[發(fā)明專利]數(shù)據(jù)采集有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980129818.0 | 申請日: | 2009-07-14 |
| 公開(公告)號: | CN102112054A | 公開(公告)日: | 2011-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | R·普羅克紹 | 申請(專利權(quán))人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | A61B6/03 | 分類號: | A61B6/03 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;劉炳勝 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 數(shù)據(jù) 采集 | ||
1.一種成像系統(tǒng),包括:
至少一個輻射生成源(210),其交替發(fā)射穿過檢查區(qū)域的不同輻射;
公共探測器(214),其探測穿過所述檢查區(qū)域的輻射并生成指示所述輻射的信號;
脈沖生成電路(304),其生成包括多個脈沖的脈沖序列,所述脈沖具有指示所述信號的頻率;以及
處理電子器件(220),其基于針對采樣間隔的所述脈沖序列中脈沖的數(shù)量以及所述脈沖序列中所述脈沖的電荷來確定所述至少一個輻射生成源(210)針對所述采樣間隔的信號的近似,其中,所述處理電子器件(220)計算對針對脈沖的第一范圍的所述近似的第一貢獻并估計對針對脈沖的第二范圍的所述近似的第二貢獻,所述脈沖的第一范圍從所述采樣間隔中第一個脈沖到所述采樣間隔中最后的脈沖,所述脈沖的第二范圍從所述采樣間隔中最后的脈沖到所述采樣間隔的末端,其中,基于來自所述第一貢獻的電荷估計所述第二貢獻。
2.如權(quán)利要求1所述的成像系統(tǒng),還包括:
積分電路(302),其對所述公共探測器(214)生成的所述信號進行積分,其中,所述脈沖生成電路(304)基于所述積分信號生成所述脈沖序列;以及
復(fù)位器(306),其在所述采樣間隔中的所述最后的脈沖之后使所述積分電路(302)復(fù)位,由此丟棄針對所述近似的所述第二貢獻的電荷。
3.如權(quán)利要求2所述的成像系統(tǒng),其中,丟棄針對所述第一采樣間隔的所述電荷減輕了當(dāng)確定針對用于不同輻射的后續(xù)采樣間隔的信號的第二近似時遺留所述電荷。
4.如權(quán)利要求2到3中的任一項所述的成像系統(tǒng),其中,所述復(fù)位器(306)在下一采樣間隔之前使所述積分電路(302)復(fù)位,以便所述積分電路(302)準備對所述下一采樣間隔生成的下一個信號進行積分。
5.如權(quán)利要求1到4中的任一項所述的成像系統(tǒng),還包括:
遺失數(shù)據(jù)確定器(312),其基于所述公共探測器(214)的第一衰減常數(shù)以及指示所述公共探測器(214)的第一衰減間隔的電荷來估計所述第二貢獻,在所述公共探測器(214)的第一衰減間隔期間由所述至少一個輻射生成部件(210)發(fā)射的輻射不穿過所述檢查區(qū)域。
6.如權(quán)利要求1到5中的任一項所述的成像系統(tǒng),還包括:
加法器(314),其將所述第一貢獻和所述第二貢獻相加在一起以生成近似的信號。
7.如權(quán)利要求1到6中的任一項所述的成像系統(tǒng),還包括:
部件(312),其基于所述公共探測器(214)的第二衰減常數(shù)以及指示所述公共探測器(214)的第二衰減間隔的電荷來估計對隨后的采樣間隔的余輝貢獻,在所述公共探測器(214)的第二衰減間隔期間由所述至少一個輻射生成部件(210)生成的輻射不穿過所述檢查區(qū)域。
8.如權(quán)利要求7所述的成像系統(tǒng),其中,從所述隨后的采樣間隔中的所述電荷減去估計的余輝貢獻。
9.如權(quán)利要求5到7中的任一項所述的成像系統(tǒng),還包括:
輻射源控制器(212),其有選擇地交替激活所述至少一個輻射生成源(210),其中,所述控制器(212)在使第一源(210)失效之后將第二輻射生成源(210)的激活延遲一延遲時期,并且所述衰減常數(shù)對應(yīng)于在所述延遲時期的至少子部分期間的電荷衰減。
10.如權(quán)利要求1到9中的任一項所述的系統(tǒng),其中,所述至少一個輻射生成源(210)包括在立體管構(gòu)造中的兩個輻射生成源(210),其中,每個輻射生成源(210)交替發(fā)射輻射。
11.如權(quán)利要求1到9中的任一項所述的系統(tǒng),其中,所述至少一個輻射生成源(210)包括交替發(fā)射具有不同發(fā)射譜的輻射的單個輻射生成源(210)。
12.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng),其中,所述不同發(fā)射譜對應(yīng)于不同的源發(fā)射電壓。
13.如權(quán)利要求11所述的系統(tǒng),其中,所述不同發(fā)射譜對應(yīng)于設(shè)置在所述輻射的路徑中的不同的濾波器。
14.如權(quán)利要求1到13中的任一項所述的系統(tǒng),其中,無法獲得針對所述第二貢獻的電荷。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于皇家飛利浦電子股份有限公司,未經(jīng)皇家飛利浦電子股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200980129818.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種新型影視和舞臺照明燈具
- 下一篇:一種板面帶凹槽的真空絕熱板及其制備方法
- 數(shù)據(jù)顯示系統(tǒng)、數(shù)據(jù)中繼設(shè)備、數(shù)據(jù)中繼方法、數(shù)據(jù)系統(tǒng)、接收設(shè)備和數(shù)據(jù)讀取方法
- 數(shù)據(jù)記錄方法、數(shù)據(jù)記錄裝置、數(shù)據(jù)記錄媒體、數(shù)據(jù)重播方法和數(shù)據(jù)重播裝置
- 數(shù)據(jù)發(fā)送方法、數(shù)據(jù)發(fā)送系統(tǒng)、數(shù)據(jù)發(fā)送裝置以及數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)
- 數(shù)據(jù)顯示系統(tǒng)、數(shù)據(jù)中繼設(shè)備、數(shù)據(jù)中繼方法及數(shù)據(jù)系統(tǒng)
- 數(shù)據(jù)嵌入裝置、數(shù)據(jù)嵌入方法、數(shù)據(jù)提取裝置及數(shù)據(jù)提取方法
- 數(shù)據(jù)管理裝置、數(shù)據(jù)編輯裝置、數(shù)據(jù)閱覽裝置、數(shù)據(jù)管理方法、數(shù)據(jù)編輯方法以及數(shù)據(jù)閱覽方法
- 數(shù)據(jù)發(fā)送和數(shù)據(jù)接收設(shè)備、數(shù)據(jù)發(fā)送和數(shù)據(jù)接收方法
- 數(shù)據(jù)發(fā)送裝置、數(shù)據(jù)接收裝置、數(shù)據(jù)收發(fā)系統(tǒng)、數(shù)據(jù)發(fā)送方法、數(shù)據(jù)接收方法和數(shù)據(jù)收發(fā)方法
- 數(shù)據(jù)發(fā)送方法、數(shù)據(jù)再現(xiàn)方法、數(shù)據(jù)發(fā)送裝置及數(shù)據(jù)再現(xiàn)裝置
- 數(shù)據(jù)發(fā)送方法、數(shù)據(jù)再現(xiàn)方法、數(shù)據(jù)發(fā)送裝置及數(shù)據(jù)再現(xiàn)裝置





