[發明專利]表面處理用噴嘴裝置有效
| 申請號: | 200980138209.1 | 申請日: | 2009-09-15 |
| 公開(公告)號: | CN102165098A | 公開(公告)日: | 2011-08-24 |
| 發明(設計)人: | 屋代進 | 申請(專利權)人: | 積水化學工業株式會社 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455;B08B7/00;H01L21/304;H01L21/3065;H01L21/205;H01L21/31;H05H1/24 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 雒運樸 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 表面 處理 噴嘴 裝置 | ||
1.一種表面處理用噴嘴裝置,向被處理物供給處理氣體,該表面處理用噴嘴裝置的特征在于,具有:
供給槽形成部件,其呈板狀并具有形成有處理氣體供給槽的主面和與所述主面交叉的前端面,所述處理氣體供給槽到達所述前端面;以及
覆蓋部件,其具有以覆蓋所述主面的方式與所述主面重疊的覆蓋面,
所述處理氣體供給槽與處理氣體的供給機構連接,在所述主面和所述覆蓋面中的任一方的所述處理氣體供給槽的外側部分形成有外側槽,所述外側槽與氣體吸引機構連接。
2.如權利要求1所述的表面處理用噴嘴裝置,其特征在于,
所述外側槽設置成跨在所述主面或所述覆蓋面的所述外側部分的基端部和前端部之間。
3.如權利要求1所述的表面處理用噴嘴裝置,其特征在于,
所述外側槽延伸成將所述處理氣體供給槽的比所述前端面靠基端側的部分局部地包圍。
4.如權利要求1所述的表面處理用噴嘴裝置,其特征在于,
在所述前端面的比所述處理氣體供給槽靠外側的部分,形成有與所述外側槽相連且沿所述前端面的寬度方向延伸的端槽。
5.如權利要求1所述的表面處理用噴嘴裝置,其特征在于,
還具有第二覆蓋部件,該第二覆蓋部件覆蓋所述供給槽形成部件的與所述主面相反一側的背面,
在所述背面形成有沿所述前端面的長度方向延伸且到達所述前端面的背側吸引槽。
6.如權利要求5所述的表面處理用噴嘴裝置,其特征在于,
在所述供給槽形成部件形成有將所述外側槽和所述背側吸引槽相連的連通孔。
7.如權利要求1~6中任一項所述的表面處理用噴嘴裝置,其特征在于,
所述處理氣體供給槽包含樹狀的槽部并到達所述前端面,所述槽部與處理氣體的供給機構連接且以隨著靠近所述前端面而朝所述前端面的長度方向擴展的方式進行分岔。
8.如權利要求1~6中任一項所述的表面處理用噴嘴裝置,其特征在于,利用罩覆蓋基端部及外周部,并在所述罩上連接第二氣體吸引機構。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





