[發(fā)明專利]用于熱調(diào)節(jié)光學(xué)元件的方法和系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200980121967.2
• 申請(qǐng)日: 2009-05-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102057332A
• 公開(kāi)（公告）日: 2011-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: R·施密特茲;T·范埃姆派爾;M·姆伊特詹斯;程倫;F·詹森;W·范海爾登;R·沃思魯伊斯;P·斯加里曼;A·萊克斯蒙德;E·尼埃烏庫(kù)普;B·伯特斯;M·萊蒙;R·范德格拉夫;M·德克魯恩;H·維爾蘇伊斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;H01L21/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 王波波

1.一種用于熱調(diào)節(jié)光學(xué)元件的方法，所述方法包括步驟：

用輻射照射光學(xué)元件；

不用輻射照射所述光學(xué)元件；

在所述光學(xué)元件和保持在調(diào)節(jié)流體儲(chǔ)存器內(nèi)的調(diào)節(jié)流體之間實(shí)現(xiàn)熱流動(dòng)；和

提供所述調(diào)節(jié)流體的流體流動(dòng)，以將熱調(diào)節(jié)后的流體供給至所述儲(chǔ)存器，

其中所述流體在所述光學(xué)元件的照射期間的流量低于所述光學(xué)元件不被照射時(shí)所述流體的流量，

其中所述流體流量能夠在照射期間基本上為零。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中照射期間的流體流量和光學(xué)元件不被照射時(shí)流體的流量之間的差值是至少100ml/s。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在剛好照射之前的時(shí)刻、或剛好照射之后的時(shí)刻、或在照射之前和之后的時(shí)刻用新鮮的熱調(diào)節(jié)后的調(diào)節(jié)流體基本上補(bǔ)充儲(chǔ)存器內(nèi)的調(diào)節(jié)流體。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在照射期間不補(bǔ)充儲(chǔ)存器內(nèi)的調(diào)節(jié)流體。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括提供具有預(yù)定溫度的熱調(diào)節(jié)后的流體至儲(chǔ)存器，以將儲(chǔ)存器內(nèi)的容裝物熱調(diào)節(jié)至光學(xué)元件的最小閾值溫度以下的溫度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述光學(xué)元件是光刻設(shè)備的一部分，其中所述輻射是用于將圖案轉(zhuǎn)移至襯底的輻射束。

7.一種光刻投影方法，包括：

使用光學(xué)元件將圖案從圖案形成結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到襯底上的步驟；和

熱調(diào)節(jié)所述光學(xué)元件的步驟，所述調(diào)節(jié)步驟包括

用輻射照射光學(xué)元件的步驟；

不用輻射照射所述光學(xué)元件的步驟；

在所述光學(xué)元件和保持在調(diào)節(jié)流體儲(chǔ)存器內(nèi)的調(diào)節(jié)流體之間實(shí)現(xiàn)熱流動(dòng)；和

提供所述調(diào)節(jié)流體的流體流動(dòng)，以提供熱調(diào)節(jié)后的流體至所述儲(chǔ)存器，

其中所述流體在所述光學(xué)元件的照射期間的流量低于所述光學(xué)元件不被照射時(shí)所述流體的流量。

8.一種熱調(diào)節(jié)系統(tǒng)，構(gòu)造并布置成熱調(diào)節(jié)光學(xué)元件，所述系統(tǒng)包括

熱交換器，配置成在調(diào)節(jié)流體和所述光學(xué)元件之間實(shí)現(xiàn)熱交換，

流體流量控制器，配置成控制調(diào)節(jié)流體的流量，所述流量控制器配置成在光學(xué)元件的非照射期間將流體的流量增大為第一流量，和/或在所述光學(xué)元件的照射之前將流體的流量減小為第二流量。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，還包括

輻射源，配置成產(chǎn)生在照射期間至少部分地照射光學(xué)元件的輻射；和

控制器，配置成控制所述輻射源的操作，其中輻射源的控制器和流體流量控制器配置成基于輻射源的操作設(shè)定流體流量，其中所述流量控制器能夠配置成在照射期間將第二流體流量設(shè)定為零。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中所述熱交換器包括熱緩沖器，所述熱緩沖器包括保持在熱調(diào)節(jié)流體儲(chǔ)存器內(nèi)的流體。

11.一種光刻設(shè)備，配置成將圖案從圖案形成結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移至襯底上，所述設(shè)備包括：

投影系統(tǒng)，配置成將賦予輻射束的圖案投影到襯底的目標(biāo)部分上，所述投影系統(tǒng)包括多個(gè)光學(xué)元件；和

熱調(diào)節(jié)系統(tǒng)，配置成熱調(diào)節(jié)投影系統(tǒng)的光學(xué)元件中的至少一個(gè)，所述熱調(diào)節(jié)系統(tǒng)包括

熱交換器，配置成在調(diào)節(jié)流體和所述光學(xué)元件之間實(shí)現(xiàn)熱交換，

流量控制器，配置成控制調(diào)節(jié)流體的流量，并配置成在光學(xué)元件的空閑模式期間提供第一流量，和在所述光學(xué)元件的輻射投影模式期間提供第二流量，其中所述第二流量低于所述第一流量，

其中所述第二流量能夠是零。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備，還包括多個(gè)熱交換器，配置成在調(diào)節(jié)流體和多個(gè)光學(xué)元件之間實(shí)現(xiàn)熱交換，其中所述熱交換器相對(duì)于相應(yīng)的流體供給管道系統(tǒng)平行地布置。

13.一種光學(xué)元件，包括熱交換器，所述熱交換器配置成用基本上靜止的熱調(diào)節(jié)流體交換熱量。

14.一種熱交換器，配置成在基本上靜止的調(diào)節(jié)流體和光學(xué)元件之間實(shí)現(xiàn)熱交換。

15.一種用于熱調(diào)節(jié)光學(xué)元件的方法，所述方法包括步驟：

用輻射照射光學(xué)元件；

在所述光學(xué)元件和保持在調(diào)節(jié)流體儲(chǔ)存器內(nèi)的調(diào)節(jié)流體之間流動(dòng)熱；和

以某一流量供給熱調(diào)節(jié)后的流體至所述儲(chǔ)存器，

其中在照射期間所述流體的流量低于所述光學(xué)元件不被輻射照射時(shí)流體的流量，

其中所述流體流量在照射期間能夠大致為零。