相連的開口槽被吹出。由此，可以增大處理氣體的吹出寬度。該處理氣體與被處理物接觸而進行表面處理。

專利文獻1：日本特開2004-127853號公報

專利文獻2：日本特開2002-75692號公報

專利文獻3：日本實開平5-89451號公報(圖3(b))

在上述專利文獻1等的裝置中，根據供給槽形成部件和覆蓋部件的緊貼狀態以及在處理氣體的壓力等的作用下，可認為通過樹狀槽內部時的處理氣體的一部分經過供給槽形成部件和覆蓋部件之間泄漏到外部。

發明內容

本發明是鑒于上述狀況而作出的，其目的在于提供一種表面處理裝置，該表面處理裝置彼此重疊的兩個板狀部件中的一個板狀部件的重疊面上形成有處理氣體的供給槽，可以防止處理氣體自這些板狀部件之間泄漏，從而防止對氣氛氣體的污染及對周邊裝置的腐蝕等。

為了解決上述課題，在本發明的向被處理物供給處理氣體的噴嘴裝置中，其特征在于，具有：

供給槽形成部件，其呈板狀并具有形成有處理氣體供給槽的主面和與所述主面交叉的前端面，所述處理氣體供給槽到達所述前端面；以及

覆蓋部件，其具有以覆蓋所述主面的方式與所述主面重疊的覆蓋面，

所述處理氣體供給槽與處理氣體的供給機構連接，在所述主面和所述覆蓋面中的任一方的所述處理氣體供給槽的外側部分形成有外側槽，所述外側槽與(第一)氣體吸引機構連接。

根據該特征結構，氣體吸引機構的吸引壓力被導入外側槽。利用該吸引壓力，可以使供給槽形成部件和覆蓋部件牢固地緊貼，從而可以防止處理氣體自處理氣體供給槽泄漏到供給槽形成部件和覆蓋部件的抵接面之間。即便產生了如上所述的泄漏，也可以在外側槽捕獲該泄漏氣體并自外側槽由氣體吸引機構進行吸引。因此，可以防止處理氣體自噴嘴裝置泄漏到氣氛氣體中，可以防止污染氣氛氣體、腐蝕周邊裝置。

優選所述外側槽設置成跨在所述主面或所述覆蓋面的所述外側部分的基端部和前端部之間。

由此，可以利用外側槽可靠地捕獲自上述處理氣體供給槽泄漏的處理氣體，從而能夠可靠地防止處理氣體漏出到氣氛氣體中。

優選所述外側槽延伸成將所述處理氣體供給槽的比所述前端面靠基端側的部分局部地包圍。

由此，可以利用外側槽更可靠地捕獲自上述處理氣體供給槽泄漏的處理氣體，從而能夠更可靠地防止處理氣體漏出到氣氛氣體中。

所述外側槽的所述前端面側的端部可以離開所述前端面而位于更靠基端側的位置。

所述外側槽可以到達所述前端面的位于所述處理氣體供給槽外側的部分。在所述前端面的位于所述處理氣體供給槽外側的部分，可以形成有與所述外側槽相連且沿所述前端面的寬度方向(第二方向)延伸的端槽。由此，可以使自被處理部位向所述長度方向的外側流動的已處理氣體進入所述端槽，經過所述外側槽，由所述氣體吸引機構吸引并將其排出。

優選所述表面處理用噴嘴裝置還具有第二覆蓋部件，該第二覆蓋部件覆蓋所述供給槽形成部件的與所述主面相反一側的背面，

在所述背面形成有沿所述前端面的長度方向(第一方向)延伸且到達所述前端面的背側吸引槽。由此，可以自所述背側吸引槽吸引從被處理部位向背面側方向流動的已處理氣體。

可以在所述供給槽形成部件形成有將所述外側槽和所述背側吸引槽相連的連通孔。由此，可以使自被處理部位向背面側方向流動的已處理氣體進入所述背側吸引槽，經過所述外側槽，由所述氣體吸引機構吸引并將其排出。

所述處理氣體供給槽可以包含樹狀的槽部并到達所述前端面，所述槽部與處理氣體的供給機構連接且以隨著靠近所述前端面而朝所述前端面的長度方向擴展的方式進行分岔。

根據該結構，可以利用樹狀的槽部使處理氣體朝所述前端面的長度方向分散并噴出。

優選樹狀槽部的分岔的級數為1以上。

所述表面處理用噴嘴裝置可以構成為利用罩覆蓋基端部及外周部，并在所述罩上連接第二氣體吸引機構。