[發明專利]觸摸面板的制造方法和成膜裝置

有效

• 申請號: 200980122546.1
• 申請日: 2009-07-03
• 公開（公告）號: CN102066601A
• 公開（公告）日: 2011-05-18
• 發明（設計）人: 高橋明久;石橋曉
• 申請（專利權）人: 株式會社愛發科
• 主分類號: C23C14/08
• 分類號: C23C14/08;C23C14/34;G06F3/041;H01B5/14
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 陳萬青;王珍仙

1.一種觸摸面板的制造方法，為包括具有形成有透明導電膜的主面的透明基板的觸摸面板的制造方法，其特征在于，

通過在含有選自氫氣、氧氣和水蒸氣中的兩種或三種的反應性氣體氣氛中使用由氧化鋅類材料形成的靶進行濺射法，在所述透明基板的所述主面上形成所述透明導電膜。

2.一種觸摸面板的制造方法，為下述觸摸面板的制造方法，所述觸摸面板包括具有形成有透明導電膜的主面的第一透明基板和第二透明基板，對向配置有所述第一透明基板和所述第二透明基板以使所述第一透明基板的透明導電膜和所述第二透明基板的所述透明導電膜彼此對置且以規定間隔隔開，其特征在于，

通過使用由氧化鋅類材料形成的靶在含有選自氫氣、氧氣和水蒸氣中的兩種或三種的反應性氣體氣氛中進行濺射法，在所述第一透明基板和所述第二透明基板中的任意一方或兩方的基板的所述主面上形成所述透明導電膜。

3.一種觸摸面板的制造方法，為下述觸摸面板的制造方法，所述觸摸面板包括具有形成有透明導電膜的主面的第一透明基板和第二透明基板，對向配置有所述第一透明基板和所述第二透明基板以使所述第一透明基板的透明導電膜和所述第二透明基板的所述透明導電膜彼此對置且以規定間隔隔開，其特征在于，

通過使用由氧化鋅類材料形成的靶在含有選自氫氣、氧氣和水蒸氣中的兩種或三種的反應性氣體氣氛中進行濺射法，在所述第一透明基板和所述第二透明基板中的任意一方的主面上形成光學膜，

接著，在所述光學膜上形成所述透明導電膜。

4.一種觸摸面板的制造方法，為下述觸摸面板的制造方法，所述觸摸面板包括具有形成有透明導電膜的主面的第一透明基板和第二透明基板，對向配置有所述第一透明基板和所述第二透明基板以使所述第一透明基板的透明導電膜和所述第二透明基板的所述透明導電膜彼此對置且以規定間隔隔開，其特征在于，

通過使用由第一氧化鋅類材料形成的靶在含有選自氫氣、氧氣和水蒸氣中的兩種或三種的反應性氣體氣氛中進行濺射法，在所述第一透明基板和所述第二透明基板中的任意一方的主面上形成光學膜，

接著，通過使用由第二氧化鋅類材料形成的靶在含有選自氫氣、氧氣和水蒸氣中的兩種或三種的反應性氣體氣氛中進行濺射法，在所述光學膜上形成所述透明導電膜。

5.根據權利要求1至4中任何一項所述的觸摸面板的制造方法，其特征在于，

所述氫氣的分壓(P_H2)與所述氧氣的分壓(P_O2)的比R(P_H2/P_O2)滿足R＝P_H2/P_O2≥5。

6.根據權利要求1至5中任何一項所述的觸摸面板的制造方法，其特征在于，

進行所述濺射法時使用的濺射電壓為340V以下。

7.根據權利要求1至6中任何一項所述的觸摸面板的制造方法，其特征在于，

進行所述濺射法時使用的濺射電壓為直流電壓與高頻電壓疊加而得到的電壓。

8.根據權利要求1至7中任何一項所述的觸摸面板的制造方法，其特征在于，

所述靶的表面的水平磁場強度的最大值為600高斯以上。

9.根據權利要求1至8中任何一項所述的觸摸面板的制造方法，其特征在于，

所述氧化鋅類材料為添加有鋁的氧化鋅或添加有鎵的氧化鋅。

10.一種成膜裝置，為制造觸摸面板的成膜裝置，其特征在于，包括：

真空容器；

在所述真空容器內保持靶的靶保持部；和

對所述靶施加濺射電壓的電源，

所述真空容器具有氫氣導入部、氧氣導入部和水蒸氣導入部中的兩種以上。

11.根據權利要求10所述的成膜裝置，其特征在于，

所述電源并用直流電源和高頻電源。

12.根據權利要求10或11所述的成膜裝置，其特征在于，

包括設置在所述靶保持部，在所述靶的表面產生強度的最大值為600高斯以上的水平磁場的磁場產生部。