[發(fā)明專利]輻射源、光刻設備以及器件制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200980131716.2
• 申請日: 2009-07-09
• 公開（公告）號: CN102150084A
• 公開（公告）日: 2011-08-10
• 發(fā)明（設計）人: M·J·J·杰克;W·A·索爾;M·M·J·W·范赫彭;V·Y·班尼恩;A·M·雅庫尼恩
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王波波

1.一種光譜純度濾光片，配置成允許極紫外(EUV)輻射透射通過其中并且折射或反射非極紫外伴隨輻射。

2.根據(jù)權利要求1所述的光譜純度濾光片，在所述光譜純度濾光片的材料中限定至少一個孔，所述至少一個孔具有大于極紫外輻射的波長且小于非極紫外伴隨輻射的波長的橫跨尺寸。

3.根據(jù)權利要求2所述的光譜純度濾光片，其中，所述材料透射非極紫外伴隨輻射。

4.根據(jù)權利要求3所述的光譜純度濾光片，其中，所述材料形成為光學活性體，所述光學活性體提供對非極紫外伴隨輻射的有效折射率的轉變，所述至少一個孔沿第一方向延伸，所述轉變在偏離所述第一方向的方向上具有主轉變方向。

5.根據(jù)權利要求2-4中任一項所述的光譜純度濾光片，其中，所述材料的表面形成透鏡。

6.根據(jù)權利要求5所述的光譜純度濾光片，其中，所述透鏡是菲涅爾透鏡。

7.根據(jù)權利要求5所述的光譜純度濾光片，其中，所述材料的表面形成多個透鏡。

8.根據(jù)權利要求2-4中任一項所述的光譜純度濾光片，其中，使所述材料中的孔的圖案變化以形成折射率漸變的透鏡。

9.根據(jù)權利要求2-4中任一項所述的光譜純度濾光片，其中，所述材料的表面形成棱鏡。

10.根據(jù)權利要求2-4中任一項所述的光譜純度濾光片，其中，所述材料的表面形成布置用以反射入射的非極紫外伴隨輻射的結構。

11.根據(jù)權利要求2-4中任一項所述的光譜純度濾光片，其中，所述材料的表面設置有表面粗糙度以偏轉入射的非極紫外伴隨輻射。

12.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的光譜純度濾光片，其中，所述孔沿入射的極紫外輻射和非極紫外伴隨輻射的傳播方向對齊。

13.根據(jù)權利要求12所述的光譜純度濾光片，包括多個傾斜的段，所述段具有與布置用以接收入射輻射的所述段的表面基本上垂直對齊的孔。

14.根據(jù)權利要求12所述的光譜純度濾光片，其中，孔以不垂直于布置用以接收入射輻射的光譜純度濾光片的表面的角度延伸。

15.根據(jù)前述權利要求中任一項所述的光譜純度濾光片，還包括限定針孔位于輻射路徑中、光譜純度濾光片之后的主體，所述針孔布置用以接收透射的極紫外輻射并阻擋折射的或反射的非極紫外伴隨輻射。

16.一種用于光刻設備或與光刻設備一起使用的源模塊，所述源模塊構造成產(chǎn)生極紫外(EUV)輻射并輸出極紫外輻射和非極紫外伴隨輻射，所述源模塊包括根據(jù)權利要求1-14中任一項所述的光譜純度濾光片。

17.根據(jù)權利要求16所述的源模塊，其中，所述源模塊構造成將所生成的輻射會聚至中間焦點，所述光譜純度濾光片布置在光學路徑中的一位置處，其中光學純度濾光片接收所生成的輻射并且在中間焦點之前，并且其中所述光譜純度濾光片的所述至少一個孔與會聚所生成的輻射的傳播方向對齊。

18.一種光刻設備，布置成將圖案從圖案形成裝置投影至襯底上，所述光刻設備包括根據(jù)權利要求1-15中任一項所述的光譜純度濾光片和/或根據(jù)權利要求16或17所述的源模塊。

19.一種器件制造方法，包括將圖案化的極紫外(EUV)輻射束投影至襯底上，其中所述極紫外輻射通過根據(jù)權利要求1-15中任一項所述的光譜純度濾光片過濾、通過根據(jù)權利要求16或17所述的源模塊生成、或通過根據(jù)權利要求18所述的光刻設備投影。

20.一種器件制造方法，包括步驟：

使用輻射源生成包括極紫外(EUV)輻射和非極紫外伴隨輻射的輻射；

過濾輻射以允許透射極紫外輻射并折射或反射非極紫外伴隨輻射；和

將透射的極紫外輻射的圖案化的束投影至襯底上。

21.一種光刻設備，包括：

源模塊，配置成生成極紫外(EUV)輻射并輸出極紫外輻射和非極紫外伴隨輻射；

光譜純度濾光片，配置成允許極紫外輻射透射通過其中并且折射或反射非極紫外伴隨輻射；和

投影系統(tǒng)，配置成將圖案化的包括極紫外輻射的輻射束投影至襯底上。