[發(fā)明專利]發(fā)光裝置、發(fā)光裝置的生產(chǎn)方法、和含有該發(fā)光裝置的顯示器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980137205.1 | 申請(qǐng)日: | 2009-09-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102160459A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-08-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宇佐美由久 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 富士膠片株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H05B33/02 | 分類號(hào): | H05B33/02;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 于輝 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 裝置 生產(chǎn) 方法 含有 顯示器 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及發(fā)光裝置、其生產(chǎn)方法和含有所述發(fā)光裝置的顯示器,更具體地,涉及諸如有機(jī)電致發(fā)光裝置(有機(jī)EL裝置)、無(wú)機(jī)電致發(fā)光裝置(無(wú)機(jī)EL裝置)和發(fā)光二極管(LED),它們的生產(chǎn)方法,和含有所述發(fā)光裝置的顯示器。
背景技術(shù)
例如,在如圖3所示的有機(jī)EL裝置105中,從放在反射層101上的EL發(fā)光層102發(fā)射的光束在EL發(fā)光層102和密封層103之間的空間或在密封層103和外界104之間的空間反射,導(dǎo)致光提取效率降低。
此處,關(guān)于發(fā)生光折射的界面上的光反射率,當(dāng)界面是平的時(shí),反射率取決于光的入射角和共享界面的介質(zhì)之間的折射率差異。例如,當(dāng)它們之間的折射率差異大時(shí),界面上的反射率變高。此外,當(dāng)光以大于臨界角的入射角從具有高折射率的介質(zhì)行進(jìn)至具有低折射率的介質(zhì)時(shí),100%的光被反射。
臨界角θc是當(dāng)光從具有高折射率的物質(zhì)行進(jìn)至具有低折射率的物質(zhì)時(shí)光被全反射的最小入射角,且以下列等式:θc=arcsin(n2/n1)表示,其中n1表示光行經(jīng)的物質(zhì)的折射率;n2表示光進(jìn)入的物質(zhì)的折射率;且n2<n1。
圖4是用于描述上述現(xiàn)象的說(shuō)明性視圖。在該圖中,附圖標(biāo)記111和112分別表示具有折射率n1的第一層和具有折射率n2的第二層。此處,當(dāng)光以相對(duì)于法線(標(biāo)準(zhǔn)線)的臨界角θc的入射角行進(jìn)至第一層和第二層之間的界面110時(shí),光在界面110上全反射,因此不能從第二層112提取。另外,以相對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)線的大于臨界角θc的入射角θx行進(jìn)的光也在界面110上全反射,因此不能從第二層112提取。
另外,以相對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)線的小于臨界角θc的入射角θy行進(jìn)的光透過(guò)界面110從第二層112射到第一層111。
當(dāng)光從高折射率介質(zhì)射到低折射率介質(zhì)時(shí),光全反射的發(fā)光裝置存在光提取效率低的問(wèn)題。
有鑒于此,已提出具有多種結(jié)構(gòu)的發(fā)光裝置,由此嘗試改進(jìn)光提取效率。
已提出的一種發(fā)光裝置是有機(jī)電致發(fā)光裝置,包括陽(yáng)極、陰極、一個(gè)或多個(gè)含有設(shè)置于電極之間的發(fā)光層的有機(jī)層和衍射光柵或波帶片,其中衍射光柵或波帶片設(shè)置于防止裝置中界面上的全反射的位置(參見(jiàn)專利文獻(xiàn)1)。
然而,在專利文獻(xiàn)1公開(kāi)的發(fā)光裝置中,發(fā)射的光穿過(guò)低折射率層到達(dá)衍射光柵或波帶片,因此對(duì)防止全反射產(chǎn)生限制。
此外,另一種已提出的發(fā)光裝置在和發(fā)光表面相對(duì)的背表面上含有凹凸圖案的散射層,其中散射層為了光提取而反射/散射從發(fā)光層穿過(guò)中間層射向發(fā)光表面的光(參見(jiàn)非專利文獻(xiàn)1和2)。
如圖5所示,一種常規(guī)已知的發(fā)光裝置按此順序包括含有發(fā)光部分204的發(fā)光層202、中間層205、和精細(xì)凹凸圖案206,其中中間層和精細(xì)凹凸圖案位于發(fā)光層202的第二表面203B上,所述表面和發(fā)光層的第一表面203A相對(duì)。
然而,這樣的常規(guī)發(fā)光裝置具有折射率不同的發(fā)光層和中間層(例如,發(fā)光層的折射率n:1.8,且中間層的折射率n:1.5),因此產(chǎn)生從發(fā)光層202的光提取效率因全反射而低的問(wèn)題。
具體地,從發(fā)光部分204射到發(fā)光層202的第二表面203B且入射角為大于臨界角θc的θx的光束210a在第二表面203B全反射,且不能從發(fā)光部分204提取。
此外,在發(fā)光部分204和密封層207之間的界面上朝向第二表面203B全反射且入射角是大于臨界角θc的θx的光束210b在第二表面203B全反射,且不能從發(fā)光部分204提取。
此外,在發(fā)光層202的第一表面203A上朝向第二表面203B全反射且入射角是大于臨界角θc的θx的光束210c在第二表面203B全反射,且不能從發(fā)光部分204提取。
考慮到上面所述,對(duì)于改進(jìn)了光提取效率(light-extraction?efficiency)的發(fā)光裝置存在需求。
引用列表
專利文獻(xiàn)
PTL?1:日本專利No.2991183
非專利文獻(xiàn)
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