[發(fā)明專利]發(fā)光裝置、發(fā)光裝置的生產(chǎn)方法、和含有該發(fā)光裝置的顯示器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200980137205.1
• 申請日: 2009-09-02
• 公開（公告）號: CN102160459A
• 公開（公告）日: 2011-08-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 宇佐美由久
• 申請（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: H05B33/02
• 分類號: H05B33/02;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/10
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 于輝

1.發(fā)光裝置，其按順序包括：

含有發(fā)光部分的發(fā)光層，

中間層，和

精細(xì)凹凸圖案，

其中所述中間層設(shè)置于所述發(fā)光層的第二表面上，所述第二表面和所述發(fā)光層的第一表面相對，

其中所述精細(xì)凹凸圖案具有相對于所述發(fā)光層凸出和凹進(jìn)的部分的橫截面形狀，并且所述精細(xì)凹凸圖案反射從所述發(fā)光層發(fā)射的光，和

其中所述中間層的至少一部分的折射率為0.9n到1.1n，其中n表示所述發(fā)光部分相對于具有主發(fā)光波長的光的折射率。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的發(fā)光裝置，其中所述精細(xì)凹凸圖案的間距為0.01λ到100λ，其中λ表示從所述發(fā)光層發(fā)射的光的主發(fā)光波長。

3.根據(jù)權(quán)利要求1和2中任意一項的發(fā)光裝置，其中所述發(fā)光層含有兩個或更多個所述發(fā)光部分。

4.根據(jù)權(quán)利要求1到3中任意一項的發(fā)光裝置，其中所述精細(xì)凹凸圖案由加熱模式光刻膠制成。

5.根據(jù)權(quán)利要求1到4中任意一項的發(fā)光裝置，其中所述精細(xì)凹凸圖案包括反射層。

6.根據(jù)權(quán)利要求5的發(fā)光裝置，其中所述反射層的厚度為10nm到10,000nm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1到6中任意一項的發(fā)光裝置，其中所述中間層的折射率為1.55到3.0。

8.根據(jù)權(quán)利要求1到7中任意一項的發(fā)光裝置，其中所述精細(xì)凹凸圖案的間距為50nm到10μm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1到8中任意一項的發(fā)光裝置，其中所述發(fā)光層還包括用于密封所述發(fā)光部分的密封層，并且其中所述密封層的材料是丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂、含氟樹脂、有機硅樹脂、橡膠樹脂和酯樹脂中的任意種類。

10.根據(jù)權(quán)利要求1到9中任意一項的發(fā)光裝置的生產(chǎn)方法，包括：

形成含有發(fā)光部分的發(fā)光層，

在所述發(fā)光層的第二表面上形成中間層，所述第二表面和所述發(fā)光層的第一表面相對，和

在所述中間層上形成精細(xì)凹凸圖案，所述精細(xì)凹凸圖案具有相對于所述發(fā)光層凸出和凹進(jìn)部分的橫截面形狀，并且所述精細(xì)凹凸圖案反射從發(fā)光層發(fā)射的光，

其中所述精細(xì)凹凸圖案通過加熱模式光刻形成。

11.顯示器，包括：

根據(jù)權(quán)利要求1到9中任意一項的發(fā)光裝置。